【課題】 簡易な構成でありながら、物品搬送容器の洗浄むらを低減できる物品搬送容器用洗浄装置を提供する。
【解決手段】 物品搬送容器用洗浄装置１は、洗浄室１０内に回転可能に設けられ、物品搬送容器６０を支持可能な支持枠体２０と、前記支持枠体２０に支持された物品搬送容器６０に洗浄用の液体５０を供給する洗浄機構部とを備えている。前記洗浄機構部が、洗浄用の液体５０を噴出するノズル機構３０と、前記ノズル機構３０を前記支持枠体２０の周囲に常時近接する方向に弾性的に付勢支持する支持機構４０とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
加工作業により被加工物に付着残留した加工油を簡易な方法により減量除去し、これを再利用可能とするとともに、被加工物の洗浄のために必要となる洗浄溶剤を少なくするか又はゼロとすることにより、ランニングコストを低くするとともに、地球環境への負荷を軽減する。
【解決手段】
被加工物12の加工作業に使用した加工油と同じ加工油4を、前記加工作業時の油温よりも高温に加熱して粘度を低下させ、この加熱した加工油4を、前記加工作業により加工油が付着した被加工物12に接触させることにより、被加工物12に付着している加工油の粘度を低下させ、その付着量を減少させる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造に用いる基板、例えばフォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、あるいはそれらの製造中間体等を洗浄した場合に、異物の発生を極めて少なくすることができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも、超純水により基板を洗浄する際に超純水を噴出するための超純水噴出ノズルと、該超純水噴出ノズルから超純水を噴出して基板の洗浄を行う基板洗浄室とを有する、基板の洗浄を行うための洗浄装置であって、少なくとも、超純水による基板の洗浄の前後の待機中に前記超純水噴出ノズルを待機させるための、前記基板洗浄室とは隔壁により仕切られた超純水噴出ノズル待機室を有し、該待機室は、排水機構と前記超純水噴出ノズル待機室から前記基板洗浄室へのミスト拡散防止機構を具備するものであることを特徴とする基板の洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】船上で養殖貝の洗浄作業を行うとき、洗浄中の養殖貝の安定と、養殖貝を吊下げた養殖紐を確実に保持して移動させること。
【解決手段】洗浄装置の本体正面上下方向に設けた点検口１０、１１に蓋板をそれぞれ着脱可能に取付け、前記本体３の出口側７に取付けた排出シュータ２５の底面中間に、貝止め板と貝受舌部を有した貝回収口を設け、前記搬送コンベア２８と保持コンベア４６の無端ベルト部２９、４７を構成する連結片に、それぞれ互い違いに向かい合わせて係止突部を一体に形成し、養殖貝を多数吊下げた養殖紐を、前記本体の入口側６から搬送コンベア２８に着脱可能に取付けて出口側７に移動可能に形成し、前記洗浄面４０に送られた養殖貝を無端ベルト部２９、４７の連結片に設けた係止突部で上下方向から保持して移動させながら洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成および制御で、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物を効果的に洗浄する。
【解決手段】洗浄槽３には、洗浄液が貯留され、その洗浄液に被洗浄物２が浸漬される。減圧手段５は、洗浄槽３内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽３内を減圧する。加熱手段７は、洗浄槽３内の洗浄液を加熱する。給気手段６は、被洗浄物２よりも下方から洗浄槽３内の洗浄液中に気体を導入する。加熱手段７により洗浄液を設定温度まで加熱した後、減圧手段５により洗浄槽３内を減圧して洗浄液を沸騰させ、この沸騰中に給気手段６により洗浄液中に気体を導入する。これにより、洗浄液を激しく沸騰させて、被洗浄物２の洗浄効果を増すことができる。 （もっと読む）

