【課題】水平に配置した状態で、湿式処理した後の基材の少なくとも１つの表面から液体を効率よく除去する。
【解決手段】基材に供給する液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を基材の表面に供給することを、回転する基材の表面の少なくとも一部に、液体を供給することと組み合わせて行う。 （もっと読む）

【課題】多種類のパレットを回転枠に保持できる自動洗浄脱水装置を提供する。
【解決手段】回転枠３１と、パレットＰを載置して回転枠１に対し昇降させる昇降テーブル２１と、噴射ノズル４１とを備えてなる自動洗浄脱水装置において、回転枠３１には、パレットＰの長手方向前後両端面に当接する前後一対のチャック片２ａ，２ａと、パレットＰの幅方向左右両端面に当接する左右一対のチャック片３ａ，３ａとを有するチャック装置１を設け、前後両チャック片２ａ，２ａは、回転枠３１に設けた前後一対のシリンダ４，４によって、前後両チャック片２ａ，２ａを回転枠３１の中心部からパレットＰの前後に同じ距離往復移動させるようにし、左右両チャック片３ａ，３ａは、回転枠３１に設けた左右一対のシリンダ５，５によって、左右両チャック片３ａ，３ａを回転枠３１の中心部からパレットＰの左右に同じ距離往復移動させるようにした。 （もっと読む）

【課題】基板上に成長させた被処理体を少量の液媒体で且つ短時間で効率良く回収できるようにする。
【解決手段】基板Ｐの処理面と貯留槽４１の底板表面とを対向させ且つその間隙を少量の液媒体で満たし、超音波振動子４２により貯留槽４１の底板を厚さ方向に振動させ、その振動を液媒体を介して基板Ｐに伝達して基板Ｐを面内方向に振動させることで、基板Ｐから被処理体を切断して液媒体と一緒に回収する。 （もっと読む）

【課題】エネルギー消費を抑制しながら洗浄効率を高め、かつ、コンパクトで簡易な構成により製造コストの低減を可能とする洗浄装置を提供する。
【解決手段】ワーク８を回転自在に支持する回転支持台１６と、洗浄液が噴出する洗浄液ノズル２０と、エアが噴出するエアノズル２１と、回転支持台１６と洗浄液ノズル２０とエアノズル２１を収容する洗浄ケース１２からなる洗浄部２と、洗浄液を貯溜するダーティータンク４と、油水分離タンク５と、クリーンタンク６と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段５８と、エアを供給するブローエア供給手段６５と、を備える洗浄装置１であって、ワーク８が、洗浄液ノズル２０から噴出する洗浄液により付勢されて、回転しながら洗浄されて、さらに、前記エアノズル２１から噴出するエアにより付勢されて、回転しながら乾燥される構成とする。 （もっと読む）

【課題】汚染物質除去部材を設置した状態のまま洗浄できる機能を有しながらも、汚染物質除去部材の数量や配置の変更に容易且つ柔軟に対応することができ、しかも僅かな洗浄液で汚染物質除去部材を効率良く洗浄することができる洗浄装置およびこれを用いた空気清浄化装置を提供する。
【解決手段】所定量の洗浄液を貯留可能な洗浄液貯留部１０と、この洗浄液貯留部１０内の洗浄液を汚染物質除去部材３に向けて上方から吐出する洗浄管１１とを備え、これら洗浄管１１および洗浄液貯留部１０がダクト型中空構造物３に着脱自在に設置されている。 （もっと読む）

【課題】テーブルが回転するタイプの枚葉式洗浄装置で被洗浄物の表裏面を洗浄する際、裏面用ノズルから供給された洗浄液が回転するテーブルにより被洗浄物に再付着することを抑制できる枚葉式洗浄装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、アーム６及び複数のピン７で被洗浄物５を水平に保持するテーブル２と、該テーブルをその中心軸で回転させる回転駆動部３と、被洗浄物５の表面を洗浄液で洗浄する表面用ノズル１４と、被洗浄物５の裏面を洗浄液で洗浄する裏面用ノズル４とを具備する枚葉式洗浄装置１であって、裏面用ノズル４から吐出した洗浄液を受ける受け皿１０が、裏面用ノズル４のアーム６から突出している部分に設置され、該受け皿１０が受けた洗浄液を排出する排液口９が、受け皿１０の底部に形成されているものであることを特徴とする枚葉式洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】混触に危険を伴う組合せとなる薬液の混触を防止することができ、かつ、そのための設定作業に手間を要しない、供給禁止組合せ設定方法、コンピュータプログラムおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＣＰＵ６０により、使用薬液メモリ６８，６９，７０から、第１薬液、第２薬液および第３薬液の各薬液名が読み出され、第１薬液、第２薬液および第３薬液の薬液名とバルブ１８，１９，２０，２３，２５，３１との対応関係を表す薬液−バルブ対応テーブルが作成される。そして、薬液−バルブ対応テーブル、および混触に危険を伴う薬液の組合せに関する情報を登録した混触禁止薬液データベースに基づいて、バルブ１８，１９，２０，２１，２３，２５，３１，３７間での同時開成および相前後する開成を禁止／可能とするバルブの組合せが設定される。 （もっと読む）

