【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、（ウエハの外縁から測定して）２ｍｍより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品（Ｗ）の縁部領域でウエハ状の物品（Ｗ）から導き出すガス排出装置（４）が周囲に設けられ、また、第２の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品（Ｗ）から除去される。 （もっと読む）

半導体ウェーハのような電子基板の表面および／または斜面からサブミクロンの微粒子を除去するための洗浄溶液および方法。前記洗浄溶液は、ポリカルボキシレートポリマーまたはエトキシル化ポリアミンを含んでなる。前記方法は、基板の表面をポリカルボキシレートポリマーまたはエトキシル化ポリアミンで構成される洗浄溶液と接触させる工程を具備する。前記方法における付加的な任意の工程は、前記洗浄溶液に音響エネルギーを適用すること、および／またはすすぎ溶液に音響エネルギーを適用して、もしくは適用せずに、すすぎ溶液で表面をすすぐことを含む。 （もっと読む）

【課題】量産部品例えば自動車用ピストン等の自動洗浄乾燥装置に関し、特に洗浄後の乾燥に圧縮空気を用い、乾燥を極短時間で可能とする自動洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】脱脂洗浄槽１１、水洗浄槽１２、純水洗浄槽１３、乾燥槽１４を直列に配置し、各処理槽に同時に部品１０を搬入搬出する５組のチャック１を横行ビーム２に設け、横行ビームを昇降ビーム３で上下動させる事により、槽間に処理ピストンを順次次工程に運搬供給する事を特徴とする自動洗浄乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】 鋼管の製造工程において冷間加工や酸洗処理の後に鋼管内面付着液体の除去効率および鋼管の玉掛け作業の安全性を図ることを可能にした鋼管内面付着液体除去用の傾斜・昇降型クレードルを提供する。
【解決手段】 鋼管の製造工程において冷間加工や酸洗処理後の鋼管を１°〜１０°の傾斜角度の設定ないし昇降可能とする鋼管内面付着液体除去用の傾斜・昇降型クレードル。また、上記鋼管の玉掛け作業時には傾斜状態から水平状態にする鋼管内面付着液体除去用の傾斜・昇降型クレードル。 （もっと読む）

トランスデューサー、それを製造するシステム及び方法は、圧電ピラーの複合物を利用する。一実施形態において、本発明は、音響エネルギーを発生させるための装置であって、圧電物質で造られる複数のピラーを含んでおり、ピラーは、隣接したピラー間に空間が存在するように離隔方式で配列されており、ピラーは、幅と、上面と底面との間で延びる高さとを有しており、ピラーの高さは、ピラーの幅よりさらに大きく、空間は、複合アセンブリーを形成するように弾性物質で満たされている。
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【課題】比較的長期間使用することができるとともに、超音波照射器が洗浄液に超音波を照射した際に一時的に低下したガスの溶存濃度を早急に超音波照射前のガスの溶存濃度まで回復させることができ、洗浄液に浸漬された被処理基板を安定して洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置１０は、洗浄液を貯留する洗浄槽１２と、洗浄槽１２内に貯留された洗浄液に超音波を照射する超音波照射器３０と、を備えている。また、洗浄槽１２内には、当該洗浄槽１２内に貯留された洗浄液にガスを供給することによりこの洗浄液に気泡を発生させる気泡発生器６１が設けられている。気泡発生器６１は、表面が親水化処理された樹脂部材から構成されている。 （もっと読む）

【課題】汚れを完全に除去できると共に、箸が変質することなく確実に滅菌でき、さらには箸の握り部分を揃えて包装することができる、箸の再生方法を提供する。
【解決手段】使用済みの箸を洗浄する洗浄工程と、箸の頭を揃える箸揃え工程と、箸を消毒する滅菌工程と、箸を乾燥させる乾燥工程と、箸を１膳毎に個別に包装する包装工程とを含み、箸揃え工程では、箸の頭部と先端部とで異なる重量を利用して揃え、滅菌工程にはオゾン水を適用する。乾燥工程にはエアで水滴を拭き落とした後に温風で乾燥する。 （もっと読む）