【課題】装置全体の小型化に寄与するとともに、高さの異なるコンテナを混在して洗浄する場合であってもコンテナを適正な力で押さえることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】装置本体４内に配置された被洗浄物の載置台２４と、載置台２４を水平方向に回転させる回転駆動手段２６と、外力が加えられることにより、装置本体４の操作用開口１０を閉塞あるいは開放のいずれかの位置に移動する扉体１６と、を備えた洗浄装置であって、扉体１６の天井部裏面に、扉体１６の移動とともに上下方向に移動し、その扉体１６が上方位置から下方位置に移動する第１の移動を行なうときに、載置台２４に配置されたコンテナ１７の上面に押さえ部材３２が当接し、扉体１６が下方位置から上方位置に移動する第２の移動を行なうときに、載置台２４に配置されたコンテナ１７の上面に対する押さえ部材３２の当接を解除する押さえ手段３０と、が具備されていることを特徴としててる。 （もっと読む）

【課題】コンパクトな構成ながら、洗浄ムラや乾燥ムラを有効に抑制できる洗浄装置、乾燥装置及び洗浄システムを提供する。
【解決手段】シャッター１３により開口１１，１２を遮蔽した後、バルブＶ１を開放すると、チャック２０に固定された部品Ｗ（ここでは洗浄物）に対して、細孔３１ｅ、３１ｆと細孔３１ｇ、３１ｈを介して、液体供給源ＷＰから供給された温水が連続的に噴射される。又、バルブＶ２を周期的に開閉することで、細孔３１ｉ、３１ｊと細孔３１ｋ、３１ｍを介して、空気圧源ＡＰから供給された空気が間欠的に噴射される。これにより、空気と温水とが混じり合った状態で、部品Ｗの表面が洗浄されるので高い洗浄効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】比較的少ない量の洗浄液で攪拌機の洗浄を行うことのできる攪拌機の洗浄用装置を提供する。
【解決手段】回転駆動源に連結された回転駆動軸及び回転駆動軸に固定された攪拌翼を有する攪拌機を洗浄液によって洗浄するために用いられる攪拌機の洗浄用装置において、隙間を隔てた内筒及び外筒を有し洗浄液が収容される二重構造容器体と、二重構造容器体の下方側に設けられ内筒の内側空間と隙間とを連通する下側開口部と、二重構造容器体の上方側に設けられ内筒の内側空間と隙間とを連通する上側開口部と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板のベベル部および基板裏面を短時間で、しかも良好に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】遮断部材５が基板Ｗの表面Ｗｆに近接して対向配置された状態で基板Ｗの上面ベベル部に第１処理液が供給されてベベル洗浄が実行される。このベベル洗浄中に裏面処理ノズル２から第２処理液が基板裏面Ｗｂに供給されて裏面洗浄が実行される。また、遮断部材５の下面周縁部に段差部ＳＴが形成されており、環状部５０ｂに付着した処理液などが基板対向面側に移動しようとしても、当該移動は段差部ＳＴにより阻止される。その結果、基板対向面５０ａと平面領域ＦＰの間に液密層が形成されるのを確実に防止する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の漏洩ロスや大気の吸引を可及的に低減して、より環境に優しく、安全で経済性を向上する。
