【課題】回転ロールを洗浄するための洗浄液の消費量を低減する。
【解決手段】回転ロール９０の最上部の基点Ｐから，回転方向Ｆに２７０°から３００°回転した位置に，第１のブロック１１０が設けられ，その後方側に第２のブロック１３０が設けられる。第１のブロック１１０により，回転ロール９０との間に狭小の隙間Ｄが形成され，その表面１１０ａに洗浄液吐出口１１１と吸引口１１２が形成される。第２のブロック１３０には，排気口１３１が形成される。回転ロール９０の下部側には，滞留部１４１と洗浄液誘導部１４２が形成された第３のブロック１４０が設けられる。洗浄時には，回転ロール９０を回転させた状態で，洗浄液吐出口１１１から隙間Ｄに洗浄液Ｈが吐出され，洗浄液Ｈが回転ロール９０の表面を伝って流れ，滞留部１４１で一旦滞留された後，洗浄液誘導部１４２を通って排出される。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、十分な洗浄力を有し、短時間に多数のガス容器を効率的に洗浄することが可能なガス容器洗浄装置を提供する。
【解決手段】稼働中停止中によらず、平面視において搬送面２６の同じ位置に空間部２８を有する搬送コンベヤ２０と、搬送コンベヤ２０を覆う搬送方向が開口する第１覆い体４０と、前記第１覆い体４０に覆われた前記搬送コンベヤ２０の搬送面２６の空間部２８の下方に、先端部が搬送面２６よりも僅かに低い位置に取付けられ、洗浄水を上方向に噴射し主に前記ガス容器３の底面８に洗浄水を吹付ける底洗浄ノズル５２、及び前記第１覆い体４０内に取付けられ、洗浄水を下方向に噴射し主に前記ガス容器の上鏡板部１１に洗浄水を吹付ける上洗浄ノズル５６を有する洗浄ノズル５０と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 網板にへばり付いた被洗浄食品を剥離させると共に、被洗浄食品を均一に分散させ、これにより浮遊ゴミを確実に除去させることができ、かつエアー噴出間からの気泡を均一に浴びせて洗浄効果を十分に向上させることができるようにした食品洗浄装置の提供。
【解決手段】 搬送洗浄路３の途中に移送方向に対して直交す方向に仕切板７が昇降可能に設けられ、この仕切板の下部に搬送洗浄路の水流を遮る遮断面部７１が形成され、上部に被洗浄食品Ａを受け止めながら浮遊ゴミ等を水流と共に通過させる網部７０が形成され、仕切板の手前側に気泡噴出空間７５を保持して網板７６が設けられ、この気泡噴出空間の下部に、気泡を網板に沿って上昇させるようにエアーを噴出させる剥離用エアー噴出管９が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 ポッドシェルの金属による汚れを除去できるポッドシェル洗浄装置及びポッドシェル洗浄方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るポッドシェル洗浄装置は、ポッドシェルを洗浄する洗浄槽４と、前記洗浄槽内に配置され、前記ポッドシェルをその開口部を下方に向けて保持するベース３６と、前記ベースを駆動ギア４５を介して回転させるモーター３４と、前記ベース上に配置され、該ベースに保持された前記ポッドシェルの内面に薬液及び純水を噴射するノズルと、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ウェットユニットからの液体の防止できる搬送処理装置を提供する。
【解決手段】 減圧チャンバー２０の搬出口２３の上下方向の寸法は、上縁部が基板Wの表面に供給された液体（現像液）に接触しない範囲で低く設定されている。その結果、基板Wが搬出口２３を通過する際には基板W上面と搬出口２３の上縁との間の隙間が小さくなり、且つ減圧チャンバー２０内は陰圧なので、外気が基板W上面を伝って減圧チャンバー２０内に勢いよく入り込み、基板Wの表面に盛られている現像液は、気流によって基板の長辺から流れ落ち、流れ落ちた現像液は回収口２４を介して回収される。 （もっと読む）

