【課題】工作機械にてワークや治具等の必要箇所に処理液を供給する処理液供給装置であって、安価且つコンパクトな構造であり、ノズルから吐出される処理液に適度な圧力と流力を与えることが可能であり、メンテナンスが簡易となるものを提案する。
【解決手段】処理液供給装置９を、処理液を吐出するノズル２６と、ノズル２６から吐出する処理液を貯溜する処理液タンク２４と、処理液を処理液タンク２４へ送水するための配管１４・１６・２２及びポンプ１５と、ポンプと処理液タンクとの間に設けられた分離器１７とを備えて構成した。分離器１７は、処理液で旋回流を形成して該処理液を被収集物と液体とに分離する構成とした。ノズル２６から吐出される処理液に圧力と流量を与えるために、処理液タンク２４内の処理液を加圧する加圧手段２８を備えた。 （もっと読む）

【課題】基体の洗浄時の再付着を防止し清浄度を上げる。
【解決手段】洗浄装置１００において、洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄには、洗浄液４１が満たされ、個々の基体２に対し独立して収容できる形状を有する。回収タンク４４の底面部からは、送液ポンプ４６、フィルタ４８を介し送液路５０を通じて個々の洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの底面部に洗浄液４１が供給され、洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄの上部開放端からオーバーフローした洗浄液４１は、一端オーバーフロー液受槽４２に貯留され、戻し液路５４を介して回収タンク４４に戻され再度使用されることとなる。複数の基体２は、それぞれ保持装置２１に設けられた保持具３０によってその内面が保持され、洗浄槽４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄにそれぞれ浸漬される。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、濾布の洗浄効果を良くできると共に洗浄作業効率を向上させることができる濾布洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】
平行配置された２本のガイドレール２，３の間に網状の濾布トレイ９を配置する。ガイドレール２，３を走行する台車１０に濾布トレイ９の上面に高圧洗浄水を噴射する第１のノズルヘッダー１５と濾布トレイ９の下面に高圧洗浄水を噴射する第２のノズルヘッダー１６を設ける。 （もっと読む）

【課題】 リンス液によるリンス処理に伴うウォーターマークの発生を防止する。
【解決手段】 ミキシングユニット５２ｂ，７２ｂはそれぞれ塩酸供給源５２ａ，７２ａに接続されており、純水供給部２００から供給される純水に対して希塩酸を混合可能となっている。そして、混合させる希塩酸の流量を制御することで混合液のｐＨが５以下に調整される。ミキシングユニット５２ｂ，７２ｂとミキシングユニット５５，７７の間にはそれぞれ窒素溶解ユニット５８，７８が配設されており、混合液を窒素溶解ユニット５８，７８に送り込むことで窒素豊富な流体が生成される。ミキシングユニット５５，７７はそれぞれノズル６，２５に接続されており、ノズル６，２５からｐＨが５以下に低下した窒素豊富な流体がリンス液として基板Ｗに供給される。このため、基板ＷからのＳｉの溶出が低減され、リンス処理に伴うウォーターマークの発生を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 廃棄物の洗浄能力が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】 廃棄物は、案内部材６上を落下して、廃棄物に付着している土や砂が案内部材６の網目から落下する。案内部材６の裏面側のエアノズル１３から噴射される圧縮空気により、廃棄物は回転ドラム３の下端部の開口３Ｂ方向に送り込まれ、回転ドラム３の回転により搬送ブレード３Ｇにより、回転ドラム３の長手方向における中心方向に送り込まれると共に、搬送ブレード３Ｈにより洗浄液中で攪拌されると共に、エアノズル１４からの圧縮空気の噴出により、さらにほぐされて攪拌される。回転ドラム３内で上端部の開口３Ａ寄りの洗浄液の水面に浮かんだ廃棄物は、回転ドラム３の搬送ブレード３Ｉにより、開口３Ａ方向に送られて、洗浄液ノズル４０から洗浄液を吹きかけられて、ゆすがれて、金網３Ｃの部分で、水切りされ、その後、開口３Ａから排出される。 （もっと読む）