【解決手段】洗浄液を用いて被洗浄物の洗浄を密閉可能な容器１中で行う密閉型洗浄装置において、前記容器１に設けられ前記被処理物を出し入れする搬入出口７と、前記搬入出口７に設けられる蓋１８と、前記搬入出口７の周囲に沿って配置される気密部材と、前記蓋１８を開閉する蓋開閉手段と、前記蓋１８が閉状態のとき、前記気密部材を介して前記蓋１８を前記搬入出口７の周囲に所定圧力で押圧することにより前記容器１を密閉状態とし、前記押圧を解除することにより前記容器１を非密閉状態とする蓋押圧手段と、前記密閉状態の容器１内の圧力変動を吸収するアキュムレータ８と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬して、洗浄槽内の減圧と復圧とにより被洗浄物の洗浄を図る洗浄方法において、被洗浄物が管状部を有していても、その管状部内の洗浄を効果的に図る。
【解決手段】被洗浄物４は、管状部３の一端に洗浄補助具１を設けて、洗浄を図られる。洗浄補助具１は、洗浄槽８内の減圧時に洗浄液の沸騰による蒸気を溜める一方、洗浄槽８内の復圧時に前記蒸気の凝縮により、管状部３を介して洗浄液の流入を受ける。洗浄槽８内の減圧と復圧とにより、被洗浄物４の管状部３に洗浄液が流通するので、被洗浄物４の管状部３内は効果的に洗浄される。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を搬送するための搬送ユニットを処理槽内に容易かつ精度よく設置することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】処理槽１は、矩形状の下部フレーム２の四隅部に下端部が連結されて立設された支柱部材４と、支柱部材の上端部に四隅部が連結されて設けられた上部フレーム３と、支柱部材の高さ寸法に対応する間隔で上下方向に離間した下部フレームと上部フレームとがなす４つの側面に設けられ所定方向に位置する一対の側面の一方に上記基板の搬入口が形成され他方に上記基板の搬出口が形成された側壁部材１１と、下部フレームに所定間隔で架設されそれぞれの上面に第１の基準面１８が形成された複数の連結部材９と、第１の基準面を基準にして取付けられ搬入口から内部に搬入された基板を搬出口に向かって搬送する搬送ユニット２９と、下部フレームの開口部分を閉塞する底部材２１ａ，２１ｂと、上部フレームの開口部分を閉塞する天井部材２５によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】
設置型洗浄機を置けない狭い厨房や、床面に洗浄液を流せない厨房内での配膳車に移動し、配膳車の側面や、扉、及び食品庫内を洗浄液で洗浄し、その排水を排水溝又は、排水層に流し込んで床面に洗浄液を飛散させないようにし、さらに、各部品を整理して収納できることにより、狭い厨房や、洗浄できない床面の厨房で使用出来る配膳車洗浄機。
【解決手段】
土台２の下に自在輪３と回転して開く自在輪を有する土台補助板５があり、配膳車保護板２０に密着できる水受け板１５とカーテン水受け板８が、水受け固定台１６に接続しており、カーテン水受け板８のワイヤー１２を固定するワイヤー固定金具１４と、スプリング１８を固定する第一固定板１７がそれぞれの側面支柱１３に固定されていて、側面支柱１３の上部には、カーテンを取り付けて回転及び上下して移動できるカーテン取り付けユニット２５と、上部支柱２４を備えていることを特徴とした配膳車洗浄機。 （もっと読む）

【課題】長尺フィルム等に対して、連続して均一な高圧処理を行える方法および装置の提供。
【解決手段】高圧処理チャンバー内でロール状に巻回された被処理体を繰り出して走行させながら超臨界または亜臨界状態の高圧流体と接触させて高圧処理を行った後、ロール状に巻回することを特徴とする連続高圧処理方法、および高圧処理チャンバーを備えると共に、高圧処理チャンバー内に、被処理体の繰り出し手段と、複数の送りローラと、処理体の巻き戻し手段とを備えたことを特徴とする連続高圧処理装置である。 （もっと読む）

【課題】 従来のワークの洗浄・乾燥装置は、ワークの多数の各洗浄・乾燥ポイントを、多数の水洗・乾燥ノズルで狙い、処理する構成である。多数のノズルを要し、洗浄装置・ノズル・配管等の複雑化、保守管理の複雑化と、装置の大型化と、複雑化等を招来する。また、洗浄・乾燥装置の複雑化、装置の大型化等を招来する課題があった。
