【課題】この発明は、水に注入する薬剤を取り間違えることなく、確実に洗浄効果のある洗浄水を生成できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の洗浄システム１は、洗浄水１０３を生成する洗浄水生成装置１０の本体１０ａに、低臭素酸次亜塩素酸ナトリウム水溶液１０１を貯蔵する第１タンク１１と、粉末状の酢酸ナトリウムを水に溶かして構成する酢酸水溶液１０２を貯蔵する第２タンク１２と、低臭素酸次亜塩素酸ナトリウム水溶液１０１及び酢酸水溶液１０２を注入する注入ポンプＰ１，Ｐ２と、注入ポンプＰ１，Ｐ２の注入を制御する洗浄制御部ＣＰＵとを備え、第１タンク１１を本体１０ａの下方位置に配置し、第２タンク１２を本体１０ａの上方位置に配置した。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内のガス溶解水のガスの濃度を所定の値に保つガス溶解水循環手段を有する洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】ガス溶解部２１によりガスの濃度を制御したガス溶解水７０を、洗浄装置の洗浄槽６０の側壁から供給するガス溶解水供給手段２０と、洗浄槽６０からオーバーフローしたガス溶解水７０を排出処理するガス溶解水排出処理手段３０と、洗浄装置の洗浄槽６０内に満たされたガス溶解水７０を洗浄槽６０の下部から取り出し、循環させて洗浄槽６０の側壁から供給するガス溶解水循環手段１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理液の洗浄処理槽内流れを上向きとし、下向きの流れを最小にすると共に、整流板及び拡散板の開口率と液流のバラツキの関係を明確にし、液流のバラツキをリアルタイムにモニターできる手段を具備した洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄処理装置は、上方向に流れる洗浄処理液を貯留する洗浄処理槽と、該洗浄処理槽内底部に洗浄処理液を流通させる小孔が面内に配列された整流板と、該洗浄処理液供給口の上方と該整流板の下方の位置に洗浄処理液を流通させる小孔が面内に配列された拡散板と、を備えている。さらに、本発明の洗浄処理装置は、洗浄処理槽内壁面に一本ないし複数本の細糸が固定されることにより、洗浄処理槽内壁面近傍の液流が可視化される整流モニター機構を有し、液流のバラツキをリアルタイムにモニターできる手段を設けている。 （もっと読む）

【課題】低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２３を通して簡易式熱交換器Ｓ２に導かれる。簡易式熱交換器Ｓ２により冷却された処理液は、配管２３，２５を通して処理液タンクＴＢに戻される。処理液の温度が予め定められた規定値Ｎ１以下になると、処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２１を通して処理液タンクＴＢに戻される。配管２１は処理液タンクＴＡ内を通過するので、配管２１を流れる処理液は、処理液タンクＴＡ内の処理液によって温調される。 （もっと読む）

【課題】既存の機能を極力利用し、機器内のカビを防止できるオゾン水応用機器を提供する。
【解決手段】洗浄対象物ｘを洗浄するための洗浄槽２と、圧力変動吸着式の酸素濃縮器３と、その酸素濃縮器３からの高濃度酸素でオゾンを生成するオゾン発生器４と、洗浄槽２に給水する給水ライン１７と、洗浄槽２を通した水とオゾン発生器４からのオゾンとを混合してオゾン水を製造するオゾン水製造ライン１８とを備え、洗浄槽２内にオゾン水を供給して洗浄対象物ｘをオゾン洗浄し、オゾン水を排水して洗浄槽２から洗浄対象物ｘを取り出した後、洗浄槽２を洗浄するためのオゾン水応用機器１において、洗浄槽２の残留物を水リンスで排除するための洗浄手段と、洗浄槽２をオゾン水で殺菌する殺菌手段と、洗浄槽２を乾燥させる乾燥手段とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】排気を分散させることによって乾燥不良を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空ポンプによって排気機構７５を介してチャンバ内の気体を排出するが、排気機構７５はチャンバ内の気体を複数箇所から排気するので、チャンバ内において排気が偏りにくい。したがって、溶剤ノズルによってチャンバ内に形成された溶剤蒸気雰囲気が偏ることを防止でき、処理液から露出された基板Ｗに付着している液滴が偏って引かれることを防止できる。その結果、基板の乾燥不良を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 使用する洗浄液の量が少なく、装置の小型化が可能であり、連続的に、均一かつ高効率に粒子の洗浄を行うことができる粒子の洗浄方法およびそれを用いる粒子洗浄装置を提供することである。
【解決手段】
分散液供給工程において粒子分散液を加圧して連続的に混合空間に供給し、洗浄液を加圧して連続的に混合空間に供給することにより粒子を洗浄するようにする。 （もっと読む）

