ウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置
【課題】ウエブ状の被洗浄物に洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、噴出ノズルから噴出する気体で除去する際に、除去した洗浄液の液滴やミストが被洗浄物に再付着することを防止できる。
【解決手段】搬送されるウエブＷの表面に洗浄液Ｌを吹き付ける洗浄液吹き付けノズル３０と、ウエブＷの搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出してウエブ表面に残存する液膜Ｌ１を除去する気体噴出ノズル３２と、の間に遮風壁３４を設けた。
【解決手段】搬送されるウエブＷの表面に洗浄液Ｌを吹き付ける洗浄液吹き付けノズル３０と、ウエブＷの搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出してウエブ表面に残存する液膜Ｌ１を除去する気体噴出ノズル３２と、の間に遮風壁３４を設けた。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置に係り、特に長尺状光学補償シートの透明支持体として用いられるポリマーフイルムにアルカリ液を塗布してアルカリ鹸化した後に、塗布されたアルカリ液を除去するための洗浄技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学フイルムの需要が増加しつつある。この光学フイルムとしては、液晶セルに位相差板として使用される光学補償シートがある。
【０００３】
ポリマーフイルムで形成された透明支持体上に配向膜および液晶性分子を固定化した光学異方性層を設けた光学補償シートを製造する場合、透明支持体（通常は、セルロースアセテートフイルムに代表されるセルロースエステルフイルム）と配向膜（通常はポリビニルアルコール）との間の良好な密着が必要となる。セルロースエステルフイルムとポリビニルアルコールとの親和性は弱く、この界面での剥がれや割れが発生してしまうため、セルロースエステルフイルム上にゼラチンの下引き層を設けていた。しかしながら、ゼラチン下引き層を塗設する際の塗布液溶媒として、この下引き層とセルロースエステルフイルムの密着を発現させるためにはセルロースエステルフイルムに浸透する溶媒（例えば、ケトン系溶剤など）を用いなければならないため、セルロースエステルフイルムが膨潤し、続く乾燥工程で収縮する過程でフイルムの微細な屈曲が発生する問題があった。この屈曲したフイルム上に配向膜、次いで液晶性分子層を塗設すると、屈曲形状に沿って配向膜と液晶性分子層の厚みムラや液晶性分子の配向ムラが発生し、液晶表示装置の描画品質を劣化させることがわかった。
【０００４】
また、ゼラチン下引き層を設けずにセルロースエステルフイルムと親水性材料（例えば配向膜）との密着性を改良する一般的な方法として、フイルムをアルカリ水溶液中に浸漬する、いわゆる鹸化浴処理を行う方法が知られている（例えば特許文献１）。しかし、この浸漬による鹸化浴処理においては、セルロースエステルフイルムの両面が同時に親水化してしまうため、片面にポリビニルアルコールなどの親水性層を塗設した後にロール状に巻き取ると、表裏が接着してしまう問題が発生する。鹸化浴処理にて、片面のみを親水化する手段としては、目的としない面をラミネートなどの防水加工を施して鹸化処理する方法が挙げられるが、煩雑な工程が増えるばかりでなく、不要な廃棄物が発生するなど、生産性、環境保全の観点で好ましくなかった。
【０００５】
このため、配向膜を塗設するポリマーフイルムの片面のみにアルカリ溶液を連続塗布し、反応時間の経過後、アルカリ溶液を洗浄液で洗浄してポリマーフイルムから洗い落とす鹸化方法が提案された（例えば、特許文献２）。
【０００６】
このようにポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理して親水化する方法においては、ポリマーフイルムに塗布されたアルカリ液の洗浄中においても鹸化反応は進行しているので、洗浄が不均一になると、鹸化ムラが発生してしまい、不良品となってしまう。特に、ポリマーフイルムに洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、気体を吹き付けることにより除去する方法があるが、この場合には除去した液滴や気体の吹き付けにより飛散したミストがポリマーフイルムに再付着すると、洗浄が不均一になってしまう。また、液滴やミストが気体噴出手段の噴出口に付着すると、液滴中のスケールによって噴出口が目詰まりすることもある。従って、均一洗浄には、ポリマーフイルムから洗浄液を均一に除去するのみならず、除去した洗浄液の液滴やミストが再付着することを防止することが重要になる。
【０００７】
シート状物の表面に付着した液体を、気体を吹き付けて除去する技術としては、例えば特許文献３があり、ウエブ状のシートに付着した液体を空気で吹き飛ばし、吹き飛ばした液体を吸引装置で吸引する方法が提案されている。また、特許文献４には、板状の被処理基板に気体を吹き付けて乾燥処理するに際して、被処理基板から飛散したミストを吸引装置で吸引することにより、ミストが基板に再付着するのを防止する方法が提案されている。また、特許文献５は、板状の基板に付着した処理液を吹き飛ばして乾燥する際に、完全に乾燥させないように、基板の処理液が付着した面に向けてその処理液と同じ種類の処理液を霧化して噴射することが提案されている。
【特許文献１】特開平８−９４８３８号公報
【特許文献２】特開２００３−３１３３２６号公報
【特許文献３】特開平６−９９１５０号公報
【特許文献４】特開２００３−２２９４０４号公報
【特許文献５】特開２００１−２２４９９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３及び４のように、除去した液体を吸引装置で吸引する方法は、吸引装置を別途設けなくてはならず、装置が大がかりになるという欠点がある。更に、特許文献３は、噴出ノズル通過後、すなわち液体除去後のシートに液滴が残存しなければ良いという技術であるので、本願発明を適用する好ましい一例のように、洗浄中にも化学反応が進行するような薬剤を洗浄する場合には、洗浄途中、即ち気体噴出ノズルを通過する前に液滴やミストが再付着すると化学反応の進行ムラが発生してしまう。また、特許文献４及び５は、不連続に搬送される板状の基板から気体の噴出で液体を除去する技術であり、基板が通過するときだけ液滴やミストが再付着しないようにしたものである。従って、不連続に搬送される板状の基板には適用できても、本願発明のように連続搬送されるウエブ状被洗浄物の場合には、液滴やミストが再付着してしまうという問題がある。
【０００９】
ところで、ウエブ状の被洗浄物に薬剤を塗布して化学反応を行わせ、その後に化学反応を停止するために薬剤を洗浄液で洗浄して除去する際に、均一洗浄が要求される分野は光学補償シートを製造するためのポリフイルムの鹸化に限らず、他の分野でも必要な技術である。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ウエブ状の被洗浄物に洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、噴出ノズルから噴出する気体で除去する際に、除去した洗浄液の液滴やミストが被洗浄物に再付着することを防止できるので、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができると共に、噴出ノズルの噴出口を液滴やミストのスケールで目詰まりさせることがないウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付け工程と、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する洗浄液除去工程と、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄方法において、前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄方法を提供する。
【００１２】
尚、被洗浄物から除去された液滴にはミストも含むものとすると共に、被洗浄物の搬送方向は水平方向であることが好ましいが、水平に対して多少傾いている場合にも適用できる。以下同様である。
【００１３】
本発明の発明者は、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が被洗浄物や噴出ノズルに再付着する要因として、気体の噴出によって誘因される誘因エアが大きく関与しているとの知見を得た。即ち、気体の噴出によるエゼクター作用によって、噴出周辺のエアが誘因され、この誘因エアの一つとして洗浄液の吹き付け位置から気体の噴出位置に向かう誘因エアが発生する。そして、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が、この誘因エアに運ばれて、洗浄途中の被洗浄物表面や気体を噴出する噴出ノズルに再付着する。被洗浄物に再付着した液滴は、洗浄ムラの原因となると共に、噴出ノズルの噴出口に再付着した液滴はそのスケール（液滴中の固形分）により、噴出口を目詰まりさせる。