【構成】 本発明は、複数のステーションと、遮蔽用の扉を備えたワークを順送りする回転テーブルと、洗浄・乾燥位置に設けた自転及び公転で遊星運動する上面洗浄・乾燥用のノズルを備えた上面洗浄・乾燥装置と、自転、及び上面洗浄・乾燥装置の公転による公転で遊星運動する対の側面洗浄・乾燥用のノズルを備えた側面洗浄・乾燥装置と、自転及び公転で遊星運動する下面洗浄・乾燥用のノズルを備えた下面洗浄・乾燥装置と、水・エアを供給する手段で構成したワーク洗浄装置。 （もっと読む）

【解決手段】 パレット洗浄システム２は、水平状態のパレット１を起立状態とする起立部Ｃと、パレットに洗浄液を噴射する洗浄部Ｄと、パレットに付着した洗浄液を脱水する脱水部Ｅと、パレットを乾燥させる乾燥部Ｆとを備えている。
このうち、上記乾燥部Ｆは、乾燥手段１９を備えた乾燥室２０と、複数の起立状態のパレットを所定間隔で保持して、該パレットを載置面に直交する方向に搬送する主コンベヤ（第７コンベヤ２２）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤにパレットを供給する供給コンベヤ（第６コンベヤ２１）と、主コンベヤの搬送方向に直交する方向にパレットを移動させて主コンベヤからパレットを排出する排出コンベヤ（第８コンベヤ２３）とを備えている。
【効果】 パレットの洗浄から乾燥までを効率的に行うとともに設置面積を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】吸着パッドに詰まったスラッジを確実に排出する。
【解決手段】支持部材（５３ａ）に支持されていて被加工物（２０）を吸着する吸着パッド（５１ａ）を洗浄する吸着パッド洗浄装置は、吸着パッドの内部から吸着パッドの吸着面（５２ａ）に向かって洗浄液を供給する洗浄液供給手段（５８）と、吸着パッドの吸着面において吸着パッドの内側領域を該内側領域周りの外側領域から封止可能に被覆する内側領域被覆部（３０）とを含む。また、チャックテーブル（１２ａ）は、被加工物を吸着する吸着パッドと、吸着パッドを支持する支持部材（５３ａ、５７）と、支持部材に形成されていて吸着パッドの内側領域周りに在る外側領域まで延びる外側領域通路（７１）と、洗浄液を外側領域通路に通して吸着パッドの吸着面に向かって供給する洗浄液供給手段と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基材に残留する微小導電性金属酸化物を除去する。
【解決手段】それぞれの対向面に絶縁膜１３ａａ，１３ｂａを形成した正負電極１３ａ，１３ｂを、基材１２との相対移動方向に順に配置した平板状電極体１３の外周部を絶縁体１３ｃで覆う。正負電極１３ａ，１３ｂと、両絶縁膜１３ａａ，１３ｂａの、それぞれの基材１２と対向する端面の面積Ｓ1、Ｓ2、Ｓ3の比を、Ｓ1／Ｓ2＝０．８〜１００、Ｓ2／Ｓ3＝０．０１〜１．１５とする。前記平板状電極体１３の端面を、基材１２に対向すべく，複数個隣接配置する。この平板状電極体１３と基材１２間に電解液１４を介在させた状態で、正負電極１３ａ，１３ｂに電圧を印加しつつ、平板状電極体１３と基材１２とを相対移動させ、基材１２の表面に残留する微小な導電性金属酸化物１２ａを還元反応により除去する。
【効果】微小導電性金属酸化物を、基材の全面に亘って効果的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの表面に付着した数μｍという非常に微細な埃、フィルム片、汚れまでも連続的に除去することができるフィルムの洗浄システムを提供する。
【解決手段】走行するフィルム１２に、洗浄液を用いて洗浄を行う洗浄部３６と、洗浄した前記走行するフィルムの乾燥を行う乾燥部３８と、を備え、洗浄部３６は、フィルム１２を走行させながら該フィルム表裏面の少なくとも一方の面側に洗浄液を供給することにより、少なくとも一方の面に沿った水流で洗浄する構造であるようにする。 （もっと読む）