【課題】簡易な構造で洗浄剤を循環させて再使用することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄剤を貯留するタンク１０と、洗浄剤を被洗浄物１８に向けて噴射するノズル１３と、タンク１０からノズル１３へ洗浄剤を圧縮して吐出するポンプ１１と、ポンプ１１により高圧となった洗浄剤を加熱する加熱器１２と、ノズル１３から噴射されて蒸気となった洗浄剤を冷却して液化させる冷却器１４とを備える。そして、洗浄剤は、油成分を分離する疎油性洗浄剤を用い、タンク１０は、タンク１０内に貯留する洗浄剤から油成分を排出する排出口１７を備える。これによれば、洗浄剤がタンク１０に貯留されると、タンク１０に貯留された洗浄剤中の上層部に油成分が浮上するので、排出口１７にて浮上した油成分をタンク１０から容易に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】２流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として３０％圧縮応力が２０〜１００ｋＰａ、２０ｋＰａにおける圧縮弾性率が５０〜２００ｋＰａであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 （もっと読む）

【課題】円筒型フィルタを手で支えた状態でホースを使ってそれに水を吹き付けることによって円筒型フィルタの洗浄がなされていたが、このような洗浄方法では作業効率が悪い。円筒型フィルタの洗浄作業の効率を向上手段を提供する。
【解決手段】円筒型フィルタ１０を洗浄する洗浄装置１００は、円筒型フィルタ１０の端部を保持し円筒型フィルタ１０を宙吊り状態で支持する宙吊り部材２０と、円筒型フィルタ１０がその軸を中心として回転することができるように宙吊り部材２０を支持する支持部材３０と、円筒型フィルタ１０が回転するように円筒型フィルタに洗浄液を吹き付けるノズル６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】内部に形成された狭隘部を洗浄対象部位に含む被洗浄ワークを対象として、十分な洗浄性能を確保することが可能な洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】ライデンフロスト現象の作用により被洗浄面に付着した異物を除去する異物除去工程を、洗浄液を噴射インターバルＴ２毎に噴射継続時間Ｔ１だけ複数回噴射して供給する洗浄液間歇噴射工程と、被洗浄面に形成された蒸気層を介して洗浄液が被洗浄面に沿って液滴の状態で流動する状態を発生させる液滴流動状態形成工程と、被洗浄面に付着した異物を液滴によって捕集する異物捕集工程と、異物を捕集した液滴を洗浄液が気化した蒸気の流れによって移動させることにより洗浄対象部位から排除する液滴移動工程とで構成し、洗浄液間歇噴射工程において、先行して供給された洗浄液についての流動状態形成工程、異物捕集工程および液滴移動工程が完了した後に、後続して供給される洗浄液を噴射する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理を良好に行うことができる基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを格納した記憶媒体を提供すること。
【解決手段】本発明では、基板(2)を処理液(23)で処理する処理槽(24)と、処理槽(24)に第１の薬液(21)を供給する第１薬液供給機構(25)と、第１の薬液(21)と反応して処理液(23)を生成する第２の薬液(22)を処理槽(24)に供給する第２薬液供給機構(26)と、処理槽(24)に接続した循環流路(45)を用いて処理液(23)を循環させる処理液循環機構(27)と、第１及び第２の薬液の処理槽への供給を制御する制御部とを備え、所定の循環流量で処理液を循環させて基板(2)を処理する基板処理装置(1)を用い、第２の薬液(22)の供給を開始するとともに第２の薬液(22)の供給開始に基づいて循環流量を変化させることにした。 （もっと読む）