【００１４】
本発明の請求項１によれば、気体の噴出によって誘因される誘因エアの成分のうち、吹き付け位置側から噴出位置側に誘因される成分の誘因エアを少なくとも遮風するようにしたので、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が被洗浄物表面や噴出ノズルに再付着するのを防止することができる。これにより、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができるので、被洗浄物の部分において化学反応ムラが発生しない。また、噴出ノズルの噴出口を付着した液滴中のスケールで目詰まりさせることがない。
【００１５】
請求項２は、請求項１において、前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする。
【００１６】
請求項２のように、被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために洗浄液で洗浄する場合において、本発明が特に有効である。尚、化学反応を洗浄して停止するとは、単に化学反応を行う薬剤を洗い落とすことに限定されず、洗浄液と化学反応を行わせることで、薬剤の化学反応を停止することも含む。
【００１７】
請求項３は請求項２において、前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする。
【００１８】
請求項３のように、光学補償フイルムを製造する際に、透明支持体としてのポリマーフイルムをアルカリ鹸化し、鹸化反応を停止させるためにアルカリ液を洗浄液で洗浄する工程では精度の良い均一洗浄が要求されるので、本発明が特に有効になる。
【００１９】
請求項４は請求項１〜３のいずれか１において、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出し、該検出結果に基づいて、前記誘因エアを遮風する遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする。
【００２０】
請求項４は、遮風壁の好ましい配置位置を規定したものである。
【００２１】
本発明は、吹き付け位置から噴出位置に誘因される誘因エアを遮風壁で遮風することで、遮風壁がない場合に比べて被洗浄物から除去された液滴が被洗浄物表面や噴出ノズルに再付着しない効果を発揮することができるが、遮風壁の配置位置を適切に設定することで一層の効果を発揮できる。ここで、遮風壁とは、固体物に限定されず、例えばエアカーテンの気体による壁も含む。遮風壁の横幅は、被洗浄物の横幅と同等〜１．３倍が好ましく、遮風壁の厚みは０．１〜１０ｍｍに形成することが好ましい。
【００２２】
請求項４によれば、遮風壁の先端（被洗浄物側の先端）を、噴出流の外縁部に位置させるようにしたので、遮風壁を配置しても被洗浄物から洗浄液を除去する除去性能を低下させることがなく、且つ除去された液滴が被洗浄物表面や噴出ノズルに再付着しない効果を向上できる。
【００２３】
尚、外縁部とは、気体の噴出流が噴出位置から末広がり形状に形成される領域の直ぐ外側の領域を言い、風速が略ゼロに近い領域を言う。具体的には、風速が０ｍ／秒を超え、ノズル噴出風速の０．５％以下の風速もしくは０．５ｍ／秒以下の風速のいずれか小さい値までの領域をいう。従って、外縁部は、噴出流近傍の風速を何点か測定することにより特定することができる。
【００２４】
請求項５は請求項１〜４のいずれか１において、前記洗浄液吹き付け工程と前記洗浄液除去工程とを一組とした洗浄工程を多段で行うと共に、各洗浄工程では、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄工程に送るための湿潤処理を行うことを特徴とする。
【００２５】
請求項５は、洗浄液吹き付け工程と洗浄液除去工程とを一組とした洗浄工程を多段で行うことを前提とした発明である。例えば、洗浄工程を３段で行う場合、１段目の洗浄工程で被洗浄物から洗浄液を略完全に除去して被洗浄物表面が乾き過ぎの状態にあると、２段目の洗浄工程において吹き付けた洗浄液が被洗浄物表面に均一に塗布されにくくなる。これにより、液膜の厚みムラが形成されるので、洗浄ムラが発現してしまう。洗浄ムラが発現すると、洗浄中にも反応が進む薬剤を洗浄する場合に、反応ムラが発現してしまい不良品となる。
【００２６】
請求項５では、被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄工程に送られるようにしたので、洗浄液を被洗浄物に吹き付けて均一な塗布を行うことができ、液膜の厚みムラが形成されないので、洗浄ムラが発現しにくくなる。
【００２７】
請求項６は請求項５において、前記湿潤処理は、前記噴出流の流速及び／又は風量を制御する処理であることを特徴とする。
【００２８】
請求項６は湿潤処理の好ましい一態様を示すものであり、噴出流の流速及び／又は風量を制御する方法である。噴出流の流速及び／又は風量を制御することで、被洗浄物から除去される洗浄液量が変わるので、湿潤状態を維持できる流速及び／又は風量に制御すればよい。
【００２９】
請求項７は請求項５において、前記湿潤処理は、前記噴出流を形成する気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる処理であることを特徴とする。
【００３０】
請求項７は湿潤処理の好ましい別の態様を示すものであり、噴出流を形成する気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる方法である。尚、噴出流の流速及び／又は風量の制御を併用してもよい。
【００３１】
請求項８は請求項５において、前記湿潤処理は、前記被洗浄物の表面から洗浄液を除去する噴出流の他に、前記被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を別途噴出させる処理であることを特徴とする。
【００３２】
請求項８は湿潤処理の好ましい更に別の態様を示すものであり、洗浄液を除去する噴出流とは別に、被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を噴出させる方法である。尚、噴出流の流速及び／又は風量の制御と併用するようにしてもよい。
【００３３】
請求項９は請求項１〜８のいずれか１において、前記搬送される被洗浄物の洗浄対象である前記表面は、上面と下面のうちの下面であることを特徴とする。
【００３４】
被洗浄物の表面、即ち洗浄対象面が下面である方が、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が落下するので、好ましい。
【００３５】
本発明の請求項１０は前記目的を達成するために、搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付けノズルと、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する気体噴出ノズルと、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄装置において、前記洗浄液吹き付けノズルと前記気体噴出ノズルとの間に、前記被洗浄物の搬送方向に直交する向きを有して遮風壁を設けたことを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄装置を提供する。
【００３６】
請求項１０は、本発明を装置として構成したものであり、洗浄液吹き付けノズルと気体噴出ノズルとの間に、被洗浄物の搬送方向に直交する向きの遮風壁を設けたので、吹き付け位置側から噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することができる。遮風壁の横幅は、被洗浄物の横幅と同等〜１．３倍程度が好ましく、遮風壁の厚みは０．１〜１０ｍｍに形成することが好ましい。
【００３７】
請求項１１は請求項１０において、前記遮風壁により、前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とする。
【００３８】
請求項１１は、遮風壁により吹き付け位置側から噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風するので、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が、この誘因エアに運ばれて、洗浄途中の被洗浄物表面や気体噴出ノズルに再付着するのを防止できる。
【００３９】
請求項１２は請求項１０又は１１において、前記遮風壁は板状の遮風板であることを特徴とする。
【００４０】
請求項１２は遮風壁の好ましい一態様を示したものであり、遮風壁として板状の遮風板を用いたものである。
【００４１】
請求項１３は請求項１０又は１１において、前記遮風壁はエアカーテンであることを特徴とする。
【００４２】
請求項１３は遮風壁の好ましい別態様を示したものであり、遮風壁としてエアカーテンを用いたものである。
【００４３】