【課題】処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１薬液の供給中において、ＣＰＵ６１は、回転数センサ１６から出力された検出値を監視している（ステップＳ７）。そして、回転センサ１６から出力された検出値が回転数範囲外となると（ステップＳ７でＮＯ）、ＣＰＵ６１は、第１薬液表面側バルブ２３を閉じるとともに、その後の開成を禁止し（ステップＳ９）、その第１薬液表面側バルブ２３の開成が禁止された旨の警報を出力した後（ステップＳ１０）、このインターロック処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクに付着する異物は現像残りであるフォトレジストである。この残留した異物は薬液や純水と空気を混合した２流体気液のいずれか単独では容易に除去できない。また、２流体気液を用いる場合はミスト飛沫が生じやすく、これがフォトマスクに再付着すると容易に除去できなかった。
【解決手段】低速で回転するテーブル３にフォトマスク１を載置し、薬液を噴射する工程を行い、次に２流体気液を噴射する工程を実施することでフォトマスク１を洗浄する。その後、回転テーブル３を高速で回転させながら乾燥工程を行う。 （もっと読む）

【課題】外部への蒸気の漏れを防止した蒸気洗浄装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る蒸気洗浄装置２００は、表示パネル１０を載置するテーブルと、洗浄用の蒸気を生成する蒸気生成器２２２と、蒸気生成器２２２により生成された蒸気を表示パネルの端子部１７に噴射するノズル２２０と、ノズル２２０を収容し、表示パネルの端子部１７が挿入される開口部を有する筐体２１０と、筐体２１０の開口部の外側に設置され、開口部と表示パネル１０との間隙を遮蔽する遮蔽板２３０とを備え、遮蔽板２３０は、筐体２１０と対向する主面上に、主面に近接する遮蔽板２３０の一方の側面から他方の側面に至り略平行に延設された複数の第１の凸部２３２を備えていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】薬液の消費量を最小限に抑えつつ基板の表面周縁部および裏面から不要物を良好にエッチング除去することができる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】スピンベース１５から所定距離だけ上方に離間させた状態で基板Ｗを略水平姿勢で支持する。基板Ｗの上方に対向部材５が対向位置に配置された状態で、複数のガス吐出口５０２およびガス供給路５７から基板表面Ｗｆと対向部材５の下面５０１との間の空間ＳＰに窒素ガスが供給され、基板Ｗが支持ピンＦ１〜Ｆ６，Ｓ１〜Ｓ６に押圧される。第１ノズル３を供給位置Ｐ３１に位置決めして第１ノズル３から塩酸を回転する基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給するとともに、第２ノズル４を供給位置Ｐ４１に位置決めして第２ノズル４から硝酸を基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給することにより、基板表面Ｗｆで塩酸と硝酸が反応してエッチング液が生成される。 （もっと読む）

【課題】基板に対して高温処理および回転処理を実施することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】約２００℃のＳＰＭが用いられるＳＰＭ処理時には、基板下保持部２にウエハＷが保持される。基板下保持部２は、ウエハＷの下面を支持するので、ウエハＷの重量以上の力を受けない。ＳＣ１処理時およびスピンドライ時には、基板上保持部３にウエハＷが保持される。ＳＣ１処理およびスピンドライは、ＳＰＭ処理時よりも低温な環境下で実行されるので、基板上保持部３によってウエハＷを強固に保持しても、基板上保持部３の変形を生じない。 （もっと読む）

【課題】洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、低コストの構成部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄装置であって、
前記構成部材に対して加圧水を噴射する噴射部３，４を備える （もっと読む）

【課題】パーティクル除去性能を少なくとも低下させることなく、かつ、基板のダメージを低減できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部４７は、処理槽１の基板処理環境を大気圧よりも高い加圧環境とするように圧力調整ユニット４５を制御し、かつ、純水供給源１９から処理槽１内へ供給される純水に気体を溶存させるように気体溶存ユニット２５を制御するとともに、処理槽１内に貯留された処理液に超音波振動を付与するように超音波発生部５１を制御しているので、処理槽１の基板処理環境が大気圧よりも高い加圧環境とすることができ、大気圧下での気体溶存量よりも多くの気体を純水に溶存させることができ、キャビテーションを和らげるクッションとして作用する溶存気体を増加させることができ、ダメージを低減できるだけでなく、気体溶存量の増加によってパーティクルの除去性能も上がる。 （もっと読む）