【課題】装置全体の小型化に寄与するとともに、高さの異なるコンテナを混在して洗浄する場合であってもコンテナを適正な力で押さえることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】装置本体４内に配置された被洗浄物の載置台２４と、載置台２４を水平方向に回転させる回転駆動手段２６と、外力が加えられることにより、装置本体４の操作用開口１０を閉塞あるいは開放のいずれかの位置に移動する扉体１６と、を備えた洗浄装置であって、扉体１６の天井部裏面に、扉体１６の移動とともに上下方向に移動し、その扉体１６が上方位置から下方位置に移動する第１の移動を行なうときに、載置台２４に配置されたコンテナ１７の上面に押さえ部材３２が当接し、扉体１６が下方位置から上方位置に移動する第２の移動を行なうときに、載置台２４に配置されたコンテナ１７の上面に対する押さえ部材３２の当接を解除する押さえ手段３０と、が具備されていることを特徴としててる。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな構成ながら、洗浄ムラや乾燥ムラを有効に抑制できる洗浄装置、乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】シャッター１３により開口１１，１２を遮蔽した後、バルブＶ１を開放すると、チャック２０に固定された部品Ｗ（ここでは洗浄物）に対して、細孔３１ｅ、３１ｆと細孔３１ｇ、３１ｈを介して、液体供給源ＷＰから供給された温水が連続的に噴射される。又、バルブＶ２を周期的に開閉することで、細孔３１ｉ、３１ｊと細孔３１ｋ、３１ｍを介して、空気圧源ＡＰから供給された空気が間欠的に噴射される。これにより、空気と温水とが混じり合った状態で、部品Ｗの表面が洗浄されるので高い洗浄効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬して、洗浄槽内の減圧と復圧とにより被洗浄物の洗浄を図る洗浄方法において、被洗浄物が管状部を有していても、その管状部内の洗浄を効果的に図る。
【解決手段】被洗浄物４は、管状部３の一端に洗浄補助具１を設けて、洗浄を図られる。洗浄補助具１は、洗浄槽８内の減圧時に洗浄液の沸騰による蒸気を溜める一方、洗浄槽８内の復圧時に前記蒸気の凝縮により、管状部３を介して洗浄液の流入を受ける。洗浄槽８内の減圧と復圧とにより、被洗浄物４の管状部３に洗浄液が流通するので、被洗浄物４の管状部３内は効果的に洗浄される。 （もっと読む）

【課題】噴射する液滴の粒径を一層均一に微小化することにより、基板上に形成された微細素子へのダメージを防止し、微小異物の洗浄が可能となる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】被洗浄基板８０が載置される基板載置部７０と、微小液滴を生成、加速する気体を供給する気体供給部５０と、微小気泡を発生して微小気泡含有液を生成する微小気泡含有液生成部６０と、微小液滴を噴射する２流体ノズル１とを有する。 （もっと読む）

【課題】簡単な装置構成で実施可能であり、微細パターンが形成されている基板をその微細パターンに悪影響を与えることなく短時間で洗浄するための基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】微細パターンが表面に形成された基板としてのウエハＷの洗浄処理を、ウエハＷの表面に所定の加工を施す処理チャンバからウエハＷの洗浄を行う洗浄チャンバへ搬送する搬送ステップと、洗浄チャンバ内においてウエハＷを所定温度に冷却する冷却ステップと、超流動体としての超流動ヘリウムをウエハＷの表面に供給し、ウエハＷの表面から超流動ヘリウムを流し出すことによって微細パターン内の汚染成分を押し流す超流動洗浄ステップにより行う。 （もっと読む）

【課題】炊飯釜を適切に洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、凹状部20を有する回動可能な炊飯釜支持体21と、炊飯釜支持体21を回動させる支持体回動手段22とを備える。凹状部20には、凹状部20の凹部分内への取手部６の挿入を許容する許容状態および凹状部20の凹部分内から取手部６が抜け出るのを規制する規制状態になる抜止め体26を回動自在に設ける。洗浄装置１は、抜止め体26にて取手部６が凹部分内から抜け出ない状態の下向き姿勢の炊飯釜２内に向けて洗浄液を噴射する洗浄手段を備える。 （もっと読む）

【課題】被洗浄体が、例えば、孔または溝等、複雑な形状の凹凸部を有した場合であっても、凹凸部に付着した異物を被洗浄体から除去することができる洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄水１の中で、異物が付着した被洗浄体４に向かってマイクロバブル６を噴射して異物に吸着させ、異物を被洗浄体４から分離させ、マイクロバブル６が洗浄水１の水面に向かって浮上するのに伴って異物を浮上させて、被洗浄体４を洗浄する洗浄装置であって、洗浄水１を貯留する洗浄槽２と、マイクロバブル６を噴射するマイクロバブル噴射器３と、被洗浄体４を保持するハンド部５ｃを有しているととともに、被洗浄体４を移動させるロボットアーム５と備え、ロボットアーム５は、被洗浄体４を移動させて、被洗浄体４とマイクロバブル噴射器３との相対位置を変えながら、マイクロバブル６を被洗浄体４に衝突させる。 （もっと読む）

【課題】積層した各部品を確実に洗浄、乾燥する積層部品の洗浄および乾燥用装置を提供する。
【解決手段】パレット２に立設した円筒状部材３の側面５に切り欠き部6ａ1,6a1,6ｂ1,6b2を形成し、該切り欠き部に第１、第２の部品受け部材７、８を設ける。第１の部品受け部材７は、球体９を側面５外に配置させ、軸１３を中心に回転可能に設けられている。１つ目の部品が円筒状部材３に遊嵌されると、該部品に押されて第１の部品受け部材７が反時計回りに回転する。これにより球体９が該部品とパレット２間に配置され、該部品を点で受ける。第１、第２の部品受け部材７、８は互いに連結部材１１によって連結されており、第１の部品受け部材７の回転に伴い、円筒状部材３内に配設されている球体８が、連結部材１１に押されて側面５外に突出する。これにより２つ目の部品が円筒状部材３に遊嵌されると、第２の部品受け部材（球体）８が該部品を点で受ける。 （もっと読む）