請求項１４は請求項１０又は１１において、前記遮風壁は多孔質板で形成された遮風箱であると共に、前記遮風箱から微弱なエアが吹き出されることを特徴とする。
【００４４】
請求項１４は遮風壁の好ましい更に別態様を示したものであり、遮風壁として多孔質板で形成された遮風箱を用い、遮風箱から微弱なエアが吹き出されるようにしたものである。この微弱なエアの吹き出しにより、遮風箱に付着した液滴を排除できる。この場合、エアの吹き出し力が大きいと、遮風箱に付着した液滴が再び飛散して被洗浄物に付着するので、エアの吹き出し力は、遮風箱に付着した液滴を遮風箱から離脱できる程度の微弱なエアであることが必要である。
【００４５】
請求項１５は請求項１０〜１４の少なくとも１において、前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする。
【００４６】
請求項１６は請求項１５において、前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする。
【００４７】
請求項１７は請求項１０〜１６のいずれか１において、前記遮風壁の配置位置を調整する位置調整手段を備えていることを特徴とする。
【００４８】
請求項１７によれば、遮風壁の配置位置を調整する位置調整手段を備えたので、洗浄液を除去したり、再付着を防止したりする上で適切な位置に遮風壁を移動することができる。
【００４９】
この場合、遮風壁を横方向（気体噴出ノズルに対して接近・離間する方向）や、縦方向（被洗浄物に対して接近・離間する方向）の両方に移動して配置位置を調整できることが好ましい。
【００５０】
請求項１８は請求項１７において、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出する検出手段を設け、前記位置調整手段は検出結果に基づいて、前記遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする。
【００５１】
請求項１８は、洗浄液を除去したり、再付着を防止したりする上で、遮風壁の好ましい配置位置を規定したもので、遮風壁の先端を気体の噴出流の外縁部に配置することが好ましい。尚、外縁部とは、上述の通りである。
【００５２】
請求項１９は、１０〜１８のいずれか１において、前記洗浄液噴出ノズルと前記気体噴出ノズルとを一組とした洗浄ユニットを多段に設けると共に、各洗浄ユニットには、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニットに送るための湿潤手段を設けたことを特徴とする。
【００５３】
請求項１９は、洗浄液吹き付けノズルと気体噴出ノズルとを一組とした洗浄ユニットを多段に設けることを前提とした発明であり、各洗浄ユニットには、被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニットに送るための湿潤手段を設けたので、洗浄液の塗布が不均一になるのを防止でき、均一洗浄を行うことができる。
【００５４】
請求項２０〜２２は好ましい湿潤手段を示したものであり、請求項２０は噴出流の流速及び／又は風量を制御する手段であり、請求項２１は噴出ノズルから噴出される気体中に、洗浄液の蒸気（ミストも含む）を含有させる手段であり、請求項２２は被洗浄物の表面を加湿する加湿手段である。
【００５５】
請求項２３は、被洗浄物の洗浄対象面を下面とするようにしたものである。
【発明の効果】
【００５６】
本発明のウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置によれば、ウエブ状の被洗浄物に洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、噴出ノズルから噴出する気体で除去する際に、除去した洗浄液の液滴やミストが被洗浄物に再付着することを防止できる。
【００５７】
これにより、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができると共に、噴出ノズルの噴出口を液滴やミストのスケールで目詰まりさせることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】
以下、添付図面に従って、本発明に係るウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００５９】
図１は、本発明に係るウエブ状被洗浄物の洗浄装置を、ポリマーフイルムのアルカリ鹸化処理ライン１０に組み込んだ一例を示す全体構成図である。しかし、本発明は、ポリマーフイルムのアルカリ鹸化処理ライン１０に組み込むことに限定されるものではなく、ウエブ状の被洗浄物に薬剤を塗布して化学反応を行わせ、その後に化学反応を停止するために薬剤を洗浄液で洗浄して除去する際に、均一洗浄が要求される全ての分野に好ましく適用できる。
【００６０】
図１に示されるように、アルカリ鹸化処理ライン１０は、主に、送り出し気体噴出ノズル３２と、ポリマーフイルム（以下、ウエブＷと記す）にアルカリ溶液を塗布するアルカリ溶液塗布装置１４と、アルカリ溶液を塗布したウエブＷの温度を室温以上に維持する温度維持装置１６と、温度が維持されたウエブＷに希釈溶媒又は酸性溶液を塗布して反応を停止させる反応停止装置１８と、ウエブＷからアルカリ溶液を洗い落とす本発明の洗浄装置２２と、洗浄後のウエブＷを乾燥させる乾燥装置２４と、巻き取り機２６とから構成される。
【００６１】
アルカリ溶液塗布装置１４は、送り出し機１２より送り出され、ガイドローラ２８によりガイドされるウエブＷの下面に、アルカリ溶液を塗布する塗布手段１４Ａを備えている。本実施形態に使用されるウエブＷ、及びアルカリ液の詳細については、後述する。
【００６２】
上記塗布手段１４Ａとしては、ダイコーター（エクストルージョンコーター、スライドコーター）、ロールコーター（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）、ロッドコーター（細い金属線を巻いたロッド）等、が好ましく使用されるが、少ない塗布量域でも安定に操作できるロッドコーター、グラビアコーター、ブレードコーター、ダイコーターが特に好ましく使用される。
【００６３】
アルカリ溶液の塗布量は、その後、水洗除去するため廃液処理を考慮して、極力抑制することが望ましく、１〜１００ｃｃ／ｍ２が好ましく、１〜５０ｃｃ／ｍ２がより好ましい。また、塗布量の変動をウエブＷの幅方向および塗布時間に対して３０％未満に抑制することが好ましい。
【００６４】
アルカリ鹸化反応に必要なアルカリ塗布量は、ウエブＷの単位面積当りの鹸化反応サイト数に配向膜との密着を発現させるために必要な鹸化深さを乗じた総鹸化サイト数（＝理論アルカリ塗布量）が目安となる。鹸化反応の進行にともなってアルカリが消費され反応速度が低下するため、実際には上述の理論アルカリ塗布量の数倍を塗布することが好ましい。具体的には、理論アルカリ塗布量の２〜２０倍であることが好ましく、２〜５倍であることがさらに好ましい。
【００６５】
アルカリ溶液の温度は、反応温度（＝ウエブＷの温度）に等しいことが望ましい。安定な塗布を行うためには、アルカリ溶液の沸点よりも低い温度であることが好ましく、沸点よりも５℃低い温度であることがさらに好ましく、沸点よりも１０℃低い温度であることが最も好ましい。
【００６６】
温度維持装置１６は、アルカリ溶液を塗布した後、鹸化反応が終了するまで、ウエブＷの温度を室温（約１５℃）以上に保つ加熱手段１６Ａを備えている。加熱手段１６Ａとしては、塗布の反対面への熱風の衝突、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒータによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。赤外線ヒータは、非接触、かつ空気の流れを伴わずに加熱できるため、アルカリ溶液塗布面への影響を最小にできるため好ましい。赤外線ヒータは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。市販の赤外線ヒータ（例えば（株）ノリタケカンパニーリミテド製）を用いてもよい。熱媒体が、オイルまたはスチームを用いるオイル式またはスチーム式の赤外ヒータは、有機溶剤が共存する雰囲気における防爆の観点で好ましい。
【００６７】
ウエブＷの温度は、１５℃〜１５０℃、好ましくは２５℃〜１００℃、さらに好ましくは３０℃〜８０℃に設定される。また、ウエブＷの温度は、アルカリ溶液塗布前に加熱した温度と同じでも異なっていてもよい。ウエブＷの温度の検出には、一般に市販されている非接触の赤外線温度計が利用でき、上記温度範囲に制御するために、加熱手段１６Ａに対してフィードバック制御を行ってもよい。
【００６８】
アルカリ溶液を塗布して、洗い落とすまでに上記温度範囲に保持する時間は、後述する搬送速度にもよるが、１秒〜５分に保つことが好ましく、２〜１００秒間保つことがより好ましく、３〜５０秒間保つことが特に好ましい。
【００６９】
ウエブＷの搬送速度は、上記アルカリ溶液の組成と塗布方式の組み合わせによって決定される。ウエブＷの搬送速度は、一般的に、１０〜５００ｍ／分が好ましく、２０〜３００ｍ／分がさらに好ましい。
【００７０】
