【課題】フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を洗浄した場合に、微小異物（パーティクル）の発生を極めて少なくすることができる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程と加温する加温工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 薬液による危険作業に対し、薬液処理槽の薬液の貯液強度と、大型基板の薬液処理の操作性とを高め、安全に作業を行うことができる大型基板薬液処理装置を提供する。
【解決手段】 薬液処理槽１０と、薬液供給手段５０と、リンス液排水手段６０とを有し、薬液処理槽１０は、側壁部１０−２と底板部１０−１と溝部１０−４とにより構成され、底板部１０−１は、側壁部１０−２から溝部１０−４に向かって下降傾斜を有する。 （もっと読む）

【課題】ワークの形状が複雑であっても、ワークの十分な水切りが可能な水切り装置を提供すること。
【解決手段】水が付着したワーク２の水切りを行う水切り装置１は、ワーク２が浸漬される水切り槽３を備えている。水切り槽３には、ワーク２の水切りを行うための水切り用溶剤が満たされている。また、水切り槽３の底面側には、水切り槽３に水切り用溶剤を供給するための供給口３ｂが形成され、水切り用溶剤は、供給口３ｂから水切り槽３の上端側に向かって供給されている。 （もっと読む）

【解決手段】基板の表面上に形成された金属ゲート構造の周囲からポストエッチング洗浄工程中にポリマ残渣を除去するためのシステム及び方法は、金属ゲート構造に及び除去されるべきポリマ残渣に関連する複数のプロセスパラメータを決定することを含む。１又は複数の製造層が、金属ゲート構造を画定し、プロセスパラメータは、これらの製造層の及びポリマ残渣の特性を定める。第１及び第２の洗浄化学剤が特定され、プロセスパラメータに基づいて、第１及び第２の洗浄化学剤に関連する複数の適用パラメータが定められる。ゲート構造の構造的完全性を維持しつつポリマ残渣を実質的に除去するために、第１及び第２の適用化学剤は、適用パラメータを使用して制御方式で順次適用される。 （もっと読む）

【課題】超音波洗浄ヘッドと被洗浄基板との間に液膜を形成する際の使用液量を低減することが可能な超音波洗浄ヘッドを備える超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】超音波を、供給される洗浄液に照射することで、被洗浄基板３０を洗浄する超音波洗浄装置１０において、被洗浄基板３０を垂直な姿勢で保持する基板保持手段３１と、洗浄液を供給する超音波洗浄ヘッド２０を備え、超音波洗浄ヘッド２０は、超音波を発生させる超音波振動子２１と、洗浄液を噴射する洗浄液供給ノズル２２と、洗浄液供給ノズル２２と被洗浄基板３０との間に超音波を伝播させるための液膜を形成するため液膜形成液を噴射する液膜形成用ノズル２３を備えることを特徴とする超音波洗浄装置１０である。 （もっと読む）

【課題】この発明は半導体ウエハの上面全体をエッチング液によって均一にエッチング処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を回転させながら処理液によって処理する処理装置であって、
半導体ウエハを保持して回転駆動される回転テーブル１６と、先端部に処理液を半導体ウエハに向けて噴射する上部ノズル体５１を有し、回転テーブルの上方で上部ノズル体が半導体ウエハを横切る方向に駆動されるアーム体５２と、ノズル体が半導体ウエハの周辺部から中心部に向かうときにアーム体の移動速度を次第に増加させ、中心部から周辺部に向かうときには揺動速度を次第に低下させるようアーム体の移動速度を制御する制御装置７を具備する。 （もっと読む）

電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
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【課題】 ベースから基板が落下することを低減し、十分な洗浄ができる基板の製造方法、を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベース２に接着されたブロック１と、アルカリ液４と、を準備する工程と、ベース２に接着されたブロック１をスライスし、ベース２に接着された基板列とする工程と、基板列をアルカリ液４により洗浄する工程と、基板列をベース２から剥離し複数の基板１ａとする工程と、を有し、アルカリ液はＢｒｉｘ値で管理される。 （もっと読む）