【課題】 設置スペースをコンパクト化することのできるワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を貯溜した洗浄液タンク１４と、前記洗浄液タンク１４内外へ移動される昇降体１７と、昇降体１７に設けられかつ前工程から送られてくるワークを受入れかつそのワークを後工程へ排出可能に作動するシャッター装置３４，３６とを備える。シャッター装置３４，３６を設けた昇降体１７を洗浄液タンク１４内外へ移動させる構成としたことにより、従来のコンベアタイプのものと比べて、設置スペースをコンパクト化することができる。 （もっと読む）

【課題】金属部品の洗浄に使用する灯油の廃油量を削減するとともに資源の無駄を防止し、安全かつ簡便に金属部品を洗浄することができる金属部品洗浄装置、並びに、その装置を備えた移動可能な台車、及び、その装置を含む金属部品洗浄キットなどを提供すること。
【解決手段】金属部品を洗浄するための灯油を収容する密閉可能な容器と、前記灯油内に乱流を発生させる乱流発生手段と、前記乱流を発生させて前記金属部品を洗浄することにより浮遊する浮遊物を除去する浮遊物除去手段と、前記容器内に発生する油霧又は油煙を除去する油霧除去手段と、を備える金属部品洗浄装置は、洗浄液である灯油の廃油量を削減するとともに資源の無駄を防止し、安全かつ簡便に金属部品を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板表面の微細なパーティクルを十分に除去し、基板表面の洗浄力を向上させることが可能な基板洗浄装置及び基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｗの回転中止Ｐａを中心として回転させられている基板Ｗの表面上に、洗浄ノズル７より液滴の洗浄液が吐出される。洗浄ノズル７は、その胴部７ｂに空気を吐出する気体吐出ノズル１００と、純水を吐出する液体吐出ノズル２００が配置される。気体吐出口１０１から吐出された空気と液体吐出口２０１から吐出された純水は、その衝突部位Ｇでの入射角度αが０度以上で１１０度以下の範囲に設定される。そして、空気と純水が空中にて混合し、噴霧状となした液滴の洗浄液にて基板面が洗浄される。 （もっと読む）

【課題】 基板を処理するときの水平面に対する基板の角度を容易に変更することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理槽３３には、処理空間３８が形成される。この処理空間３８には、基板保持部３４と、第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂと、第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂとが設けられる。基板保持部３４は、処理空間３８内で、基板３２を保持する。第１および第２洗浄液噴射ノズル４１ａ，４１ｂは、基板３２に洗浄液を噴射する。第１および第２乾燥用気体噴射ノズル４２ａ，４２ｂは、基板３２に乾燥用気体を噴射する。姿勢変化手段３７は、処理槽３３の姿勢を変化させる。処理槽３３の姿勢が変化すると、処理槽３３の処理空間３８に設けられる基板保持部３４および各ノズル４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂの姿勢も変化する。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】イオン注入処理の後の基板からレジストを剥離するために、その基板は、まず、蒸気処理部１に搬入される。蒸気処理部１では、基板の表面にＩＰＡベーパが供給されて、基板の表面上のレジストの表面に形成されている硬化層が溶かされる。その後、基板は、蒸気処理部１からレジスト剥離処理部２へ搬送される。レジスト剥離処理部２では、基板の表面にレジスト剥離液が供給される。レジスト表面の硬化層は、蒸気処理部１における処理により溶かされているので、基板の表面にレジスト剥離液が供給されると、その基板の表面からレジストが良好に除去される。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構造で小型化でき、安価な部品で構成でき装置全体のコストを低減できる湿式処理装置を提供する。
【解決手段】 被処理物１を洗浄槽１９の上部に搬送して槽内に浸漬させて洗浄する湿式処理装置であって、洗浄槽１９と、この洗浄槽１９の上部で昇降可能に設けて中央部が開口して洗浄槽１９が開口した中央部を通過するように周囲に枠状に延在した上下動板１２と、上下動板１２に着脱可能に設けて推力を伝達する昇降手段１４と、上下動板１２の上部両側に設けた搬送手段１６と、この搬送手段１６を駆動させる駆動源１８と、上下動板１２の搬送手段１６に載置して搬送する側部と上部とを一体成形した枠体２２を設けてこの枠体２２の上部から中央に被処理物１を吊した状態に設置する設置部２４を有し上下動板１２の降下時に中央部を通過する洗浄槽１９内に設置部２４のみを浸漬させる搬送冶具２０とを備える。 （もっと読む）