また、ウエブＷを、酸素濃度が０〜１８％の範囲にある雰囲気下において鹸化処理することが好ましい。酸素濃度は０〜１５％がさらに好ましく、０〜１０％が最も好ましい。このように、低酸素濃度下で鹸化塗布液を（アルカリ溶液）を塗布することで、ウエブＷの表面特性を制御でき、密着性の高い表面を得ることができる。雰囲気中の酸素以外の気体成分は、不活性ガス（例、窒素、ヘリウム、アルゴン）であることが好ましく、窒素であることが特に好ましい。
【００７１】
反応停止装置１８は、アルカリ溶液とウエブＷとの鹸化反応を停止させるために、アルカリ濃度を下げるための希釈溶媒を塗布するバー塗布機１８Ａを備えている。尚、希釈溶媒の塗布方法については、アルカリ溶液の塗布方法と同様である。
【００７２】
希釈溶媒は、アルカリ溶液中のアルカリ剤を溶解する溶媒であり、水または有機溶剤と水との混合液が好ましく、水がより好ましい。その他、前述したアルカリ鹸化溶液に用いた有機溶剤が優位に用いることができる。なお、二種類以上の有機溶媒を混合して使用してもよい。
【００７３】
希釈溶媒の塗布量は、アルカリ溶液の濃度に応じて決定される。バー塗布機１８Ａのバーがフラットバーの場合は、塗布ビード内の流動が一様でないため、アルカリ溶液と希釈溶媒との混合が発生し、この混合した液が再塗布される。したがって、この場合は希釈溶媒の塗布量によって希釈率を特定することが困難であるため、希釈溶媒塗布後のアルカリ濃度を測定する必要がある。希釈溶媒の塗布量は、元のアルカリ濃度を１．５〜１０倍に希釈することが好ましく、２〜５倍に希釈することがさらに好ましい。
【００７４】
また、上記希釈溶媒の他に、アルカリによる鹸化反応を迅速に停止するため、酸を用いることもできる。この場合、少ない量でアルカリを中和するため、強酸を用いることが好ましい。また、水洗の容易さを考慮すると、アルカリと中和反応後に生成する塩が水に対する溶解度が高い酸を選定することが好ましく、たとえば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、メタンスルホン酸、クエン酸が好適に使用される。
【００７５】
酸溶液の塗布量は、アルカリの種類とアルカリ溶液の濃度に応じて決定され、酸溶液塗布後のｐＨが４〜９になる様に酸溶液の塗布量が決定されることが好ましく、６〜８になる様に決定されることがより好ましい。
【００７６】
洗浄装置２２では、例えば光学補償フイルムを製造する際に、後工程で塗布される配向膜並びに液晶性分子層の塗膜形成や液晶分子の配向に影響を及ぼすことを防止するため、ウエブＷの表面に残存するアルカリ溶液を完全に且つ均一に洗浄除去することが必要である。洗浄装置２２については後で詳細に説明する。
【００７７】
乾燥装置２４は、洗浄装置２２でアルカリ液が洗い落とされ、ウエブＷに最終的に残った洗浄液Ｌを乾燥する装置であり、ウエブＷをロール状に巻き取る前に、ウエブＷを好ましい含水率に調整するために加熱乾燥する。また、これとは逆に、乾燥装置２４は、設定された湿度を有する風で調湿することもできる。乾燥装置２４としては、クリーン度が高く、ヒータ等で加熱された清浄エアが給気される公知の加熱乾燥手段が使用される。乾燥風の温度は３０〜２００℃が好ましく、４０〜１５０℃がより好ましく、５０〜１２０℃が特に好ましい。尚、乾燥装置２４の前段におけるエアナイフ等の気体噴出ノズル３２で充分に洗浄液Ｌが除去される場合は、特に乾燥装置２４は設けなくても良い。
【００７８】
上記の如くアルカリ鹸化処理されたウエブＷは、一旦巻き取り機２６で巻き取られてもよいし、又は上述した鹸化処理工程の後に連続して光学補償フィルムの機能層の塗設が行われてもよい。
【００７９】
次に、本発明の洗浄装置２２の構成について詳細に説明する。図２は、洗浄装置２２の構成を説明する概念図である。
【００８０】
図２に示されるように、洗浄装置２２は、主に、ウエブの表面（洗浄対象面）に洗浄液Ｌ（水が一般的に使用される）を吹き付ける洗浄液吹き付けノズル３０と、ウエブＷの搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体（エアが一般的に使用される）を噴出してウエブＷの表面に残存する液膜Ｌ１を除去する気体噴出ノズル３２と、洗浄液吹き付けノズル３０と気体噴出ノズル３２との間に設けられた遮風壁３４と、で構成される。
【００８１】
洗浄液吹き付けノズル３０には、洗浄液供給配管３１が接続され、洗浄液供給配管３１から洗浄液吹き付けノズル３０に圧送された洗浄液Ｌが、ウエブＷの下面に吹き付けられる。洗浄液吹き付けノズル３０としては、市販のスプレーノズル（例えば、（株）いけうち製、スプレーイングシステムズ社製）を用いてもよい。これにより、ウエブＷを連続搬送しながら洗浄できる上、噴流によってウエブＷ上の洗浄液Ｌとアルカリ性塗布液との乱流混合が得られ、洗浄効果が向上する。また、洗浄液吹き付けノズル３０としては、上述の例に限らず、塗布ヘッド（例、ファウンテンコーター、フロッグマウスコーター）を用いる方法等も使用できる。
【００８２】
洗浄液吹き付けノズル３０における洗浄液Ｌの吹き付け速度は、高い乱流混合が得られ、且つウエブＷの搬送安定性を損なわない速度の範囲であり、５０〜１０００ｃｍ／秒が好ましく、１００〜７００ｃｍ／秒がより好ましく、１００〜５００ｃｍ／秒がさらに好ましい。
【００８３】
洗浄に使用する洗浄液Ｌの量は、下記に定義される理論希釈率を上回る量である。
【００８４】
理論希釈倍率＝洗浄液Ｌの使用量［ｃｃ／ｍ２］÷アルカリ鹸化溶液の塗布量［ｃｃ／ｍ２］
即ち、洗浄に使用される洗浄液Ｌの全てがアルカリ性塗布液の希釈混合に寄与したという仮定の理論希釈率を定義する。実際には、完全混合は起こらないので、理論希釈率を上回る洗浄液量を使用することとなる。用いたアルカリ性塗布液のアルカリ濃度や副次添加物、溶媒の種類にもよるが、少なくとも１００〜１０００倍、好ましくは５００〜１万倍、さらに好ましくは１０００〜十万倍の理論希釈が得られる洗浄液を使用する。
【００８５】
洗浄で一定量の洗浄液Ｌを用いる場合、一度に全量適用するよりも、洗浄装置２２を多段に設けて、複数回に分割して適用する多段式洗浄方法が好ましい。即ち、一つの洗浄液吹き付けノズル３０と次の洗浄液吹き付けノズル３０との間には適当な時間（距離）を設けて、拡散によるアルカリ性塗布液の希釈を進行させる。尚、多段式洗浄装置については後で、詳細に説明する。
【００８６】
洗浄液Ｌとしては、純水であることが好ましい。本実施形態に使用される純水とは、比電気抵抗が少なくとも０．１ＭΩ以上であり、特にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属イオンは１ｐｐｍ未満、クロル、硝酸などのアニオンは０．１ｐｐｍ未満であることが好ましい。
【００８７】
本発明において、洗浄能力の観点から、洗浄液Ｌの温度は室温以上に維持されることが重要である。洗浄液Ｌの温度は、高いほど汚れ成分（アルカリ溶液等）を洗浄、及び除去しやすい。したがって、洗浄液Ｌの温度は、５〜９０℃の範囲であることが好ましく、２５℃〜８０℃の範囲であることがより好ましく、２５℃〜６０℃の範囲であることがさらに好ましく、３７℃に設定されることが最も好ましい。
【００８８】
なお、洗浄液Ｌの温度を調節する温度調節手段（図示せず）は、洗浄液吹き付けノズル３０、及び洗浄液Ｌを送液する洗浄液供給配管３１等に設けられることが好ましい。温度調節手段としては、各種ヒータ、各種断熱材、保温材、又は洗浄部の全体の雰囲気温度を所定温度に保つ方法等が使用されるが、温度を所定レベルに維持することができれば、他の手段でもよい。
【００８９】
気体噴出ノズル３２には、エア配管３３が接続されると共にエア配管３３にはブロア３５が設けられる。そして、ブロア３５からエア配管３３を介して気体噴出ノズル３２に圧送された気体がウエブＷの下面に向けて噴出され、ウエブＷに当たった気体の一部が、ウエブＷの搬送方向に対向する噴出流となって流れる。この場合、気体噴出ノズル３２の噴出流を効率的に形成するには、図３に示すように、ウエブＷに対する気体噴出ノズル３２の角度θを３０〜９０°、好ましくは５０〜８０°、特に好ましくは６５〜７０°にするとよい。
【００９０】
気体噴出ノズル３２としては、エアナイフが好ましく使用される。但し、エアの噴出量が大きすぎると、ばたつきや寄りなど、ウエブＷの搬送安定性に影響を及ぼすことがあるので、好ましい範囲が存在する。ウエブＷ上の元の水膜厚み、ウエブＷの搬送速度にもよるが、通常は１０〜５００ｍ／秒、好ましくは２０〜３００ｍ／秒、より好ましくは３０〜２００ｍ／秒の風速を使用する。また、均一に液膜除去を行うためには、ウエブＷの幅方向の風速分布を、通常は１０％以内、好ましくは５％以内になる様、気体噴出ノズル３２の吹出し口やエアナイフへの給気方法を調整する。搬送するウエブ表面と気体噴出ノズル３２の噴出口の間隙は、狭い方が液切り性能が増すが、ウエブＷと接触して傷付ける可能性が高くなるため、適当な範囲がある。通常は、１０μｍ〜１０ｃｍ、好ましくは１００μｍ〜５ｃｍ、さらに好ましくは５００μｍ〜１ｃｍの間隙をもって設置する。更に、気体噴出ノズル３２と対向する様に、ウエブＷの洗浄対象面と反対側にバックアップロール（図示せず）を設置してもよい。これにより、間隙の設定が安定するとともに、ウエブＷのバタツキやシワ、変形などの影響を緩和させることができる。