【課題】ウェハーシッピングボックスの洗浄工程が終了した後、トレーを上昇するときに発生する負荷を減らし、乾燥工程を行うときの２次汚染の発生を防止する構造を持つボックスクリーナーを提供すること。
【解決手段】本発明によるボックスクリーナーは、純水が満たされる収容空間が設けられて下部には超音波発生機が配置された超音波洗浄槽と、ウェハーシッピングボックスが積載されるトレーと、前記トレーを前記超音波洗浄槽の内部に投入または搬出させるための駆動力を提供する昇降機構と、洗浄工程が完了した後、前記シッピングボックスを乾燥する乾燥装置を含むボックスクリーナーにおいて、前記超音波洗浄槽の一側には、洗浄工程が完了したときに前記シッピングボックスの内部に気体を噴射して前記シッピングボックス内部の純水を押し出すことで排水する気体噴射部が備えられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の両面を洗浄するに際して、加工時間を短くすることができるとともに、工程欠陥が少なく、有効に基板洗浄を行うことが可能な枚葉式洗浄装置を提供すること。
【解決手段】それぞれに注入口１１Ａ及び放出口１１Ｂを備えた複数の搬送通路１１が内部に形成された注入軸１０を固定台１７上に立設し、該注入軸１０の上部に前記放出口１１Ｂのそれぞれに連通する配置で下部ノズル１４を装備し、前記注入軸１０の外周側に、前記注入軸１０に対して回動自在にして、モーター２を有する中空軸３を配置し、少なくとも前記中空軸３の回転数を制御可能な制御手段７を前記中空軸３に連結し、前記中空軸３の上方に、基板を装着可能な基板チャック４を連結し、前記基板チャック４の上方に上部ノズル８を配置した、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ストレーナに装着された円筒型のフィルタの目詰まりを解消するために、ストレーナからフィルタを取り外して洗浄する際に、簡単な構造でフィルタを回転させることができて、洗浄水のフィルタに対する噴射位置を確実に変更して短時間で洗浄できるフィルタの洗浄装置を提供する。
【解決手段】 フィルタ５を遊嵌させる主洗浄管３の長手方向に沿った多数のノズル3aから噴射される洗浄水W₃の噴射方向を鉛直上向きとし、副洗浄管４の長手方向に沿った多数のノズル4aから噴射される洗浄水W₄の噴射方向と鉛直下向きとするとともに、主洗浄管３の中心を通らない方向とする。主洗浄管３にフィルタ５を遊嵌させ、ノズル3a、4aから洗浄水W₃、W₄を噴射すると、洗浄水W₃によりフィルタ５が主洗浄管３から浮き上がり、洗浄水W₄によりフィルタ５が回転させられて、洗浄される。 （もっと読む）

【課題】フッ化水素（ＨＦ）を用いた表面処理における安全性を向上させる。
【解決手段】貯留容器１０に無水または含水の液体フッ化水素１１を貯留する。吸込加圧手段２０によって、容器１０内を大気圧以下または前記被処理物の配置環境の圧力以下にし、気化したＨＦガスを吸い込んで加圧し、被処理物Ｗへ供給して表面処理を行なう。氷を蓄熱剤３２とする温調手段３０によって、貯留容器１０内をＨＦの大気圧下での沸点（約２０℃）より低温に保つ。 （もっと読む）

【課題】コスト高および寸法増加を招くことなく、ボウルの搬入、搬出を簡単に行うことができ、ボウル内周面を効率良く洗浄可能なボウル洗浄装置を提案すること。
【解決手段】パン生地などの混練り等に用いられるボウル１００を洗浄するためのボウル洗浄装置１では、開放型の洗浄槽３の中心に配置した垂直ノズル管１２の先端には垂直ノズル１３が形成され、この下側近傍には、ボウル開口縁側の内周面部分に洗浄液を吹き付ける内側ノズル１３が放射状に形成されている。旋回式のＬ型アーム３１、３２によって上向き状態で受け取ったボウル１００を反転させて下向き状態で洗浄槽３の真上に保持し、垂直ノズル１３から上方に垂直に噴射する洗浄液をボウル１００の円形底面に吹き付ける。洗浄液は全周に広がりながらボウル内周面に沿って流れ、当該内周面の汚れを落とす。ボウル開口縁側の内周面部分は内側ノズル１３から噴射される洗浄液によって洗浄される。 （もっと読む）

【課題】発塵防止性に優れた基板の洗浄装置の提供を目的とする。
【手段】本発明はドーナツ円盤状の基板を洗浄する装置であり、噴出装置とチャック装置を具備し、チャック装置が基板孔部の内側に挿通される支持ロッドを複数本備えたスピンドルチャックと、該スピンドルチャックを回転駆動する水力回転機構とを具備してなり、前記スピンドルチャックが、支持ロッドを移動自在に支持する駆動機構を複数備えた支持ベースと、回転軸とを具備し、前記水力回転機構が、回転軸を取り囲むととともに駆動流体の流通路を内部に備えたシャーシ部材と、該シャーシ部材内の流通路に望んで設けられた水車部材と、駆動流体の供給路および排出路を備えてなる。 （もっと読む）

プレート状物体を保持、回転させるスピンチャックと、該プレート状物体の該スピンチャックに面する側に非回転流体ノズルを通して流体を導く流体供給手段と、を具備するプレート状物体のウェット処理用の装置が開示されるが、該スピンチャックは該プレート状物体を該プレート状物体のエッジで保持する手段と、該プレート状物体のスピンチャックに面する側に向かうようガスを導くガス供給手段と、を備えており、該ガス供給手段は該プレート状物体と該スピンチャックの間にガスクッションを提供するために該スピンチャックと共に回転するガスノズルを有している。 （もっと読む）

