【課題】本発明は、洗浄効果を低下させることなく、電解洗浄液の寿命を長く維持することができる電解洗浄装置及び電解洗浄方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係る電解洗浄装置１及び電解洗浄方法は、陽極１０と洗浄対象物Ｍを保持する陰極２０とを電解洗浄液中に浸漬し、陽極１０及び陰極２０間に電流を流して洗浄対象物を電解洗浄する電解洗浄装置１及び電解洗浄方法であって、前記陽極１０は、陰極２０に対して異なる通電量で通電可能な複数の陽極部１１，１１を備え、前記複数の陽極部１１，１１のうち一部の陽極部１１Ａにおける前記陰極２０との通電量が、他の陽極部１１Ｂにおける前記陰極２０との通電量に比べて多い状態と少ない状態とで交互に切り替わるように制御する。 （もっと読む）

【課題】洗浄効果を向上させることができる電解洗浄装置及び電解洗浄方法を提供する。
【解決手段】電解洗浄装置１及び電解洗浄方法は、陽極１０と洗浄対象物Ｍを保持する陰極２０とを電解洗浄液中に浸漬し、陽極１０及び陰極２０間に通電して洗浄対象物を電解洗浄する電解洗浄装置１及び電解洗浄方法であって、前記陽極１０は、陰極２０に対する通電量を変更可能な陽極１０を備え、前記陽極１０と前記陰極２０との通電量が時間的に変化するように制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に処理液を供給し基板を鉛直軸回りに回転させて基板を処理する際に、基板を加熱することなく基板上の処理液を加熱して、処理液の温度を基板面内で均一に保ち、基板面内における処理品質の均一性を向上させることができる方法を提供する。
【解決手段】基板保持部１２に水平姿勢に保持されて鉛直軸回りに回転するシリコン基板Ｗの上面へ給液ノズル１６から水溶液の処理液を供給して基板を処理する際に、ハロゲンランプ１８からシリコン基板Ｗの下面側へ波長が１．２μｍ〜５．０μｍの範囲である赤外線を照射する。シリコン基板Ｗを透過した赤外線は、基板上面の処理液に吸収されて、処理液の温度が上昇する。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式で基板を薬液処理した後にリンス処理し乾燥処理する場合に、スループットおよびメンテナンス性を向上させることができるシステムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを１枚ずつ薬液およびリンス液で処理する薬液処理部３８およびリンス処理部４０を連接して処理ユニット１４ａ〜１４ｃを構成し、１つの装置ベース上に複数の処理ユニット、基板搬送部２２および乾燥ユニット１６を設ける。処理ユニット１４ａ〜１４ｃにおいて基板Ｗを薬液処理部３８で薬液処理した後にリンス処理部４０でリンス処理する一連の処理を処理単位とし、１枚の基板に対し一連の処理を複数回行うときは、１つの処理ユニットから別の処理ユニットへ基板を順次搬送して、処理ユニットの設置数に対応する回数以内で適宜必要とする回数だけ処理単位を繰り返してから、基板を乾燥ユニット１６へ搬送して乾燥処理する （もっと読む）

【課題】パターンが微細化しても、パターンは破壊されずに異物を十分に除去することのできるフォトマスクの物理洗浄の方法を提供する。
【解決手段】１）密閉可能な洗浄チャンバー１０内の上部に空間Ｋを残して充填された薬液又は純水６０中にフォトマスク５０が浸漬された状態で洗浄チャンバーを密閉し、２）前記空間にＮ₂ ガスを供給して洗浄チャンバー内を高圧にした後に、３）該洗浄チャンバー内の高圧の薬液又は純水を、瞬時に洗浄チャンバーから排出し、高圧から常圧への瞬時の圧力差によってフォトマスクの異物を離脱させ除去する。 （もっと読む）