【００９１】
遮風壁３４は、図２に示すように、気体噴出ノズル３２からの気体の噴出によって誘因される誘因エアＥの成分のうち、洗浄液Ｌの吹き付け位置側から気体の噴出位置側に誘因される成分の誘因エアＥを少なくとも遮風することにより、ウエブＷから除去された洗浄液Ｌの液滴Ｌ２がウエブＷの下面（洗浄対象面）や気体噴出ノズル３２に再付着するのを防止するものである。遮風壁３４は、ウエブＷの搬送方向に直交する向きに配置される。遮風壁３４の横幅は、ウエブＷの横幅の１倍〜１．３倍に形成されると共に、遮風壁３４の厚みは０．１ｍｍ〜１０ｍｍに形成される。また、遮風壁３４の高さＨ１は気体噴出ノズル３２の高さＨ２の１．５倍〜２倍に形成されることが好ましい。
【００９２】
遮風壁３４としては、例えば図２に示す板状の遮風板３４Ａ、図４に示すエアカーテン形成装置３４Ｂ、図５に示す遮風箱３４Ｃを好適に使用できるが、これらには限定されない。
【００９３】
エアカーテン形成装置３４Ｂは、ウエブ幅方向に長い噴出口を有するノズルａにエア配管ｂを接続して形成され、ノズルａからウエブＷの下面に向けてカーテン状のエアｃを吹き出す。この場合、カーテン状のエアｃを形成する吹出速度は、ウエブＷがバタつかなく、且つ気体噴出ノズル３２からウエブＷに沿って形成される噴出流の流れを阻害しない程度の速度に制御することが好ましい。
【００９４】
図５の遮風箱３４Ｃは、上面と洗浄液吹き付けノズル側の面が多孔質材料で形成された箱体ｄにエア配管ｅが接続して形成され、エア配管ｅから箱体ｄ内に微弱なエアが供給される。供給されたエアは多孔質材料で形成された上面と洗浄液吹き付けノズル側の面から流れでる。これにより、箱体ｄに付着する液滴Ｌ２を排除する。
【００９５】
図２に示すように、遮風壁３４は、遮風壁３４の配置位置を調整する位置調整手段３７を備えている。そして、位置調整手段３７は、遮風壁３４を、横方向（Ｘ−Ｘ方向）及び縦方向（Ｚ−Ｚ方向）に移動させて、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能の両方が十分に発揮される位置に移動する。尚、図３、図４では示さなかったが、エアカーテン３４Ｂ、遮風箱３４Ｃについても位置調整手段３７が設けられる。
【００９６】
本発明は、洗浄液Ｌの吹き付け位置側から気体Ｇの噴出位置側に誘因される誘因エアＥを遮風壁３４で遮風することで、遮風壁３４がない従来に比べてウエブＷから除去された液滴Ｌ２がウエブ表面や気体噴出ノズル３２に再付着しない効果を発揮することができる。しかし、遮風壁３４の配置位置を適切に設定することで一層の効果を発揮させることができる。
【００９７】
次に、遮風壁３４の好ましい配置位置について説明する。
【００９８】
ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能の両方が十分に発揮される位置に遮風壁３４を配置するには、遮風壁３４の先端（上端）を基準として配置すればよい。
【００９９】
図６に示すように、遮風壁３４の先端から気体噴出ノズル３２（噴出口位置まで）の距離をＳとし、遮風壁３４の先端とウエブＷの下面までのクリアランスをＴとし、位置調整手段３７で、距離ＳとクリアランスＴとを変えたときに、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能にどのように影響するかを調べた。
【０１００】
図７は、気体噴出ノズル３２からの気体の噴出速度を１５０ｍ／秒、ウエブＷの搬送速度を８０ｍ／分として洗浄を行った場合であり、図８は気体の噴出速度を１５０ｍ／秒、ウエブＷの搬送速度を８０ｍ／分として洗浄を行った場合である。図７及び図８ともに、横軸に距離Ｓをとり、縦軸にクリアランスＴをとった。また、○は液膜Ｌ１の除去性能及び液滴付着防止性能の両方が良好であることを示し、×は除去性能及び液滴付着防止性能の少なくとも一方において悪い結果であることを示す。
【０１０１】
図７から分かるように、○の集合領域は、距離Ｓが４０ｍｍを超えて８０ｍｍ未満であり、クリアランスＴが１０ｍｍを超えて３０ｍｍ未満で囲まれる領域である。また、図８の場合は、○の集合領域は、距離Ｓが５０ｍｍを超えて７０ｍｍ未満であり、クリアランスＴが１５ｍｍを超えて２５ｍｍ未満で囲まれる領域である。
【０１０２】
図７と図８の比較から分かるように、ウエブＷの搬送速度が速くなると、点線Ａ、点線Ｂ、点線Ｃ、及び点線Ｄで囲まれた○の集合領域が小さくなる。図示しなかったが、ウエブＷの搬送速度を８０ｍ／分よりも小さくすると、○の集合領域が大きくなる。同様に、気体噴出ノズル３２からの噴出速度やウエブＷに残存する液膜Ｌ１の厚みを変えた場合にも、○の集合領域は変動する。しかし、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能の両方を十分に得るためには、搬送速度、噴出速度、液膜Ｌ１の厚み等の各種の要因に関係なく、遮風壁３４の先端を○の集合領域に位置させることが必要になる。
【０１０３】
従って、各種の要因に影響されずに、位置調整手段３７で遮風壁３４の先端を○の集合領域に配置するには、○の集合領域を簡単に特定できることが必要になる。
【０１０４】
そこで、発明者は、点線Ａ、点線Ｂ、点線Ｃ、及び点線Ｄで囲まれた○の集合領域を特定する方法を鋭意研究した。その結果、図９に示すように、気体噴出ノズル３２の噴出位置から末広がり形状に形成される噴出流の領域３６（ウエブＷと点線Ｂとで挟まれた領域）の直ぐ外側の領域である外縁部３８（点線Ａと点線Ｂとで挟まれた領域）のうち、気体の噴出によって発生するエゼクタ作用を邪魔しないエゼクタ作用限界線（点線Ｃ）と、噴出流の領域３６のうちウエブＷ表面の液膜Ｌ１を液切りできる風速の限界位置から外縁部に延ばされた風速限界線（点線Ｄ）とで囲まれた最適領域４０（斜線部分）が、図７及び図８における○の集合領域に略一致することを見つけた。このことは、図７及び図８の上下を逆にした図と、図９とを対比すると分かり易く、図７及び図８の横軸が、図９のウエブＷに相当する。
【０１０５】
そして、最適領域４０を特定するには、先ず、ウエブ下方領域の複数点の風速を風速計（図示せず）で測定することにより、噴出流の領域３６の直ぐ外側（線Ｂで境界される直ぐ外側）の風速が略ゼロである外縁部３８を特定する。外縁部３８を特定したら、位置調整手段３７により遮風壁３４を縦方向に移動させて遮風壁３４の先端３４ａ（上端）を外縁部３８に位置させる。これにより、遮風壁３４の先端３４ａが噴出流の領域３６の外側に位置するので、ウエブＷの下面に沿って流れる噴出流の流れを遮風壁３４によって邪魔することがない。この結果、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能を良好に維持することができる。
【０１０６】
次に、位置調整手段３７により、遮風壁３４を横方向に移動させて、エゼクタ作用限界線（点線Ｃ）を探す。エゼクタ作用限界線よりも遮風壁３４が気体噴出ノズル３２側に近づき過ぎると、エゼクタ作用が邪魔されることに起因して噴出流の風速が低下し、液切り点Ｐが気体噴出ノズル側にシフトする。液切り点Ｐが気体噴出ノズル側にシフトすると、液膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２が遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下してしまい、液滴Ｌ２が液膜Ｌ１除去後のウエブ部分や気体噴出ノズル３２に再付着する恐れがある。従って、遮風壁３４を気体噴出ノズル側に移動していったときに、液切り点Ｐが気体噴出ノズル側にシフトする手前で止める。これにより、遮風壁３４の先端が液切り点Ｐよりも気体噴出ノズル３２側に位置させることができるので、液膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２が遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下してしまうことを防止できる。
【０１０７】
上記の如く遮風壁３４を配置することで、遮風壁３４の先端３４ａを最適領域４０、即ち除去性能及び液滴付着防止性能の両方を満足する○の集合領域に位置させることができる。
【０１０８】
次に、図９〜図１３を使用して、遮風壁３４の先端３４ａが最適領域４０に位置する場合と、位置しない場合との違いを詳細に説明する。
【０１０９】
図９は、遮風壁３４の先端３４ａを最適領域４０に配置した場合であり、図１０は線Ａよりも下側に配置した場合（クリアランスＴが大きすぎる場合）であり、図１１は線Ｂよりも上側に配置した場合（クリアランスＴが小さすぎる場合）である。また、図１２は点線Ｄの外側に配置した場合（距離Ｓが大きすぎる場合）であり、図１３は点線Ｃの外側に配置した場合（距離Ｓが小さすぎる場合）である。
【０１１０】
これらの図から分かるように、図９の場合には、気体噴出ノズル３２からの噴出流によって液切りされる液膜Ｌ１の液切り点Ｐは、遮風壁３４よりも洗浄液吹き付けノズル側に位置すると共に、エゼクタ作用によって誘因される誘因エアＥは遮風壁３４で遮風されるので、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２は、遮風壁３４には付着するが、ウエブＷや気体噴出ノズル３２に付着することを防止できる。