【課題】スプレーした処理液が外部へ漏れ出したり、次槽へ持ち出されたり、前槽から持ち込まれたりすることなく、液切り及び処理液の回収を効率良くできる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送機構（４５１，４５２，４５３）により処理槽（４１ａ）内に搬送された被処理基板（Ｋ）に処理液（Ｗ）をスプレーすることで被処理基板（Ｋ）の表面に所定の処理を行うスプレー処理装置であって、処理槽（４１ａ）内を主処理室（Ｒ３）と下流液止め室（Ｒ２）とに区分けすると共に被処理基板（Ｋ）の表面との間に下流微少間隙（Ｄ２）を形成するように立設した下流邪魔板（４６２）と、主処理室（Ｒ３）に配設され被処理基板（Ｋ）の表面に向けて処理液をスプレーする主スプレー機構（４７３）と、下流液止め室（Ｒ２）に配設され下流微少間隙（Ｄ２）の斜め上方から下流微少間隙（Ｄ２）に向けて処理液をスプレーする下流スプレー機構（４７２）とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板端部の洗浄を行なうことによって、基板端部で生じた異物に起因する汚染発生を防止し、歩留まり低下を抑制することのできる基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの端部Ｗ１を洗浄する基板洗浄装置１Ａ、１Ｂであって、前記基板Ｗを略水平姿勢に保持し、該基板Ｗを鉛直軸周りに回転自在な基板保持手段２と、前記基板保持手段２により保持され、所定の回転速度で回転する基板Ｗの端部Ｗ１に洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段７とを備え、前記洗浄液噴射手段７は、前記洗浄液を前記基板Ｗの端部Ｗ１に対し側方から噴射する。 （もっと読む）

【課題】塗装用冶具等の被処理体に付着している塗料を、効率的かつ安全に除去できるようにする。
【解決手段】被処理体２の処理が行われる処理室Ｓと、処理室Ｓ内の被処理体２に対して洗浄液を供給する洗浄液供給機構１８とを備えた。洗浄液は、植物性洗剤、又は、植物性洗剤を希釈させた溶液とした。洗浄液供給機構１８には、洗浄液を貯留するタンク５１と、タンク５１内の洗浄液を加熱するヒータ５５と、洗浄液を処理室Ｓにおいてシャワー状に吐出するノズル５３と、タンク５１内の洗浄液をノズル５３に送液するポンプ６２とを備えた。また、処理室Ｓ内の洗浄液を排液する排液口２３を設け、排液口２３を通じて排液された洗浄液をタンク５１に戻して貯留する構成とした。 （もっと読む）

【課題】製品の洗浄及び乾燥工程において真空ポンプ装置を効率よく活用することでイニシャルコスト及びエネルギーコストを抑制することが可能な洗浄及び乾燥システムを提供すること。
【解決手段】主ステーション１１における洗浄工程ではまずシャワー装置１６によって製品を洗浄し、同じ主ステーション１１において第１の乾燥工程としてエアーブロー装置１５によるブロー処理で製品表面の水分を除去する。更に、水分はブロー処理では完全には除去しきれないため第２の乾燥工程を実行する真空ケース１２内で脱気して残余の水分を蒸発させる。この際に真空ポンプ装置２０を稼働させて吸引した空気に応じた排気を排気導出管２３から吐出させ、その排気をエアーブロー装置１５のブロー源とする。これによって真空ポンプ装置２０を効率よく活用することができる。 （もっと読む）

【課題】小型化したり、装置構造を簡略化したり、さらには、パレットを短時間で、十分に洗浄することが可能なパレット洗浄装置およびパレット洗浄方法を提供する。
【解決手段】半田付け処理に用いた後、フラックス残渣が付着したパレットを洗浄するためのパレット洗浄装置等であって、パレットを、概ね矩形状の密閉ハウジング内で、重力方向に対して、所定方向に立設した状態、あるいは、重力方向に垂下した状態で載置するための架台と、パレットに対して、上方かつ片面側から洗浄剤を吹き付けるためのノズルと、パレットを洗浄した後の洗浄剤を、貯蔵タンクを介して、循環させるための洗浄剤循環装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】純水洗浄の省略が許容される被洗浄物を洗浄する装置において、洗浄時間が長くなるのを防止しつつ洗浄液の長寿命化を図る。
【解決手段】外側容器１４と、外側容器１４内に配設され、洗浄液が貯溜されるとともに被洗浄物Ｗを出し入れ可能な開口部が設けられた内側容器３８と、被洗浄物Ｗに付着した洗浄液が蒸発する程度に外側容器１４の内部を減圧させるための減圧手段２０と、洗浄液を浄化するためのフィルタ５８と、内側容器３８の開口部を気密状に塞ぐための蓋５２と、を備えている。 （もっと読む）