パーツウォッシャー１０は、キャビネット１２と、プラットフォーム１４と、液体ディストリビュータ１６と、連結装置１８と、駆動システム２０とを有する。プラットフォーム１４は、キャビネット１２の内部に配置され、洗浄されるべき物品を支持する。ディストリビュータ１６は、キャビネットの内部でプラットフォームの一方の側に向いて設置され、プラットフォーム１４の回転軸に対してほぼ半径方向に向けて液体を放つ少なくとも１つのアウトレット２６を備える。連結装置１８は、ディストリビュータ１６が少なくとも２つの自由度で動くように、ディストリビュータ１６をキャビネット１２の内部に連結している。より詳しくは、連結装置１８は、ディストリビュータ１６の、傾き、回転、上下の動きの組み合わせを含む複合の動きを可能とする。
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【課題】ミストとなる洗浄液の利用効率を向上させることができる基板洗装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る基板洗浄装置は、基板１を載置するステージ１０と、ステージ１０に載置された基板１の上方に位置し、該基板１の上面全面を覆うカバー部材２０と、カバー部材２０に設けられ、ミスト化した洗浄液をガス中に分散させたミスト分散ガスを基板１に吐出する吐出口２２ａと、を具備し、吐出口２２ａからミスト分散ガスが吐出された状態において、カバー部材２０の下面と基板１の上面との間の空間１ａは、ミスト分散ガスで充填される。 （もっと読む）

【課題】処理液の液滴が基板上において所定の処理空間よりも外側に飛散することを防止する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理液の液滴をキャリアガスと共に基板９に向けて噴出する液滴噴出ノズル２、基板９の移動方向の両側において液滴噴出ノズル２の液滴噴出口２１に平行に伸びる遮蔽ガス噴出口４１を有する遮蔽ガス噴出ノズル４、および、遮蔽ガス噴出ノズル４の液滴噴出ノズル２側に配置されて処理液の液滴を吸引する処理液吸引ノズル３を備える。基板処理装置１では、液滴噴出ノズル２からの処理液の液滴噴射領域が、基板９上において遮蔽ガス噴出ノズル４からの遮蔽ガスの噴流により囲まれているため、液滴噴出ノズル２から噴出された処理液の液滴が、基板９上において、遮蔽ガスの噴流に囲まれる処理空間よりも外側の領域に飛散することを防止することができる。また、使用済みの処理液を効率良く回収することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液の液滴の飛散を抑制するとともに処理液を効率良く回収する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理液の液滴をキャリアガスと共に基板９に向けて噴出する液滴噴出ノズル２、基板９の移動方向に関して液滴噴出ノズル２の両側に配置されるとともに液滴噴出ノズル２から基板９に噴射された処理液の液滴を周囲のガスと共に吸引する２つの処理液吸引ノズル３、および、液滴噴出ノズル２の下端部に形成された液滴噴出口２１よりも基板９側において基板９に沿って液滴噴出ノズル２の周囲に広がる平板状の遮蔽板４を備える。基板処理装置１では、液滴噴出ノズル２から噴出された処理液の液滴が、遮蔽板４と基板９との間の処理空間から外側に飛散することが抑制されるとともに処理液吸引ノズル３により、処理空間内の処理液の液滴を効率良く吸引して回収することができる。 （もっと読む）

【課題】設置環境にかかわらずチャンバ内を効率よく所定の圧力に制御することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置１は、薬液処理を行うときには、スライドドア１５ｂを閉鎖して薬液処理室１２内を密閉する。そして、薬液処理室１２内の圧力を計測し、その計測結果に基づいて薬液処理室１２内の圧力を調節する。このため、基板処理装置１の設置環境にかかわらず、薬液処理室１２内を所定の圧力に制御できる。また、薬液処理室１２は、チャンバ１０内に部分的に形成された領域である。このため、最小限の領域を対象として、効率よく圧力を制御できる。 （もっと読む）