【課題】混触に危険を伴う組合せとなる薬液の混触を防止することができ、かつ、そのための設定作業に手間を要しない、供給禁止組合せ設定方法、コンピュータプログラムおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＣＰＵ６０により、使用薬液メモリ６８，６９，７０から、第１薬液、第２薬液および第３薬液の各薬液名が読み出され、第１薬液、第２薬液および第３薬液の薬液名とバルブ１８，１９，２０，２３，２５，３１との対応関係を表す薬液−バルブ対応テーブルが作成される。そして、薬液−バルブ対応テーブル、および混触に危険を伴う薬液の組合せに関する情報を登録した混触禁止薬液データベースに基づいて、バルブ１８，１９，２０，２１，２３，２５，３１，３７間での同時開成および相前後する開成を禁止／可能とするバルブの組合せが設定される。 （もっと読む）

【課題】パーティクル除去性能を少なくとも低下させることなく、かつ、基板のダメージを低減できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】制御部４７は、処理槽１の基板処理環境を大気圧よりも高い加圧環境とするように圧力調整ユニット４５を制御し、かつ、純水供給源１９から処理槽１内へ供給される純水に気体を溶存させるように気体溶存ユニット２５を制御するとともに、処理槽１内に貯留された処理液に超音波振動を付与するように超音波発生部５１を制御しているので、処理槽１の基板処理環境が大気圧よりも高い加圧環境とすることができ、大気圧下での気体溶存量よりも多くの気体を純水に溶存させることができ、キャビテーションを和らげるクッションとして作用する溶存気体を増加させることができ、ダメージを低減できるだけでなく、気体溶存量の増加によってパーティクルの除去性能も上がる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンの倒壊や除去された汚染物質の再付着を防止しつつ基板表面の汚染物質を確実に除去する基板洗浄方法、半導体装置の製造方法及び基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板を回転させながら薬液を基板に供給して基板表面を洗浄する基板洗浄方法であって、基板１２に第１の薬液を供給して基板１２表面を第１の薬液で満たす工程と、第１の薬液で満たした基板１２表面に対して第２の薬液を用いて二流体ジェット洗浄法により基板１２表面を洗浄する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】薬液の清浄度を高めることにより、基板を清浄度高く洗浄することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】薬液カートリッジ２９から薬液供給部２７を介して純水に薬液を混合させて処理液を生成させ、供給管を介して処理槽に処理液を供給させる。薬液カートリッジ２９には、補充ラインなどから薬液が補充されることがなく、薬液が汚染されることがないので、薬液の清浄度を高く維持することができる。したがって、清浄度高く基板を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】水位センサで剤タンク内の液体洗剤が空になったことを検知し、報知手段で剤タンク内が空になったことを報知したり、ポンプの空運転を防止したりで、しかも剤タンクを小型化できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】剤タンク１２、泡洗剤出口部１３、剤供給路１４、ポンプ１５、剤供給路１４を流れる液体洗剤に空気を混入する剤供給路１４の途中に設けたエゼクター部１６を備える。剤供給路１４をポンプ１５よりも上流側の上流側流路３０と下流側の下流側流路３１とで構成する。上流側流路３０を剤タンク１２の下面部から下方に垂設してポンプ１５の吸込口部１５ａに接続する。上流側流路３０の剤タンク１２よりも下方で且つポンプ１５の吸込口部１５ａよりも上方の位置に水位センサ３８を設ける。水位センサ３８で剤タンク１２内の液体洗剤が空になったことを検知する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の板面内における処理の均一性を向上させることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、整流部材２８が内部に設けられ、整流部材の上側に位置する第１領域１２ａと整流部材の下側に位置する第２領域１２ｂとを含む処理槽１２を用いて行われる。基板処理方法は、第１領域内に被処理基板Ｗを配置し、処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬する工程と、第２領域に薬液を供給して処理槽内の処理液を薬液で置換する工程と、第２領域に水を供給して処理槽内の薬液を水で置換する工程と、を備える。置換時に、第２領域に供給された液体は、整流部材を介して第１領域に流入し、第１領域内の少なくとも基板の近傍において上昇流が形成される。 （もっと読む）

【課題】 トルマリン鉱石の微弱電流とゼオライト鉱石のイオン交換機能の相乗効果により、水の活発な分子運動が得られるようにした水質改良技術の提供。
【解決手段】 トルマリン原石の粉末５０〜９５重量％にバインダとしてのガラス粉末５〜５０重量％をゼオライトの母材にコーティングして成形体に焼成して水質改良剤とする。このトルマリン成形体を容器６に収納し、水が容器内を通過する間に、水質改良剤としての成形体に水が接触し、水の分子運動を活発にして、乳化作用を強くし、水のクラスターを小さくして、水の浸透性を高める。 （もっと読む）