【課題】１つの水洗ブース２内で１つのワークＷに対して少なくとも３回の水洗工程を実施する水洗設備を提供する。
【解決手段】それぞれ給水可能な洗浄水貯蔵タンク３６〜３８が水洗工程ごとに分けて配設され、各水洗工程において対応する１つの洗浄水貯蔵タンク内の洗浄水を水洗ブース２内に送出する洗浄水送出手段が併設され、水洗ブース２の底部からの排水回収配管系には、最終水洗工程を除く各水洗工程での回収排水を実施中の水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６，３７へ戻すと共に、最終水洗工程での回収排水をその直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７へ戻す切換弁５５ａ，５５ｂが設けられ、最終水洗工程を除く水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７から直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６へ貯蔵水を流動させる溢水配管５６が設けられ、開始水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６には溢水配管５７が設けられる。 （もっと読む）

【課題】石英管が非円管であっても、処理槽内の定位置で均一な洗浄処理を行う。
【解決手段】石英管３の汚れを洗浄する洗浄液５（又は９）を入れた洗浄槽７（又は１１）と、前記洗浄槽７（又は１１）で洗浄された石英管３をリンスするリンス液１３を入れたリンス槽１５と、を備えた石英管洗浄装置１において、前記洗浄槽７（又は１１）内で前記石英管３を回転可能に載置する少なくとも２対のローラ１９と、この２対のローラ１９に載置された石英管３を正転と逆転方向に交互に繰り返して回転せしめる正逆回転駆動装置２１を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板上に供給する際に、処理液と基板との間の放電により生じる基板へのダメージを抑制する。
【解決手段】基板処理装置１は、導電性の処理液を基板９に向けて連続的に流れる状態で吐出する吐出部３２を備える。吐出部３２の吐出口３２１の近傍には導電性の接液部３２２が設けられ、接液部３２２は電位付与部４１に接続される。また、基板９の周囲を囲むカップ部２３の帯電により処理対象の基板９は誘導帯電する。処理液を基板９上に供給して基板９を処理する際には、処理液の吐出開始時に接液部３２２を介して処理液に電位が付与され、基板９上に吐出される処理液と基板９との間の電位差が低減される。これにより、処理液と基板９との間の放電により生じる基板９へのダメージを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】複数の被洗浄部品を超音波洗浄する際に、部品同士の重なりを防止して効率良く洗浄することが可能な部品洗浄治具を提供する。
【解決手段】被洗浄部品の一種である複数の弁体１を収容した状態で洗浄槽に満たされた洗浄液中に浸漬され、洗浄槽に配設された振動源からの超音波振動によって洗浄を行うための部品洗浄治具７において、当該部品洗浄治具をベース部材８、及び、当該ベース部材の部品配置面側に積層されるカバー部材９とから構成し、ベース部材とカバー部材とを積層した状態で、各弁体を個別に保持可能な個別保持部１０、及び、各個別保持部側に洗浄液を通液するための通液路１１を形成した。 （もっと読む）

【課題】基板の上面に供給されるガスにより基板を回転部材上に突設された支持部材に押圧して基板を回転部材に保持しながら回転させる基板処理装置および基板処理方法において、回転中の基板が所望の支持位置から大幅に移動してしまうのを防止する。
【解決手段】基板表面に供給される窒素ガスによって基板Ｗが所定の支持位置で各支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に押圧されてスピンベース１３に保持される。そして、スピンベース１３に基板Ｗが保持されながらスピンベース１３とともに基板Ｗが回転する。複数個のガイド部材２５が支持ピンＦＦ１〜ＦＦ６，ＳＳ１〜ＳＳ６に対しスピンベース１３の周縁側で回転中心Ａ０を中心として放射状にスピンベース１３に設けられている。このため、回転駆動される基板Ｗが支持位置から径方向にずれた場合であっても、ガイド部材２５が基板端面に当接して基板Ｗの径方向の移動を規制する。 （もっと読む）

【課題】ノズルおよび該ノズルに接続された処理液導入部に残留する処理液をガスによって押し出す際に、該処理液を安定して押し出すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】押出処理が停止され、薬液処理が実行される間、上流側バルブＶ１と下流側バルブＶ２は閉じられ、上流側バルブＶ１および下流側バルブＶ２とに挟まれたバルブ間領域ＶＲは大気圧Ｐ０に調整されている。そして、薬液処理後、薬液押出処理を開始するために上流側バルブＶ１の開放に先立って下流側バルブＶ２が開かれる。この時点では、残留薬液にかかる圧力は大気圧Ｐ０となっているため、残留薬液が押し出されることがない。このため、いきなり元圧力Ｐ１で残留薬液が押し出されるのを防止することができる。 （もっと読む）