【課題】 被処理物が洗浄液によって汚染されるのを防ぐことができる枚葉式洗浄処理装置、及びこれを用いた板状の製品の製造方法を提供する。
【解決手段】 ウェーハ回転台１１に載置された半導体ウェーハ（被処理物）６に所定の洗浄処理を施すウェーハ洗浄槽１と、ウェーハ洗浄槽１に連設されるとともに、洗浄処理後の半導体ウェーハ６をウェーハ洗浄槽１の内部から外部に導出するためのウェーハ導入槽（導出槽）２と、ウェーハ洗浄槽１とウェーハ導入槽２との間に設けられた開口部１０ｂを開閉するシャッター機構１０とを設ける。さらに、ウェーハ導入槽２の上部に設けたＦＦＵ（付着防止機構）１５を用いて開口部１０ｂの気流を制御することで、開口部１０ｂを通して、ウェーハ洗浄槽１からウェーハ導入槽２に洗浄処理後の半導体ウェーハ６を搬出する場合に、ウェーハ洗浄槽１内部で使用された洗浄液が半導体ウェーハ６に付着するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板を挟持部材付近からの液跳ねを最少にして被処理基板の処理能力を上げると共に、高品質の処理ができる枚葉式基板処理装置を提供すること。
【解決手段】
枚葉式基板処理装置は、被処理基板を挟持する複数本のチャックピン１５が外周囲に所定間隔で配設された円盤状の回転テーブル３と、この回転テーブル３に挟持された被処理基板Ｗを覆う回り込み防止部材１６と、回転テーブル３に連結されてこのテーブルを回転させる駆動回動機構４と、被処理基板に処理液を供給する処理液供給管６とを備えている。
チャックピン１５は、被処理基板Ｗを挟持するクランプ部１５ｂと、このクランプ部１５ｂの頂部から延びた円錐状に尖った針状部１５ｃとで形成されている。 （もっと読む）

【課題】処理液のミストの拡散を抑制または防止して、基板処理品質を向上する。
【解決手段】基板Ｗはスピンチャック２１に保持されて回転される。基板Ｗの上方には、遮蔽板２２が配置されている。基板Ｗの側方は、スプラッシュガード２４によって取り囲まれている。このスプラッシュガード２４の開口部２４ａは、側方から挿し入れられた処理液ノズル６６を通すことができる閉塞時隙間Ｃ１をもって、遮蔽板２３によって遮蔽される。処理液ノズル６６からは、たとえば、ＳＰＭ液（硫酸過酸化水素水）が供給される。スプラッシュガード２４および処理カップ２２によって形成される処理容器２０の内部は、排液・排気管３４を介して排気されている。遮蔽板２３の遮蔽位置は、閉塞時隙間Ｃ１において処理液容器２０の内方に向かう所定の制御風速範囲の気流が生じるように定められている。 （もっと読む）

【課題】内部空間を有する被洗浄物の内部を３次元的に洗浄することが可能であり、その洗浄作用を向上して、隅々まで的確な洗浄効果が得られるように改良した内部洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体流通路１７を有し軸回転可能に設けられた回転軸１５と、液体流通路１７に接続する液体流通路３４を有し、回転軸１５に略直交する方向に設けられ、回転軸１５を中心とする旋回及び軸回転可能に設置された旋回回転軸２８と、旋回回転軸２８の先端部に設けられたノズル２９とを備え、被洗浄物の内部空間内にノズル２９を挿入して洗浄を行う内部洗浄装置において、回転軸１５に設けた気体流入口３６から回転軸１５及び旋回回転軸２８の液体流通路１７，３４に沿って気体流通路１８，３５を設け、被洗浄物の外部から供給された気体をノズル２９から噴射される液体と混合して気液混合流として噴射する。 （もっと読む）