第１の態様において、オリフィスを有する半導体製造チャンバーのコンポーネントを洗浄するための方法が提供される。この方法は、（Ａ）洗浄溶液を有する槽にコンポーネントを入れるステップと、（Ｂ）洗浄溶液でコンポーネントを洗浄する間に、オリフィスに流体を流し込んで、オリフィスの少なくとも第１部分を、洗浄溶液がない状態に維持するステップと、（Ｃ）オリフィスから流体を回収し、洗浄溶液がオリフィスの第１部分に入り込んでオリフィスの第１部分を洗浄するようにするステップとを備えている。多数の他の態様も提供される。 （もっと読む）

【課題】処理槽内のペルオキソ一硫酸酸濃度の推移を予め検出し、その検出結果を指標として基板上の有機物を除去するための適正な処理時間を設定することを可能にした電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】硫酸を含む処理液が収容され、過酸化水素水の供給でペルオキソ一硫酸を生成する処理槽内で基板表面の有機物を除去する電子デバイスの製造方法で、基板表面の有機物除去時における処理槽内の処理液を逐次サンプリングし、サンプリング液中の硫酸および過酸化水素をキャピラリーゾーン電気泳動分析により検出し、この検出結果からペルオキソ一硫酸の濃度変化を予め測定する工程と、硫酸を含む処理液が収容された処理槽内に過酸化水素水を供給し、有機物が付着された基板を挿入し、取り出す際、過酸化水素水の供給時期を予め測定した前記ペルオキソ一硫酸の濃度変化に基づいて基板の挿入から取り出しの間にペルオキソ一硫酸の濃度ピークが現れるように設定する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】寝具を回転フレームの内周に沿ってセットして、回転フレームを回転させながら寝具の洗浄や乾燥を行なうにあたって、オゾン殺菌を行なうことができる寝具の洗浄装置を提供する。
【解決手段】軸周りに回転駆動される筒かご状に形成され、内周に沿って出し入れ自在に寝具１がセットされる回転フレーム２を洗浄槽３内に配置して設けた寝具の洗浄装置に関する。回転フレーム２を回転駆動しながら回転フレーム２の内側から寝具１に洗浄水を供給して寝具１を洗浄する洗浄手段。洗浄後に回転フレーム２を回転駆動して寝具１を脱水する脱水手段。回転フレーム２を回転駆動しながらオゾンを洗浄槽３内に供給して寝具１をオゾン殺菌するオゾン供給手段。寝具１をオゾン殺菌した後に、回転フレーム２を回転駆動しながら温風を寝具１に吹き当てて寝具１を乾燥する乾燥手段。これらの各手段を具備して、寝具１を洗浄、脱水、オゾン殺菌、乾燥することができる。 （もっと読む）

化学製品分配システムが少なくとも第１のチャンバを含み、当該第１のチャンバは、下にある第２のチャンバに流体的に連結され、当該第２のチャンバはさらに、下にあるマニホルドに流体的に連結される。使用の際に、水及び粉末の化学製品が第１のチャンバに導入される。他方、液体の化学製品が、第２のチャンバの複数の化学製品の入口を通して当該第２のチャンバに注入される。第１のチャンバに流体的に連結されている圧力センサが使用され、液体の化学製品の用量を正確に測定する。正確な用量が求められると、粉末の化学製品及び／又は液体の化学製品は、複数のマニホルド出口のうちの１つを通して単一のラインに沿って複数の洗浄機のうちの１つに分配される。 （もっと読む）

【課題】微細気泡洗浄方法の洗浄効果をより高め、洗浄液の長寿命化を図り、コンパクトで操作性の良い洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄部２０は、洗浄槽２１と、洗浄ノズル部２２と、オーバーフロー槽２７とを有し、洗浄ノズル部２２は、複数の洗浄ノズルから成り、複数の洗浄ノズルは、洗浄槽２１の各部位に所定の数だけ装着され、洗浄ノズルは、制御ノズルと、ミキシングノズルとから成り、油水分離タンク部３０は、循環用洗浄液２８を浄化して循環させるため、オーバーフロー槽２７とポンプ部４０とに接続され、ポンプ部４０は、浄化された循環用洗浄液２８を洗浄槽２１へ供給するため、洗浄ノズル部２２に接続されて構成される。 （もっと読む）

本発明は、３以下のｐＨを有する水性組成物に関し、上記組成物は、組成物の総重量に基づいて、下記成分：ａ）０．０５〜４０重量％の、−ＣＯＯＲ基（Ｒは独立して、Ｈ、ＯＨおよび炭素含有基から選択される）を有するポリマー状増粘剤、およびｂ）０．０５〜６０重量％の過酸化水素を含み、ここで、成分ａ）に起因する活性酸素含量が、組成物の総重量に基づいて少なくとも０．０２重量％であり、ただし、（メタ）アクリレートモノマーから製造された（コ）ポリマーは存在しない。 （もっと読む）