【課題】安定した状態で基板の受け渡しを行う。
【解決手段】基板を処理する第１処理部と、第２処理部と、第１処理部から第２処理部に基板を受け渡す基板受渡し部４０とを備え、基板受渡し部４０は、第１処理部の下流端と第２処理部の上流端との間に設定される仮想の公転軸と、この公転軸周りの公転軌道上に配置されて基板を支持する複数の基板支持架台４３と、基板支持架台４３を公転軌道上で公転させる駆動手段４２とを有し、駆動手段４２により公転軸回りに公転する複数の基板支持架台４３の１つが第１処理部の下流端に対向する位置にあるとき第１処理部の下流端から基板支持架台４３へ基板を受け渡す一方、駆動手段４２により公転軸回りに公転する基板を支持した複数の基板支持架台４３の１つが第２処理部の上流端に対向する位置にあるとき基板支持架台４３から第１処理部の下流端へ基板を受け渡すべく構成されている。 （もっと読む）

【課題】洗浄液や処理液の活性度を高めることによって、洗浄能力や被膜除去能力を大幅に向上させることができる。
【解決手段】基板Ｗに供給された洗浄液Ｓに対してＵＶ照射部３１から紫外線を照射する。このときオゾンを含む洗浄液Ｓは紫外線が照射されたことによって、“O₃ → O(³p)＋ O₂ ”のような励起状態をとり、低エネルギーで酸素ラジカルを得ることができる。したがって、酸素ラジカルを容易に発生させることができ、洗浄液Ｓの活性度を高めることができて、洗浄能力を大幅に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 処理液の液流をコントロールすることにより、洗浄，エッチング処理の均一性の向上を図れるようにし、また、周辺部の洗浄，エッチング量の向上を図れるようにすること。
【解決手段】 半導体ウエハＷを起立状態に保持するウエハ保持体３０と、ウエハ保持体によって保持されたウエハを収容する処理容器１０と、処理容器内に処理液を供給する処理液供給ノズル４０とを具備し、処理液供給ノズルを、水平方向を軸に回転及び又は揺動可能に形成する。これにより、処理容器内に供給される処理液の液流をコントロールすることができる。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム合金製の感光ドラム基体を効率的に洗浄する方法および装置を提供する。
【解決手段】 引抜加工により所望の内外径に加工し、所望の長さに切断し、洗浄する工程を有しているもので、その洗浄工程が、駆動ローラー５３及びフリーローラー５１、５２にアルミニウム合金製感光ドラム基体１を横向きでその中心軸を角度θ傾斜させて載置し回転させながら内面スプレーノズル２０及び外面スプレーノズル２２をより洗浄液を噴射させて洗浄するものであり、脱脂洗浄液が食塩水を電気分解してマイナス極側に生成するアルカリ性電解水を用いているアルミニウム合金製の感光ドラム基体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 気泡を除去して基板に付着するパーティクルを低減させることができる基板処理方法およびその装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 内槽１１に貯留された処理液に基板を浸漬させると、微小気泡（マイクロバブル）Ｍｂが大量に発生する。基板が浸漬している状態で、窒素ガスノズル２６が処理液面に窒素ガスを供給して、液面にある気泡Ｍｂをその窒素ガスが内槽１１から外槽１２へ導く。窒素ガスが気泡Ｍｂを内槽１１の外部へ導くことで、気泡Ｍｂを内槽１１から除去することができる。また、基板が浸漬している間において気泡Ｍｂが外槽１２へ導かれるので、内槽１１の処理液から基板を引き上げる際に基板に付着するパーティクルを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】 各種の薬液処理、水洗及び乾燥処理を同一の処理槽で処理できるようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】 上方に開口部を有する箱型の処理槽１１と、この処理槽の開口部を開閉自在に覆う蓋体２１とを備えた基板処理装置において、前記蓋体２１は、その内部に被処理基板Ｗを収容して乾燥する乾燥室２３が形成され、前記処理槽１１は、前記箱型を構成する対向各側壁面に、それぞれ少なくとも３本の処理液供給ノズル管１４ａ〜１４ｃ、１４ａ'〜１４ｃ'が所定間隔をあけて水平に配設され、これらの供給ノズル管１４ａ〜１４ｃ、１４ａ'〜１４ｃ'は切換機構に接続されて対向する側壁側から交互に切り換えて処理液が供給される基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】排水性を向上させて反転装置を不要とし、装置全体の小型化を図ることができるシリンダヘッド洗浄装置を提供する。
【解決手段】
エンジンのシリンダヘッドＷをカムシャフト回転中心軸線Ｌが鉛直方向に延在する起立姿勢状態でパレット３１上に載置し、搬送装置４により洗浄ブース２内に搬入して洗浄装置２１により洗浄する。これにより、洗浄装置２１によってシリンダヘッドＷに吹き付けられた洗浄液をシリンダヘッドＷの下方に向かって積極的に流れ落とし、洗浄液がシリンダヘッドＷ内に残留するのを防ぐことができる。したがって、洗浄液の排水性を向上することができ、従来の反転装置を省略することができ、シリンダヘッド洗浄装置１全体の大きさを小型化することができる。また、洗浄液がシリンダヘッドＷ内に貯まった状態で洗浄ブース２から外部に持ち出されたり、周囲に飛散して他の装置に不具合を生じさせるのを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】 純水もしくは洗浄液を汚染することなく効果的に加熱する液体加熱装置および液体の加熱方法と、この加熱方法を利用した洗浄装置および洗浄方法とを提供する。
