【課題】構成の簡素化を図りながら、グリル庫内の清掃を簡易に行うことができるグリルの提供。
【解決手段】加熱手段を備えたグリル庫１０が設けられ、グリル庫１０内の汚れに対する蒸気の噴き付けにより汚れを洗い流す汚れ洗浄手段１６と、汚れ洗浄手段１６により洗い流した後の汚れ液を吸引する汚れ液吸引手段１７とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】 多数の容器を使用する工場において、容器乾燥装置の前工程として必ずあった容器洗浄装置の設置場所の確保が必要であった。
【解決手段】 扉部１３を有する外装部１２を有し、外装部１２の内部に積層された容器Ｃを載置するターンテーブル１と、ターンテーブル１の上部にターンテーブル１の回転中心から同距離で対向する位置に２本づつ立設させるコラム２と、クランプ部４を開閉するクランプ開閉用シリンダー６と、ターンテーブル１から間隔を有した外周に外周方向において略等間隔に垂直方向に複数の洗浄管２０を立設し、各々の洗浄管２０は上下方向に複数ほぼ等間隔に洗浄ノズル２１を内側に向かって設けた容器洗浄遠心乾燥機Ａを有する容器洗浄遠心乾燥装置による。 （もっと読む）

【課題】純水洗浄の省略が許容される被洗浄物を洗浄する装置において、洗浄時間が長くなるのを防止しつつ洗浄液の長寿命化を図る。
【解決手段】外側容器１４と、外側容器１４内に配設され、洗浄液が貯溜されるとともに被洗浄物Ｗを出し入れ可能な開口部が設けられた内側容器３８と、被洗浄物Ｗに付着した洗浄液が蒸発する程度に外側容器１４の内部を減圧させるための減圧手段２０と、洗浄液を浄化するためのフィルタ５８と、内側容器３８の開口部を気密状に塞ぐための蓋５２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】粉塵対策が十分で、広い作業スペースを要しない加工装置及び加工方法を実現する。
【解決手段】作業者は、天井の加工対象箇所にカップ状の防塵ユニット２０を被せて覆い、この防塵ユニット２０の縁を天井と隙間無く密着させる。作業者は、除塵機３０と、蒸気発生器又はミストポンプと、の電源をＯＮして開口部を湿潤する。作業者は、電動ドリル本体５０の電源をＯＮして、開口工具２１を回転、上昇させ、天井に穴を開ける。作業者は、洗浄水ポンプの電源をＯＮして防塵ユニット２０内の粉塵を洗い流す。作業者は、防塵ユニット２０を天井から離す。防塵ユニット２０が天井から離れると、絞りリング８０はシャッターを閉じる。作業者は、防塵ユニット２０等を片づけ、必要であればＨＥＰＡフィルターを交換する。 （もっと読む）

【課題】ウエブ状の被洗浄物に洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、噴出ノズルから噴出する気体で除去する際に、除去した洗浄液の液滴やミストが被洗浄物に再付着することを防止できる。
【解決手段】搬送されるウエブＷの表面に洗浄液Ｌを吹き付ける洗浄液吹き付けノズル３０と、ウエブＷの搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出してウエブ表面に残存する液膜Ｌ１を除去する気体噴出ノズル３２と、の間に遮風壁３４を設けた。 （もっと読む）