【課題】１回の洗浄で金属不純物を十分に除去することができるフッ素樹脂製部材の洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】フッ素樹脂製部材の金属不純物を除去するフッ素樹脂製部材の洗浄方法であって、フッ素樹脂製部材と酸溶液とを耐圧限界が１ＭＰａ以上の耐圧密閉容器内に封入し、耐圧密閉容器内に入れた酸溶液を加熱することによって酸蒸気を発生させて耐圧密閉容器内を１ＭＰａ以上に加圧し、該圧力下で酸蒸気によりフッ素樹脂製部材を洗浄することを特徴とするフッ素樹脂製部材の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物に付着した水分等を除去するにあたり、乾燥速度が速いとともに、被洗浄物に対する濡れ性に優れ、かつ安全性が高い速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法、および洗浄装置を提供する。
【解決手段】エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等と、水と、を含むとともに、全体量に対して、エチレングリコールモノノルマルブチルエーテル等の含有量を５〜６０重量％の範囲内の値とし、かつ、水の含有量を４０〜９５重量％の範囲内の値とする速乾性液体組成物、そのような速乾性液体組成物を用いた水分等の洗浄方法および洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】略漏斗状の石英部材の内側を一層確実に洗浄することができる石英部材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の石英部材の洗浄方法は、第１開口部Ｓ１１及びその反対側に位置し且つ第１開口部Ｓ１１に連通する第２開口部Ｓ２１を有し、第２開口部Ｓ２１側に管状部Ｓ２を備えると共に第１開口部Ｓ１１側に第１開口部Ｓ１１の開口面積が第２開口部Ｓ２１の開口面積よりも大きくなるように膨らんだ膨出部Ｓ１を備える中空の石英部材Ｓを洗浄する洗浄方法であって、第１開口部Ｓ１１を下に向けた状態の石英部材Ｓに対して、第２開口部Ｓ２１を塞いだ状態で、石英部材Ｓの内側に第２開口部Ｓ２１を介して洗浄用液Ｒ３を噴射して、管状部Ｓ２の内側を洗浄する管状部内側洗浄工程を備える。 （もっと読む）

実質的に鉛直平面で設置された実質的に平面のガラスシート（３０）を処理する装置（１０）である。一態様において、このガラスシートはＬＣＤディスプレイ用のものである。ガラス処理装置は、洗浄区域（２００）、すすぎ区域（３００）、乾燥区域（４００）、およびガラスシートを搬送路（１００）に沿ってその中で移動させるための下部ローラ（５１０）を含む。洗浄区域は、ガラスシートを損傷させずに支持および駆動するよう構成された駆動ローラ（５３０、５４０）を含む。すすぎ区域は、ガラスシートを過剰に振動させずにすすぐよう配置されたノズル（３１０、３２０）および液体軸受（３３０、３４０）を含む。さらに、乾燥区域は、ガラスシートを過剰に振動させずに乾燥するよう配置されたエアナイフ（４１０、４２０）および流体軸受（４４０、４５０）を含む。
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【課題】被洗浄物の裏面と洗浄装置との接触によって発生する被洗浄物間の相互汚染を防止し、洗浄液、および洗浄した汚れが被洗浄物に再付着することを抑制することができる枚葉式洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、前記被洗浄物の側面を保持するチャックピンと、前記被洗浄物の直下に配設され、液体を吐出する吐出口を有したフランジと、前記フランジの外側に配設され、前記フランジから吐出される液体の液はねを防止する液はね防止板とを具備し、前記フランジにより前記被洗浄物の裏面を非接触な状態で液体浮上させ、前記チャックピンで該被洗浄物の側面を保持して該被洗浄物を洗浄するものであることを特徴とする枚葉式洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】超音波を用いた枚葉式の洗浄装置において、洗浄速度に優れ、かつ、被洗浄物（ウエハ）の全面を均一に洗浄できる洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置１０に、超音波振動子２１から伝搬する超音波を照射する照射面２０ａを両側に備え、かつ、それら２つの照射面２０ａ内に洗浄液を噴出する噴出口２０ｂをそれぞれ備えた振動体２０と、照射面２０ａのそれぞれと対向するウエハ５０を平行に並べて保持するガイドローラ１１ｃとを設ける。照射面２０ａ内に配置された噴出孔２０ｂから洗浄液を噴出させつつ、超音波を照射面２０ａからウエハ５０に照射して洗浄を行うことで２つの被洗浄面を同時に洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】農作物に傷を付けずに洗浄すると共に、農作物の形状にかかわらず確実に洗浄する。
【解決手段】農作物Ｂを搬送する複数の搬送体１，２と、搬送される農作物を洗浄水の噴射で洗浄する洗浄水噴射口３，４，５を備え、搬送体１，２は、搬送方向に沿って直列状に配列されると共に、隣り合う搬送体１，２の間に搬送方向に沿う長さが農作物Ｂの搬送方向に沿う長さよりも短い空間部８を確保して配列され、洗浄水噴射口３，４，５は、搬送される農作物Ｂに対して、空間部８位置で農作物Ｂの径方向から洗浄水を噴射するように配置されている。
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【課題】トッププレートで基板の上方を覆う基板処理装置において、基板処理装置の小型化や処理能力の向上を図るとともに、基板を良好に処理できるようにすること。
【解決手段】本発明では、基板処理装置において、基板の下方に回動自在に配置され、前記基板を保持するターンテーブルと、前記ターンテーブルを回転させる回転駆動機構と、前記基板の上方に回動自在に配置され、前記基板の上方を覆うトッププレートと、前記ターンテーブルと前記トッププレートとの間に形成された処理流体流路に処理流体を供給する処理流体供給手段と、前記処理流体流路を挟んで前記ターンテーブル及び前記トッププレートそれぞれに非接触状態で引き合うように設けた磁石とを設けることにした。 （もっと読む）