【０１１１】
図１０は、遮風壁３４の先端３４ａがＡ線よりも下側に位置する場合であり、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２は誘因エアＥに乗って気体噴出ノズル側に運ばれる。これにより、液滴Ｌ２が気体噴出ノズル３２や、液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１２】
図１１は、遮風壁３４の先端３４ａがＢ線よりも上側に位置する場合であり、遮風壁３４の先端３４ａが噴出流の領域３６に入り込んでいる。これにより、噴出流の流れが邪魔されることに起因して噴出流の風速が弱くなり、液切り点Ｐが遮風壁３４よりも気体噴出ノズル側にシフトする。この結果、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２が誘因エアＥに運ばれて、気体噴出ノズル３２や液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１３】
図１２は、遮風壁３４の先端３４ａがＤ線よりも左側（洗浄液吹き付けノズル側）に位置する場合であり、遮風壁３４が気体噴出ノズル３２から遠すぎるので、液切り点Ｐが遮風壁３４よりも気体噴出ノズル側に形成される。これにより、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２が、遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下し、誘因エアＥに運ばれて、気体噴出ノズル３２や液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１４】
図１３は、遮風壁３４の先端３４ａがＣ線よりも右側（気体噴出ノズル側）に位置する場合であり、遮風壁３４が気体噴出ノズル３２から近過ぎるので、遮風壁３４によってエゼクタ作用が邪魔される。これにより、誘因エアＥは発現し難くなる反面、噴出流の風速が弱くなる。この結果、液切り点Ｐが遮風壁３４よりも気体噴出ノズル側にシフトするので、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２が、遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下し、弱いながらも生じている誘因エアＥに運ばれて、気体噴出ノズル３２や液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１５】
上記説明した遮風壁３４の先端３４ａを○の集合領域に配置する方法は、外縁部３８の概念を利用して、搬送速度、噴出速度、液膜Ｌ１の厚み等の各種の要因に関係なく、適切な位置に配置することができる。
【０１１６】
しかし、搬送速度、噴出速度、液膜Ｌ１の厚み等の各種の要因の影響を多少受けることを考慮するならば、距離ＳとクリアランスＴとが次の範囲を満足するように、遮風壁３４の先端３４ａを位置決めしてもよい。
【０１１７】
即ち、距離Ｓを５〜２００ｍｍの範囲、より好ましくは２０〜１５０ｍｍの範囲、特に好ましくは４０〜１００ｍｍの範囲にする。また、クリアランスＴを５〜７０ｍｍの範囲、より好ましくは８〜５０ｍｍの範囲、特に好ましくは１０〜３０ｍｍの範囲にする。
【０１１８】
また、遮風壁３４の幅方向における距離Ｓ及びクリアランスＴの精度は、ウエブＷの均一洗浄にとって重要であり、距離Ｓの精度は±１０ｍｍ、より好ましくは±５ｍｍ、特に好ましくは±１ｍｍである。また、クリアランスＴの精度は±５ｍｍ、より好ましくは±２ｍｍ、特に好ましくは±１ｍｍである。尚、この距離Ｓ及びクリアランスＴの精度は、外縁部３８を利用して遮風壁３４の先端３４ａを位置決めする場合にも同様に重要である。
【０１１９】
次に、本発明の洗浄装置２２を多段に設けた態様を説明する。尚、本実施の形態では、３段に設けた一例で説明する。
【０１２０】
図１４に示すように、多段式洗浄装置４２は、洗浄液吹き付けノズル３０、気体噴出ノズル３２、及び遮風壁３４を１組にした洗浄ユニット４４を３段直列に設けて構成される。更に、多段式洗浄装置４２の各洗浄ユニット４４には、ウエブＷの表面（洗浄対象面）が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニット４４に送るための湿潤手段４６が設けられている。本実施の形態では、湿潤手段４６として、加湿ノズル４８を備えた一例で説明する。湿潤手段４６は、一対の加湿ノズル４８、４８が気体噴出ノズル３２の両側（ウエブＷの搬送方向の前後）に配設されると共に、一対の加湿ノズル４８は加湿配管５０に接続される。加湿配管５０にはブロア５２が設けられると共に、加湿配管５２の途中には加湿器５４が設けられる。これにより、加湿された気体（一般的にはエアを使用）が加湿ノズル４８からウエブＷに向けて噴出される。加湿気体は、直接ウエブＷを加湿すると共に、気体噴出ノズル３２からの噴出流に乗ってウエブＷの搬送方向上流側や下流側に運ばれてウエブＷを加湿する。
【０１２１】
このように、１段目の洗浄ユニット４４でウエブＷから洗浄液Ｌを完全に除去しないで均一な湿潤状態で２段目の洗浄ユニット４４に送ることにより、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブＷに吹き付けられた洗浄液ＬをウエブＷの表面に均一に塗布することができる。これにより、均一洗浄を行うことができる。２段目の洗浄ユニット４４から３段目の洗浄ユニット４４に送る場合も同様である。
【０１２２】
尚、本実施の形態では加湿ノズル４８を一対設けたが、１つだけ設けるようにしてもよい。また、本実施の形態では、湿潤手段４６として加湿ノズル４８の例で説明したが、気体噴出ノズル３２からの噴出流の流速及び／又は風量を制御する制御手段（図示せず）を設けて、液膜Ｌ１から除去される洗浄液Ｌの除去量を制御するようにしてもよい。更には、気体噴出ノズル３２から噴出される気体Ｇ中に、洗浄液Ｌの蒸気（ミストも含む）を含有させる蒸気含有手段（図示せず）を設けるようにしてもよい。
【０１２３】
［ポリマーフイルム（ウエブＷ）］
本実施形態に使用されるポリマーフイルム（ウエブＷ）は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ウエブＷとしては、外力により複屈折が発現しにくいものが好ましい。ウエブＷは、エステル結合あるいはアミド結合のような加水分解できる結合（鹸化処理の対象となる結合）を含む。エステル結合が好ましく、エステル結合がポリマーの側鎖に存在していることがさらに好ましい。エステル結合が側鎖に存在しているポリマーとしては、セルロースエステルが代表的である。セルロースの低級脂肪酸エステルがより好ましく、セルロースアセテートがさらに好ましく、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートが最も好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
【０１２４】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましい。
【０１２５】
ウエブＷを光学補償フィルムに用いる場合、ウエブＷは、高いレターデーション値を有することが好ましい。ウエブＷのＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義される。
【０１２６】
（Ｉ） Ｒｅ＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ（II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、ウエブＷ面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率、ｎｙは、ウエブＷ面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率、ｎｚは、ウエブＷの厚み方向の屈折率、ｄは、単位をｎｍとするウエブＷの厚みである。ウエブＷのＲｅレターデーション値は１〜２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーション値は７０〜４００ｎｍであることが好ましい。具体的な値は、測定光の入射方向をウエブＷ膜面の鉛直方向に対して傾斜させた測定結果より外挿して求める。測定は、エリプソメーター（例えば、Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて実施できる。測定波長としては、６３２．８ｎｍ（Ｈｅ−Ｎｅレーザー）を採用する。
【０１２７】
ウエブＷのレターデーションを調整するためには延伸のような外力を与える方法が一般的であるが、また光学異方性を調節するためのレターデーション上昇剤が、場合により添加される。セルロースアシレートフイルムのレターデーションを調整するには、芳香族環を少なくとも二つ有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましい。また、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【０１２８】
ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルおよび炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０１２９】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。さらに２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０１３０】
一般的な方法でポリマー溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。ポリマーの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（０〜４０℃）でポリマーと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【０１３１】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケット構造の加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後、容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【０１３２】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもポリマーを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でポリマーを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られる効果がある。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。ポリマーの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１３３】
次に、混合物を−１００〜−１０℃、好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。なお、冷却速度とは、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【０１３４】
さらに、これを０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃に加温すると、有機溶媒中にポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。なお、加温速度とは、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【０１３５】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保温する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【０１３６】
調製したポリマー溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製膜する。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に加工しておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。これにより、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１３７】
ウエブＷには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。
【０１３８】
さらに、本実施形態におけるウエブＷには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１３９】
さらに、本実施形態におけるウエブＷには、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、微粒子、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤を等）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。また、ウエブＷが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。これらの添加剤の使用量は、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されないが、ウエブＷ全組成物中、０．００１〜２０質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。
【０１４０】
ウエブＷは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％であることが好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、３０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１２０μｍであることがさらに好ましい。
【０１４１】
[アルカリ溶液]
本実施形態に使用されるアルカリ溶液は、水または有機溶剤と水との混合液にアルカリを溶解して調製できる。好ましい有機溶媒は、炭素原子数８以下のアルコール、炭素原子数が６以下のケトン、炭素原子数が６以下のエステル、炭素原子数が６以下の多価アルコールから選ばれる１種または２種以上の有機溶媒である。
【０１４２】
上記有機溶剤としては、一価アルコール（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フッ素化アルコールなど）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、多価アルコール（例、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなど）、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）およびエーテル（例、メチルセルソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル）が挙げられる。特に好ましいものは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、２−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンである。
【０１４３】
有機溶剤は、ウエブＷを溶解したり膨潤したりしないことが必要である。また、アルカリ鹸化溶液の塗布が容易になるように、アルカリ溶液の液物性の項で記載されるように、表面張力が適度に低い有機溶剤を選択することも望ましい。また、有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性（溶解性）、反応温度および反応時間に応じて決定する。短い時間で鹸化反応を完了するためには、高い濃度に溶液を調製することが好ましい。ただし、溶媒濃度が高すぎるとウエブＷ中の成分（可塑剤など）が抽出され、ウエブＷの過度の膨潤が起こる場合があり、適切に選択する。水と有機溶媒の混合比は、３／９７〜８５／１５質量比が好ましい。より好ましくは５／９５〜６０／４０質量比であり、さらに好ましくは１５／８５〜４０／６０質量比である。この範囲において、ウエブＷの光学特性を損なうことなく容易にウエブＷ全面が均一に鹸化処理される。
【０１４４】
アルカリ溶液のアルカリ剤は、無機塩基および有機塩基のいずれも使用できる。低い濃度で鹸化反応をおこすためには強塩基が好ましい。アルカリ金属の水酸化物（例、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＬｉＯＨ）、アミン（例、パーフルオロトリブチルアミン、トリエチルアミン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン等）、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、および錯塩の遊離塩基（例、［Ｐｔ（ＮＨ3）６］（ＯＨ）4）が好ましく、アルカリ金属の水酸化物がさらに好ましく、ＮａＯＨおよびＫＯＨが最も好ましい。
【０１４５】
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリの種類、反応温度および反応時間に応じて決定する。短い時間で鹸化反応を完了するためには、高い濃度に溶液を調製することが好ましい。ただし、アルカリ濃度が高すぎるとアルカリ溶液の安定性が損なわれ、長時間塗布において析出する場合もある。アルカリ溶液の濃度は０.１〜５規定（Ｎ）であることが好ましく、０.５〜５Ｎであることがさらに好ましく、０.５〜３Ｎであることが最も好ましい。