【課題】テーブルが回転するタイプの枚葉式洗浄装置で被洗浄物の表裏面を洗浄する際、裏面用ノズルから供給された洗浄液が回転するテーブルにより被洗浄物に再付着することを抑制できる枚葉式洗浄装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、アーム６及び複数のピン７で被洗浄物５を水平に保持するテーブル２と、該テーブルをその中心軸で回転させる回転駆動部３と、被洗浄物５の表面を洗浄液で洗浄する表面用ノズル１４と、被洗浄物５の裏面を洗浄液で洗浄する裏面用ノズル４とを具備する枚葉式洗浄装置１であって、裏面用ノズル４から吐出した洗浄液を受ける受け皿１０が、裏面用ノズル４のアーム６から突出している部分に設置され、該受け皿１０が受けた洗浄液を排出する排液口９が、受け皿１０の底部に形成されているものであることを特徴とする枚葉式洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１薬液の供給中において、ＣＰＵ６１は、回転数センサ１６から出力された検出値を監視している（ステップＳ７）。そして、回転センサ１６から出力された検出値が回転数範囲外となると（ステップＳ７でＮＯ）、ＣＰＵ６１は、第１薬液表面側バルブ２３を閉じるとともに、その後の開成を禁止し（ステップＳ９）、その第１薬液表面側バルブ２３の開成が禁止された旨の警報を出力した後（ステップＳ１０）、このインターロック処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】外部への蒸気の漏れを防止した蒸気洗浄装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る蒸気洗浄装置２００は、表示パネル１０を載置するテーブルと、洗浄用の蒸気を生成する蒸気生成器２２２と、蒸気生成器２２２により生成された蒸気を表示パネルの端子部１７に噴射するノズル２２０と、ノズル２２０を収容し、表示パネルの端子部１７が挿入される開口部を有する筐体２１０と、筐体２１０の開口部の外側に設置され、開口部と表示パネル１０との間隙を遮蔽する遮蔽板２３０とを備え、遮蔽板２３０は、筐体２１０と対向する主面上に、主面に近接する遮蔽板２３０の一方の側面から他方の側面に至り略平行に延設された複数の第１の凸部２３２を備えていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】１つの水洗ブース２内で１つのワークＷに対して少なくとも３回の水洗工程を実施する水洗設備を提供する。
【解決手段】それぞれ給水可能な洗浄水貯蔵タンク３６〜３８が水洗工程ごとに分けて配設され、各水洗工程において対応する１つの洗浄水貯蔵タンク内の洗浄水を水洗ブース２内に送出する洗浄水送出手段が併設され、水洗ブース２の底部からの排水回収配管系には、最終水洗工程を除く各水洗工程での回収排水を実施中の水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６，３７へ戻すと共に、最終水洗工程での回収排水をその直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７へ戻す切換弁５５ａ，５５ｂが設けられ、最終水洗工程を除く水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３７から直前水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６へ貯蔵水を流動させる溢水配管５６が設けられ、開始水洗工程に対応する洗浄水貯蔵タンク３６には溢水配管５７が設けられる。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の雰囲気を外部に拡散させないために行うチャンバからの排気を低減できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、処理槽２０およびシャワーノズル３０を収容するチャンバ４０と、チャンバ４０を密閉するシャッタ４１とを備えている。このため、チャンバ４０から排気を行うことなくチャンバ４０の内部において基板Ｗを処理できる。また、処理槽２０の上面とシャッタ４１の下面との間の距離は２０ｍｍ以上かつ５０ｍｍ以下であり、処理槽２０の外側面とチャンバ４０の内側面との間の距離は５ｍｍ以上かつ２０ｍｍ以下である。このため、チャンバ４０の内容積は小さく、シャッタ４１を開放したときにもチャンバ４０から多量の排気を行う必要がない。 （もっと読む）

【課題】処理液から引き上げられる複数の基板の全面を短時間で効率的に乾燥させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板保持具３３０において、背板３３３の正面には、４本のアーム３４１〜３４４が取り付けられている。各アーム３４１〜３４４は、水平方向に延びている。背板３３３の背面には、４本のアーム３４１〜３４４に対応して４個のモータが取り付けられている。各アーム３４１〜３４４の軸心と垂直な方向における断面は、楕円形状となっている。各アーム３４１〜３４４に形成された径小部３４５に基板Ｗの外周端部が挿入される。それにより、複数の基板Ｗが各アーム３４１〜３４４の径小部３４５の外周面により保持される。基板Ｗが処理槽から引き上げられ、各アーム３４１〜３４４と基板Ｗとの当接部が処理液の液面に位置する際に、モータが各アーム３４１〜３４４を回転させる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理時間を短縮可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】密閉チャンバ１内に配置された処理液供給管３に、第１吐出ノズル３１１と第２吐出ノズル３１２とを取り付ける。薬液処理が行われた後に、処理液供給管３に洗浄液を供給して、第１吐出ノズル３１１と第２吐出ノズル３１２とから洗浄液を吐出させる。第１吐出ノズル３１１から吐出された洗浄液の流れによって基板Ｗに対する表面洗浄処理が実行され、第２吐出ノズル３１２から吐出された洗浄液の流れによって処理槽２の外壁面および密閉チャンバ１の内壁面が洗浄される。壁面に付着した薬液が気化して洗浄処理後の基板を汚染することがないので、薬液処理と洗浄処理とを同一処理槽で連続して実行可能となり、薬液処理用の処理槽から洗浄処理用の処理槽まで基板を搬送する必要がなくなる。これにより処理時間が短縮される。 （もっと読む）

【課題】位置調整作業を簡素化することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 カセット位置規制部２２がカセットＣの外壁面に当接して、処理槽２に対するカセットＣの位置を所定位置に規制する。また、処理槽位置規制部２３が密閉チャンバ１の内壁面に形成された嵌合部１３に嵌めあわされることによって密閉チャンバ１に対する処理槽２の位置を所定位置に規制する。したがって、処理槽２とカセットＣとの位置関係を調整する必要がなく、密閉チャンバ１と処理槽２との位置関係を調整する必要もない。すなわち、密閉チャンバ１と本体部１０１との位置関係のみを調整機構７２によって調整すればよく、位置調整作業を簡素化することができる。 （もっと読む）

【課題】薬液処理時に発生する薬液蒸気が処理槽を有するシンク外へ飛散するのを効果的に抑えて高品質の基板処理を可能にした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】上方が開口した有底の容器からなる処理槽２Ａ〜２Ｄと、ウェーハＷを把持する把持機構１１と、把持機構が連結されてウェーハの処理槽内に貯留された処理液への浸漬及び処理槽内からの引き上げを行う昇降装置１０と、昇降装置が連結されてウェーハを処理槽へ搬送する搬送装置７と、を備える基板処理装置１において、処理槽から蒸気が平常時よりも多量に発生上昇するときに処理槽の開口部を覆うことができる搬送装置に連結された飛散防止カバー８を備える。 （もっと読む）