【課題】一度しか使用されていない網が、使用後、廃棄されているという現状と、資源の低消費（reduce）、再使用（reuse）、リサイクル（recycle）（低消費（reduce）、再使用（reuse）、リサイクル（recycle）の頭文字のＲを用いて３Ｒとも呼ばれている）が叫ばれている社会的ニーズに鑑みて、使用済みの網に付着した付着物を完全に除去することができ、かつ短時間に大量に網を洗浄し得るような洗浄装置を案出すること。
【解決手段】本発明の網洗浄装置は、網を洗浄し、網への付着物を除去するための洗浄装置であって、該洗浄装置が洗浄すべき網が通過する１または２以上の通路と、該通路に設けられた切欠き部から網に圧水を噴射する１または２以上の高圧ノズルとからなり、前記通路が入口から出口にかけて漸次高くなる勾配が形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな装置で効率良く棒状部材の洗浄を行うことができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】内部にワーク１を収容可能な収容部５を有するケース１０ａ，１１Ａと、収容部５への洗浄液の給排を行う洗浄液給排装置２Ａとを備え、ケース１０ａ，１１Ａは、収容部５へのワーク１の出し入れを行うことができるよう開閉可能に分割して構成され、ワーク１は、収容部５内へ供給されて排出される洗浄液によって洗浄されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄対象のエリアのみ洗浄することによって、被洗浄物を洗浄及び乾燥する際の該被洗浄物への異物の付着を抑制する洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法、及び物品の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置内の洗浄槽２が備える超音波発生手段２１が、供給口２００から洗浄槽２に供給された洗浄流体に超音波を印加し、被洗浄物１の洗浄エリア１１と対応する位置に開口部２２０を持つ流体噴出手段２２が、上記超音波が印加された洗浄流体を上記開口部２２０から被洗浄物１の洗浄エリアに噴出させる。 （もっと読む）

【課題】設備を簡素化して洗浄水量を低減しながらも、粗大物等が混入した粉粒状の処理対象物から粗大物等を分離除去し、同時に粉粒体を分級して、水溶性成分や重金属等の障害物質を効率的に除去することができる湿式選別装置を提供する。
【解決手段】脈動発生装置３０を備えたＵ字管形状の洗浄槽２０と、開口部２０ａにフィーダ２４から投入された粉粒状の処理対象物に含まれる粗大物を洗浄して、重量物を分離搬出する網目状の搬送面を備えたコンベア装置２２と、上層の洗浄水を粗大物のうち軽量物とともに重量物の搬出方向と対向する方向に排水する溢流堰２６と、洗浄槽２０に沈降した処理対象物を槽外に搬出するバケット式のコンベア装置２９を備え、処理対象物を、洗浄槽２０内での沈降速度差によって微粒物と微粒物より粒径が大きい中粒物とに分離し、微粒物を上層の洗浄水とともに溢流堰２６から搬出し、中粒物を洗浄槽２０に沈降させる。 （もっと読む）

【課題】圧電振動子から発せられた超音波のエネルギーが、放射面内の特定位置で集束することなく均一に放射させることができ、音圧も均一にすることのできる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、被洗浄物を保持する保持機構と、該保持機構に保持された被洗浄物に圧電振動子の振動を超音波伝播体によって伝播させて超音波洗浄する洗浄機構と、該洗浄機構と前記被洗浄物の間に洗浄液を供給する洗浄液供給機構と、前記洗浄機構の圧電振動子に高周波電圧を印加する超音波発振器とを有する超音波洗浄装置において、前記洗浄機構の超音波伝播体は、底面が上面より面積が大きい錐台形状であり、前記上面側に前記圧電振動子が設けられたものであることを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】基板の主面に対して均一なエッチング処理を施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、スピンチャック４に保持されたウエハＷの上面にフッ硝酸を供給するためのフッ硝酸ノズル５と、スピンチャック４に保持されたウエハＷ上面の周縁部に向けてＤＩＷを供給するためのＤＩＷノズル７とを備えている。エッチング処理時には、フッ硝酸ノズル５からフッ硝酸が吐出されつつ、フッ硝酸ノズル５が往復移動される。フッ硝酸ノズル５からのフッ硝酸の吐出と同時に、ウエハＷ上面の周縁部に、フッ硝酸を希釈するためのＤＩＷが吐出される。 （もっと読む）

【課題】炭化水素系溶剤及びフッ素系溶剤を所望する洗浄力に保つとともに、該各溶剤を被洗浄物の洗浄処理に繰り返し使用することができる２液式洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】浸漬槽３に貯液された炭化水素系溶剤Ｂを冷却して、炭化水素系溶剤Ｂに含まれるフッ素系溶剤Ｃを比重差により上下分離するとともに、その比重分離されたフッ素系溶剤Ｃを該フッ素系溶剤Ｃに含まれる炭化水素系溶剤Ｂから蒸発気化される温度に加熱して分離する。フッ素系溶剤Ｃが分離された炭化水素系溶剤Ｂは浸漬槽３へ返還する。炭化水素系溶剤Ｂが分離されたフッ素系溶剤Ｃの蒸気Ｃａは凝縮液化して水分離槽９に滴下し、水分離槽９に貯液されたフッ素系溶剤Ｃは蒸気発生槽５へ返還する。 （もっと読む）