【課題】 小型の光学部品の超音波洗浄とスピン乾燥を、３点支持や中央部に貫通孔を有する光学部品保持具で行っていたが、スピン乾燥だけではシミや汚れができてしまい、高度の熟練を要する手拭き作業に頼らざるを得なかった。また、複数種類の形状寸法の異なる光学部品を１つの光学部品保持具で保持して超音波洗浄・スピン乾燥をすることができず、多数の光学部品保持具を必要としていた。
【解決手段】 複数の光学部品保持部を、その一方の寸法を可変にした可変光学部品保持部にするとともに、周縁部が２段構造の光学部品保持具の外側の周縁部に、内側から外側に通じる溝を設け、光学部品載置部は光学部品を固定しないで自由に動けるように保持して洗浄・乾燥を行うようにして課題を解決した。 （もっと読む）

【課題】ワークの各面に対して洗浄液の高速噴射がなされ、以て、切粉等の除去のための洗浄を十分且つ効率よく行なうことができる機械部品等洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】底部に複数の高速噴射ノズルを備えた洗浄槽１と、ロボットハンド先端にワーククランパー４を備えていて前記ワーククランパー４が前記洗浄槽１内に臨む多軸ロボット３とから成る。好ましくは、前記洗浄槽１の一側面側に設置されるワーク供給部６と、前記洗浄槽１の他側面側に設置されるワーク排出部７とを更に備え、前記洗浄槽１内に、ワーク位置決め用コンベアリフトユニット１０が設置され、前記多軸ロボット３は６軸ロボットとされ、また、前記洗浄槽１に切粉回収装置２が連設される。 （もっと読む）

【課題】 位相シフトマスクの修理方法を提供する。
【解決手段】 基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを有する位相シフトマスクを修理する方法において、位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階Ｓ４２と、位相シフトマスクを洗浄する段階Ｓ４３と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。 （もっと読む）

【課題】 基板上の位置による処理液の吐出距離の差が小さい液吐出機構、及びその液吐出機構を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板Ｗに処理液を吐出する液吐出機構２に、処理液を吐出するシャワーノズル１２と、シャワーノズル１２と直接又は間接的に接続され、シャワーノズル１２を揺動するために予め定められた軸を中心に回動可能なシャワーパイプ１１と、シャワーパイプ１１の揺動を、処理液の吐出の中心方向が基板Ｗにほぼ垂直になる回動位置と、この回動位置から、シャワーノズル１２と基板Ｗの間の距離が一旦短くなる回動方向へ予め定められた角度だけ回転した回動位置との間で行うように制御するモータ４１及びリンク機構４２とを備え、処理液の吐出の中心方向を示す線と前記軸とが同一面に含まれないようにシャワーノズル１２を備えた。 （もっと読む）

【課題】ユニット間差を抑制することを目的とする。
【解決手段】基板処理装置に、塗布処理を行う複数の第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃと、配給路３２を介して清浄な空気を供給する気体供給機構５０と、セルコントローラＣＴ３とを設ける。また、各第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃに、回転角度を調整することにより配給路３２の開度を調整する調整板２３および排気用ファンユニット２５を設ける。セルコントローラＣＴ３は、各第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃにおける塗布処理の結果が略同一となるように予め求めた設定値に応じて各調整板２３の回転角度を調整する。このようにして、空気の供給量を個別に制御して、各第２塗布処理ユニット２０ａ〜２０ｃの気圧を制御する。 （もっと読む）

【課題】 かかるコスト及び廃棄物を低減すると共に作業効率を向上し、作業員の健康を配慮した作業環境を提供することのできる浄化装置を提供する。
【解決手段】 接着剤が塗布される部位を、拭き取り手段により汚れを除去し、浄化する浄化装置１００において、前記拭き取り手段１を収容する洗浄ポット３と、前記洗浄ポット３に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄ポット３において使用した洗浄液を回収し、前記洗浄液供給手段に循環する洗浄液回収手段とを備える。 （もっと読む）