【課題】構成部材間の擦れにより発生したパーティクルに起因する基板の処理不良および動作不良が防止された基板保持装置およびそれを備える基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック５００が基板Ｗを保持する際には、第２の連結部材７０２および第１の連結部材７０１が動作し、保持部材６００ａに回動しつつ下降する力が働く（矢印Ｍ３）。それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴに当接し、昇降軸６０５と部材挿入孔Ｈとの間の隙間が軸傾斜面６１１により閉塞される。スピンチャック５００から基板Ｗが開放される際には、第２の連結部材７０２および第１の連結部材７０１が動作し、保持部材６００ａに回動しつつ上昇する力が働く（矢印Ｎ３）。それにより、保持部材６００ａの軸傾斜面６１１がスピンベース７００の孔傾斜面ＨＴから離間するとともに、回動しつつ上昇する。 （もっと読む）

【課題】複雑な機構を用いることなく液が基板の表面に到達することを阻止した状態で基板の裏面、または基板の裏面およびエッジ部を液処理することができる液処理装置を提供すること。
【解決手段】液処理装置１００は、ウエハＷを水平に保持し、ウエハＷとともに回転可能なウエハ保持部２と、ウエハ保持部２をウエハＷとともに回転させる回転機構３と、ウエハ保持部２に保持されたウエハＷの裏面に液を供給する裏面側液供給ノズル６と、ウエハ保持部２に保持されたウエハＷの周囲を囲繞するように設けられた排液カップ５１と、ウエハ保持部２に保持されたウエハの外側に、裏面側液供給ノズル６からウエハ裏面に供給された液がウエハＷの表面側に回り込むことを阻止するように環状に設けられ、ウエハＷから振り切られた液を排液カップ５１に導く仕切り部材３５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に付着している汚れを効果的に除去する。
【解決手段】タイヤ加硫モールド12の型付け面13に 100度Ｃ以下の湿り飽和蒸気を接触させて汚れを膨潤させているが、このとき、タイヤ加硫モールド12が、カーボンブラックのみからなる充填材、または、少なくともシリカからなる充填材が配合されているゴム組成物を用いた未加硫タイヤを加硫するモールドであると、前者では汚れが比較的膨潤し易いため、型付け面13に湿り飽和蒸気を 100秒以上接触させ、後者では比較的膨潤し難いため、 240秒以上接触させる。 （もっと読む）

【課題】天板に上部開口及びエア抜き口を有するコンテナ容器の洗浄乾燥装置及び方法において、エア抜き口のノズル部周辺を含めた自動洗浄を可能とすると共に、装置自体の配置スペースを抑え、かつコンテナ容器の洗浄及び乾燥を効率良く行う。
【解決手段】洗浄乾燥装置１０は、コンテナ容器１内に進入して温水又はスチームを多方向に噴射しつつ回転するメインノズル１７と、エア抜き口７の上方からそのノズル部７ａに温水を噴射する複数のサブノズル３４とを備え、各ノズル１７，３４から温水を噴射してコンテナ容器１内及びエア抜き口７を洗浄した後、前記メインノズル１７からスチームを噴射して前記コンテナ容器１内を昇温させると共に、前記メインノズル１７からのスチーム噴射により昇温した前記コンテナ容器１内に除菌エアを送入して乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】リンス処理に要する時間を短くして、半導体ウエハや液晶基板などの製造のスループットを向上させること。
【解決手段】本発明では、リンス処理時に、リンス液の液面位置(LV1)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV2)までの距離(L1)が薬液処理時の薬液の液面位置(LV3)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV4)までの距離(L2)よりも短くなるように、或いは、リンス液の液面位置(LV1)から被処理体(ウエハ２)の上端位置(LV2)までの距離(L1)がリンス液の底面位置(LV5)から被処理体(ウエハ２)の下端位置(LV6)までの距離(L3)よりも短くなるようにした。 （もっと読む）

【課題】処理液供給手段を収納する収納室から処理液のミストや粒子が発生するのを防止して、基板の処理又は乾燥を均一に行う。
【解決手段】液回収チャンバ３０及び上チャンバ４０により形成された処理室内で、回転テーブル１０が、基板１を水平に支持して回転する。ノズル２１を収納する収納室５０が処理室につなげて設けられ、ノズル２１が、収納室５０から処理室内にある基板１の上方へ移動し、基板１の表面へ処理液を供給した後、収納室５０へ戻る。シャッター５３は、ノズル２１が収納室５０内にあるとき、収納室５０を処理室から遮蔽する。収納室５０を処理室から遮蔽するので、処理室内で基板１の回転により生じた空気の流れによって、収納室５０から処理液のミストや粒子が発生するのが防止される。 （もっと読む）