【課題】 雌ねじ部が形成された加工穴をきれいに洗浄することができる技術を提供する。
【解決手段】 ワーク１２をロボット８によって支持し、ワーク１２に形成される加工穴１４と洗浄ノズル２２を対向させて、洗浄ノズル２２から洗浄流体を噴射する。このとき、洗浄ノズル２２は、加工穴１４の内壁に形成されたねじ溝３６に向けて洗浄流体を斜めに噴射し、加工穴１４の内部にねじ溝３６に沿って旋回する洗浄流体の旋回流を発生させる。 （もっと読む）

【課題】ブラシの寿命を長くした洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する保持機構１０と、基板Ｗを洗浄可能な洗浄ブラシ２１とを備え、保持機構１０に保持された基板Ｗに洗浄ブラシ２１を当接させながら相対回転させて基板Ｗを洗浄するように構成された洗浄装置１において、洗浄ブラシ２１を洗浄するブラシ洗浄器５０を有し、このブラシ洗浄器５０は、洗浄ブラシ２１の表面電位を変化させて、洗浄ブラシ２１の表面電位および当該洗浄ブラシ２１に付着した異物の表面電位を互いに正負が同じ表面電位にすることにより、洗浄ブラシ２１から異物を分離して除去するようになっている。 （もっと読む）

【課題】基板の切断装置９（切断ユニットＢ）を用いて、成形済基板１を切断して切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を形成する場合に、個々のパッケージ５の表面（上下面）に切削屑、破材等の異物が残存付着することを効率良く防止する。
【解決手段】成形済基板１を切断して形成された切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を載置した切断テーブル１７を基板切断位置２５から基板載置位置２４に移動させることにより、その途中に設けた主洗浄部７２において、パッケージ５の上面（ボール面５ａ）を洗浄して乾燥し、次に、基板載置位置２４において、係着着部材９５にて切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を係着すると共に、副洗浄部９６において、係着着部材９５にて切断済基板１ｃ（個々のパッケージ５）を係着した状態で、パッケージ５の下面（樹脂面５ｂ）を洗浄して乾燥する。 （もっと読む）

【課題】洗浄効果を向上させることができる電解洗浄装置及び電解洗浄方法を提供する。
【解決手段】電解洗浄装置１及び電解洗浄方法は、陽極１０と洗浄対象物Ｍを保持する陰極２０とを電解洗浄液中に浸漬し、陽極１０及び陰極２０間に通電して洗浄対象物を電解洗浄する電解洗浄装置１及び電解洗浄方法であって、前記陽極１０は、陰極２０に対する通電量を変更可能な陽極１０を備え、前記陽極１０と前記陰極２０との通電量が時間的に変化するように制御する。 （もっと読む）