【解決手段】 純水を溜めた密閉状態の純水槽５の、上方、側方、あるいは下方のうち少なくとも一方からマイクロ波を照射することにより、非接触で純水を加熱する。 （もっと読む）

【課題】 レンズ表面の曇り及び液浸時に付着したコンタミを除去すること。
【解決手段】 照明光学系２０と、光学レンズ系３３と、半導体基板１０を搭載する試料台３７を移動させるためのステージ３４と、光学レンズ系３３と半導体基板１０との間に液体の層を形成するための水注入・回収器３６と、液体が接触する部位の洗浄を洗浄液によって行う洗浄機３８とを具備してなる。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の処理液の温度分布を略均一にすることにより、良好な基板処理を可能とする基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液調合槽５０のヒータ５３および処理槽２０のヒータ２９によってエッチング液の液温をエッチング温度に加温して維持する。また、エッチング温度以上のガス吐出温度に維持された窒素ガスを窒素ガス供給ノズル１２から処理槽２０の上部付近に向けて供給する。これにより、エッチング液２１からの熱移動を補償でき、エッチング液２１の各部分における温度分布を略均一に維持できるため、良好なエッチング処理を実行できる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄時の洗浄液等の外部への飛散を防止して外部周辺機器類等が腐食するのを抑制すると共に、洗浄処理の効率の向上を図れるようにした洗浄処理方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】 被洗浄体であるチャック３０と、洗浄液を噴射する２流体供給ノズル５０とを相対的にチャック３０の保持部材３１〜３３に沿って水平方向に移動して、保持部材を洗浄する洗浄処理方法において、２流体供給ノズルに対して少なくともチャックへの洗浄時の移動方向側に、保持部材が挿通可能な陽圧室４００を形成し、２流体供給ノズルから洗浄液を保持部材の保持溝３１ａに向かって噴射する間、陽圧室内に気体を噴射して陽圧室内を陽圧状態にして、洗浄液等の外部への飛散を抑制する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄処理をより効果的に、かつ均質に行うことを可能とした洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハＷ等の基板に洗浄処理を施す洗浄処理装置、例えば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａは、ウエハＷを略水平に保持して面内回転させる保持手段であるスピンチャック７１と、スピンチャック７１に保持された基板の上面を洗浄するブラシ７６ａ・７６ｂ等の洗浄手段と、ブラシ７６ａ・７６ｂを保持するブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂと、ブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂをブラシ７６ａ・７６ｂがスピンチャック７１に保持されたウエハＷ上の所定位置を移動するように駆動するアーム駆動機構７９ａ・７９ｂとを具備する。カップ７３の外側の所定位置には、２本のリンスノズル８６ａ・８６ｂが配設されており、それぞれウエハＷの所定位置に洗浄液またはリンス液を供給してウエハＷ上に液膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】塗工幅の調整を行え、分解することなくダイ内部の洗浄を簡単且つ容易に行う。
【解決手段】ダイコータ１は、マニホールド８とスリット９と液溜め部１０を有するダイ内部を備えている。ダイ内部の塗工幅方向両側に側板１１、１１を設けた。ダイ内部に一対の中子１４を収容して液密に仕切ると共にダイ内部を摺動可能とした。中子１４によって塗工液の塗工幅を設定する。マニホールド８内の中央に供給口１９を、側板１１，１１に孔部２０ａ、２０ｂを設け、洗浄液を供給・排出することで中子１４をダイ内部で往復移動させて洗浄する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、医療対象物のような対象物を殺菌するための殺菌装置に関する。
【解決手段】殺菌装置は、殺菌チャンバー（８）と、少なくとも１つの洗浄用通路（１）が設けられた通路システム（３）と、を備え、前記洗浄用通路は洗浄液をノズル（２）に搬送するよう構成され、このノズル（２）は実質的に横方向に向いており洗浄液を前記殺菌チャンバー（８）内で散布するようになっている。前記ノズル（２）を支持する前記洗浄用通路（１）は、迅速に着脱可能な連結器を有しており、当該連結器は少なくとも一端が通路システム（３）の静止部分にかみ合うよう協働するようになっている。
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