超音波エネルギーを利用する平坦なプレート状基板を湿式処理するための装置及びこの装置に関連する方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】 効率的でかつ廉価な基板の乾燥方法を提供する。
【解決手段】 リンス処理（リンス工程 Ｓ１）後、まず、窒素による圧送により、ウエハ２０が配置された密閉処理容器１２に残留した超純水等の水分が密閉処理容器１２の下部から排出される（リンス液排出工程 Ｓ２）。つぎに、低温状態下にある密閉処理容器１２内に窒素を高速で吹き込んで、密閉処理容器１２内に残存する超純水等を吹き飛ばして排出する（残存液除去工程 Ｓ３）。つぎに、ＩＰＡ蒸気を同伴した窒素を密閉処理容器１２内に供給する（残存液置換工程 Ｓ４）。最後に、密閉処理容器１２内を大気圧未満の所定の圧力に減圧しながら、窒素を密閉処理容器１２内に吹き込んで乾燥を終了させる（乾燥工程 Ｓ５）。 （もっと読む）

【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Ｂは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽３（３ａ、３ｂ）と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽４（４ａ、４ｂ）とを組み合わせてなる洗浄槽列１（１ａ、１ｂ）が２組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）

【課題】 連続的に搬送されてくる個々の容器内部を衛生的かつ有効に洗浄し、引き続き水切り乾燥まで連続的に行なうことができる容器の連続洗浄装置の提供。
【解決手段】 容器を洗浄室内へ受け入れる受け入れコンベアと、該受け入れコンベアにより洗浄室内で受け入れられた容器を、その受け入れコンベアと共に洗浄位置まで上昇させ、さらには洗浄後の容器を受け入れコンベアと共に初期位置へ降下させる昇降機構と、該昇降機構の動作で上記コンベアと共に洗浄位置まで上昇された容器を、その両側方から挟持しながら、天地逆に反転するクランプ反転機構と、該クランプ反転機構により反転された容器の内外面を湯洗及びリンス洗浄する洗浄機構と、該洗浄機構による洗浄が終了された容器の内面及び外面の水切りを行なうエアブロー機構を有する。 （もっと読む）

【課題】 高圧水を用いることなく、高圧水と同等の洗浄能力を有する洗浄装置及びその洗浄装置を組み込んだ切削装置を提供する。
【解決手段】 ダイシング装置等の切削装置にノズル手段を配設し、被加工物の切削時にこのノズル手段にエアー供給手段から２．７ｋｇｆ／ｃｍ² 以上のエアーを供給すると共に、洗浄水供給手段から市水程度の圧力の水を供給し、これらを合流させてノズル手段から洗浄水を噴射する。ノズル手段の絞り部の直径は０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであり、好ましくは１．４ｍｍとする。ノズル手段は、被加工物が切削ブレードにより切削された領域を洗浄するように、ブレードカバーに隣接してブレードの回転中心近傍に配設し、洗浄水が被加工物に対して垂直に噴射されるようにする。 （もっと読む）

【課題】容器自動洗浄装置から排出される洗浄物（水とインキ等の剥離物及び未溶解分の重曹）を、水と剥離物及び未溶解分の重曹とに分離し、両者の二次処理を行い易くすること。
【解決手段】横軸回りに回転させる容器１の内面に対して粉状の重曹を水と共に噴射し、洗浄して排出する洗浄物排出機構を設けた容器自動洗浄装置において、スクリューコンベア１４の排出口１４ｃの下方に、ハウジング１６を設け、該ハウジング１６の内部に、多数の開口を有するバケット１５を回転自在に設け、バケット１５を回転駆動する駆動手段１８を設け、且つ、前記バケット１５に水透過性に優れた回収袋１７を着脱自在に設けた。 （もっと読む）

【課題】 キャリアをブラシ洗浄する際に、ブラシの回転駆動に伴って発生するパーティクルによる洗浄度低下を防止する。
【解決手段】 回転ブラシを駆動するためのモータ３８ａを水平アーム３２内に収容する。水平アーム３２の先端部から下方に延出する垂直アーム３３の下端部に、回転ブラシの回転軸３５を支持する軸受３４を取付け、モータ３８ａの回転を垂直アーム３３内のベルト３８ｅを介して回転軸３５に伝達する。回転ブラシを支持するアームをケースにして、回転ブラシの回転駆動部３８をこのケース内に収容したことにより、ブラシの回転駆動に伴って発生するパーティクルの洗浄槽への落下が防止される。 （もっと読む）