【課題】付着物をより確実に除去することが可能なシリンダーの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】表面に電子写真感光体用の堆積膜を形成することが可能なシリンダーを洗浄する方法であって、シリンダー１０１の長軸の周りでシリンダー１０１を回転させながら、洗浄液を、シリンダー１０１の長軸方向の全長ｈに等しい長さのスリット形状の噴射位置から長軸と垂直にかつシリンダー１０１の表面の接線方向に向けて噴射する。 （もっと読む）

【課題】物質、そして好ましくはホトレジスト、を支持体から除去する。
【解決手段】３つのオリフィスノズルからの液体のスプレーの方向を変える。ａ）ｉ）十分な圧力下で液体源から液体を供給され、そこから液体の流れを噴出する第１オリフィス１２４；ii）ガス源からガスを制御された圧力で供給されてガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第１ガスオリフィス１３０；iii）第２ガス源から第２ガスを制御された圧力で供給されてガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第２ガスオリフィス１４０、を有するノズルを装備し；そしてｂ）中央オリフィス１２４からの液体の流れに方向を付与するように第１ガスオリフィス１３０及び第２ガスオリフィス１４０の少なくとも１つのガス流の流れを修正することにより、ノズル１２２からの液体のスプレー方向を調節する。 （もっと読む）

【解決手段】 パレット洗浄システム２は、水平状態のパレット１を起立状態とする起立部Ｃと、パレットに洗浄液を噴射する洗浄部Ｄと、パレットに付着した洗浄液を脱水する脱水部Ｅと、パレットを乾燥させる乾燥部Ｆとを備えている。
このうち、上記乾燥部Ｆは、乾燥手段１９を備えた乾燥室２０と、複数の起立状態のパレットを所定間隔で保持して、該パレットを載置面に直交する方向に搬送する主コンベヤ（第７コンベヤ２２）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤにパレットを供給する供給コンベヤ（第６コンベヤ２１）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤからパレットを排出する排出コンベヤ（第８コンベヤ２３）とを備えている。
【効果】 パレットの洗浄から乾燥までを効率的に行うとともに設置面積を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄の効率を向上させることができる洗浄装置およびこの洗浄装置を用いた洗浄方法を得る。
【解決手段】微細気泡４同士の合一を抑制する添加剤が添加された洗浄水１を貯留するとともに、内側に被洗浄物２が挿入されて、被洗浄物２が洗浄水１に浸漬される洗浄槽３と、洗浄槽３内の洗浄水１に微細気泡４を噴射し、被洗浄物２を洗浄する第１の気泡噴射手段５と、洗浄槽３内の洗浄水１に超音波を照射し、被洗浄物２を洗浄する超音波照射手段６とを備え、第１の気泡噴射手段５は、微細気泡４を生成する気泡生成器７を有し、超音波照射手段６は、超音波を放射する超音波振動子１１を有した洗浄装置において、微細気泡４が超音波振動子１１に向かって移動することを抑制する気泡移動抑制手段１７を備えている。 （もっと読む）

【課題】配管を介して供給される冷却流体によって基板を処理する基板処理装置において、低い温度に保たれた冷却流体を安定的に基板に供給する。
【解決手段】二重配管７１により冷却ガスが処理チャンバ１内の冷却ガス吐出ノズル３に供給される。二重配管７１は円環プレート８１に保持され、さらに円環プレート８１がベローズ８２により処理チャンバ１に対して移動自在に連結されている。このため、二重配管７１のうち処理チャンバ１内でノズル３と接続された冷却ガス供給管部７１Ｂは、冷却ガス吐出ノズル３の走査移動に伴い大きく移動変位するが、その移動に伴いプレート８１が移動して冷却ガス吐出ノズル３との距離がほぼ一定値に保たれて冷却ガス供給管部７１Ｂはほぼ直線状態を維持したまま変位する。このように冷却ガス供給管部７１Ｂが湾曲変形するのを抑制し、冷却ガス供給管部７１Ｂの移動により発生する負荷が抑制される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を洗浄した場合に、簡便な方法で硫酸イオンに対する洗浄効率を上げることができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を洗浄した場合に、微小異物（パーティクル）の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程と加温する加温工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）