処理システムが、基板の底面を露出させるように、それぞれが基板を支持するように構成された複数のチャックと、連続的な経路に沿って複数のチャックを案内するように構成されたトラックと、トラックがそれぞれのチャックを処理装置上で案内するとき、各基板の底面を処理するように構成され、トラックがそれぞれのチャックを処理装置上で案内するとき、各基板の底面に接触するように配置された流体メニスカスを含む処理装置とを含む。
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【課題】超音波振動によりフィルターを洗浄する際に、フィルターの内部の気泡を減少させることで、フィルターの内部の異物を除去することができるフィルター洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄液２が貯留される貯留部１ｂを有した洗浄槽１と、洗浄槽１に設けられ、洗浄槽１の内部の気圧を低減させる減圧手段４と、洗浄槽１に設けられ、洗浄される洗浄槽１内のフィルター５に向かって洗浄液２を噴射する洗浄液噴射手段６と、洗浄槽１に設けられ、洗浄液２に超音波を照射する超音波発生手段３とを備えたフィルター洗浄装置において、洗浄液噴射手段６は、複数種類の直径の液流または液滴の洗浄液２を噴射する。 （もっと読む）

【課題】内部に形成された狭隘部を洗浄対象部位に含む被洗浄ワークを対象として、十分な洗浄性能を確保することが可能な洗浄方法および洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被洗浄ワークであるノズル部品５を加熱して少なくとも洗浄対象部位であるニードル孔５ｇの被洗浄面である内表面５ｊの表面温度を洗浄液１１についてライデンフロスト現象が発生する温度に保持しながら、ニードル孔５ｇ内に洗浄液１１を供給し、内表面５ｊに洗浄液１１が蒸気層１１ｂを介して液滴１１ａの状態で接触して流動するライデンフロスト現象を発生させ、液滴１１ａが内表面５ｊに沿って流動することによって異物３２を捕集し、異物３２を液滴１１ａと共にニードル孔５ｇから排出させる。 （もっと読む）

本発明は、スタッキング方向に沿ってスタックの状態で配置される個々のウェーハ又は基板の表面洗浄のための装置及び方法であり、スタッキング方向に垂直な方向にスタックに向けて液体噴射が放出され、かつスタッキング方向におけるウェーハスタック及びノズル間の相対移動が可能である。
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【課題】処理液バルブのリーク故障や吸引手段の故障を検出して、基板処理不良を抑制する。
【解決手段】この基板処理装置は、基板Ｗに処理液を吐出するノズル１２と、ノズル１２に接続された処理液供給管２５と、処理液供給管２５に介装された第１および第２処理液バルブ２８Ａ，２８Ｂとを備えている。第１処理液バルブ２８Ａとノズル１２との間に設定された分岐位置３６には、処理液吸引管３２が処理液供給管２５に分岐接続されている。処理液吸引管３２には吸引装置３４が接続されており、その途中部には吸引バルブ３３が介装されている。処理液供給管２５は、分岐位置３６とノズル１２との間において、鉛直方向に沿う液面検出部４０を有している。この液面検出部４０に設定された液面検出位置４２には、液面センサ４１が配置されている。 （もっと読む）

【課題】電池缶表面の錆の発生を確実かつ容易に抑制することが可能な電池缶の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の電池缶の製造方法は、鋼板を製缶加工して、筒状側部と底部と開口部とを有する電池缶を得る工程（１）と、電池缶を市水または工業用水で洗浄する工程（２）と、工程（２）の後、電池缶を導電率８０μＳ／ｃｍ以下の水で洗浄する工程（３）と、工程（３）の後、電池缶を乾燥させる工程（４）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、（ウエハの外縁から測定して）２ｍｍより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品（Ｗ）の縁部領域でウエハ状の物品（Ｗ）から導き出すガス排出装置（４）が周囲に設けられ、また、第２の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品（Ｗ）から除去される。 （もっと読む）

【課題】異物の除去率を向上させることができるシリンダヘッド洗浄方法を提供すること。
【解決手段】流路を狭くする狭小空間部Ｚと、狭小空間部Ｚより流路を広くする大空間部Ｙとを含むウォータジャケット１５が内部に形成され、ウォータジャケット１５に連通する複数の孔部１２Ａ〜１２Ｒ，１３，１４，１６Ａ〜１６Ｃが設けられたシリンダヘッド１を洗浄するシリンダヘッド洗浄方法において、複数の孔部１２Ａ〜１２Ｒ，１３，１４，１６Ａ〜１６Ｃのうち選択した孔部１６Ａ，１６Ｃからウォータジャケット１５内に洗浄ノズル２８Ａ，２８Ｃを挿入し、洗浄ノズル２８Ａ，２８Ｃから狭小空間部Ｚへ向けて洗浄液を噴出し、狭小空間部Ｚから大空間部Ｙへ流れた洗浄液を、大空間部Ｙに連通する孔部１６Ｂからシリンダヘッド１の外部へ排出する。 （もっと読む）