【０１４６】
本実施形態に使用されるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することもできる。界面活性剤を添加することによって、たとえ有機溶媒がウエブＷ含有物質を抽出したとしてもアルカリ溶液中に安定に存在させ、後の水洗工程においても抽出物質が析出、固体化しない。
【０１４７】
上記界面活性剤については、本発明のアルカリ鹸化液に溶解または分散可能なものであれば特に制限はない。ノニオン界面活性剤、イオン性界面活性剤（アニオン、カチオン、両性界面活性剤）等のいずれをも好適に用いることができるが、特にノニオン界面活性剤とアニオン界面活性剤が溶解性と鹸化性能の観点から好ましく用いられる（特開２００３−３１３３２６参照）。
【０１４８】
また、上記アルカリ溶液には、アルカリ溶液への界面活性剤、消泡剤の溶解助剤として、上述した有機溶剤以外の有機溶媒、防黴剤、防菌剤、その他添加剤（たとえば、アルカリ液安定化剤（酸化防止剤等）、水溶性化合物（ポリアルキレングリコール類、天然水溶性樹脂等））が添加されてもよい。
【０１４９】
本実施形態に使用されるアルカリ溶液に用いる水としては、日本国水道法（昭和３２年法律第１７７号）及びそれに基づく水質基準に関する省令（昭和５３年８月３１日厚生省令第５６号）、同国温泉法（昭和２３年７月１０日法律第１２５号及びその別表）、及び、ＷＨＯ規定水道水基準によって規定される水中の混入の状態に於ける各元素やミネラル等への影響、等に基づくものが好ましい。
【０１５０】
本実施形態に使用されるアルカリ溶液の液物性は、上記で説明の組成物から構成されるが、その表面張力が４５ｍＮ／ｍ以下であり、且つ粘度が０．８〜２０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。また、アルカリ溶液の密度は、０．６５〜１．０５ｇ／ｃｍ３であることが好ましい。これにより、アルカリ溶液の塗布が搬送速度に応じて安定な塗布操作が容易に行える様になり、且つウエブＷ表面への液の濡れ性、ウエブＷ表面に塗布した溶液の保持性、鹸化処理後のウエブＷ表面からのアルカリ液の除去性が充分に行われる。
【実施例】
【０１５１】
次に、実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１５２】
（実施例Ａ）
実施例Ａでは、遮風壁３４を設けた場合と設けない場合とで、ウエブＷから除去されて落下した液滴Ｌ２がどのような挙動を示すかを目視的に試験した。
【０１５３】
図１に示されるアルカリ鹸化処理ライン１０のアルカリ溶液塗布装置１４において、セルロースアセテートフイルム（厚さ：１００μｍ、幅：１８９５ｍｍ）の長尺状のウエブＷの一方面の側に、アルカリ溶液（１規定、ＫＯＨ溶液）を１４ｃｃ／ｍ２塗布した。次いで、１１０℃下で約７秒間、アルカリ鹸化処理させた後、反応停止装置１８においてアルカリ溶液に純水を３ｃｃ／ｍ２塗布して、希釈させた。その後、洗浄装置２２においてウエブＷの洗浄を行った。アルカリ鹸化処理ライン１０のウエブＷの搬送速度を１００ｍ／分とした。
【０１５４】
洗浄装置２２では、洗浄液吹き付けノズル３０からウエブＷの一方面（洗浄対象面）に、３７℃の純水を吹き付け速度１００ｃｍ／秒で吹き付けると共に、気体噴出ノズル３２（エアナイフを使用）から噴出風速１５０ｍ／秒でエアを噴出させて噴出流を形成し、ウエブＷに残存する水膜を除去した。
【０１５５】
そして、実施例では、洗浄液吹き付けノズル３０と気体噴出ノズル３２との間に、距離Ｓが６０ｍｍ、クリアランスＴが２０ｍｍになるように遮風壁３４（遮風板３４Ａを使用）を設けた。一方、比較例では、遮風壁３４を設けなかった。
【０１５６】
試験結果を図１５（Ａ）、（Ｂ）の模式図により説明する。図１５（Ａ）は遮風壁３４を設けた実施例であり、図１５（Ｂ）は遮風壁３４を設けない比較例である。
【０１５７】
図１５（Ａ）から分かるように、気体噴出ノズル３２からのエアの噴出によって誘因される誘因エアＥのうち、洗浄液吹き付けノズル側から気体噴出ノズル側に流れる誘因エアＥは、遮風壁３４によって遮風される。これにより、気体噴出ノズル３２による噴出流によって、ウエブＷの水膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２は遮風壁３４よりも洗浄液吹き付けノズル側に落下するので、ウエブＷの水膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２がウエブＷの洗浄後の部分や気体噴出ノズル３２に再付着することを防止できる。従って、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができると共に、気体噴出ノズル３２の噴出口を液滴中のスケールで目詰まりさせることがなかった。
【０１５８】
これに対して、図１５（Ｂ）の比較例では、ウエブＷの水膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２は誘因エアＥに運ばれて、ウエブＷの洗浄後の部分や気体噴出ノズル３２に再付着する。これにより、再付着したウエブ部分の洗浄が不均一になると共に、気体噴出ノズル３２の噴出口を液滴中のスケールで目詰まりすることがあった。
【０１５９】
（実施例Ｂ）
実施例Ｂでは、洗浄ユニット４４を３段設けた図１４の多段式洗浄装置４２を用いて、湿潤処理の効果について試験した。各洗浄ユニット４４の気体噴出ノズル３２の両側に一対の加湿ノズル４８、４８を設けた以外は、実施例Ａと同様である。
【０１６０】
そして、図１６の表に示すように、１段目の洗浄ユニット４４の気体噴出ノズル３２から噴出するエアの温度と露点、及び一対の加湿ノズル４８、４８から噴出するエアの温度と露点を、色々変えたときに、ウエブ表面の洗浄状態がどのようになるかを観察した。
【０１６１】
試験１は、気体噴出ノズル３２から低温（２５℃）で乾いた（５℃ＤＰ）エアを噴出する一方、加湿ノズル４８から気体噴出ノズル３２よりも高温（４０℃）で湿った（４０℃ＤＰ）エアを噴出させた場合である。その結果、１段目終了のウエブ表面は、均一な湿潤状態が形成され、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブ表面に吹き付けられた純水が均一に塗布された。２段目から３段目も同様であった。これにより、均一な多段洗浄を行うことができ、洗浄中の鹸化反応にムラが発生しなかった。
【０１６２】
試験２は、加湿ノズル４８から気体噴出ノズル３２よりも高温（４０℃）で乾いた（５℃ＤＰ）エアを噴出させた場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、１段目終了のウエブ表面が、図１７（Ａ）のように乾き過ぎの状態になり、部分的に湿潤部分（黒色部分）が観察された。即ち、均一な湿潤状態を形成できなかった。これにより、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブ表面に吹き付けられた純水が、乾き過ぎの部分には塗布されにくいために、洗浄が不均一になり、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。得られた製品は不良品扱いとなった。
【０１６３】
試験３は、加湿ノズル４８から気体噴出ノズル３２と同じ温度（２５℃）で湿った（１４℃ＤＰ）エアを噴出させた場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、１段目終了のウエブ表面が、図１７（Ｂ）のように湿り過ぎの状態になり、部分的に乾いた部分（白色部分）が観察された。即ち、均一な湿潤状態を形成できなかった。これにより、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブ表面に吹き付けられた純水が、乾き過ぎの部分には塗布されにくいために、洗浄が不均一になり、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。得られた製品は不良品扱いとなった。
【０１６４】
試験４は、気体噴出ノズル３２から高温（４０℃）で乾いた（５℃ＤＰ）エアを噴出した場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、試験２と同様に乾き過ぎの状態になり、洗浄が不均一になったため、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。
【０１６５】
試験５は気体噴出ノズル３２から低温（２５℃）で湿った（１４℃ＤＰ）エアを噴出した場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、試験３と同様に湿り過ぎの状態になり、洗浄が不均一になったため、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。
【０１６６】
このように、多段式の洗浄を行う場合には、均一な湿潤状態を形成して次段の洗浄装置に送ることが均一洗浄にとって重要になることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】本発明に係る洗浄装置を組み込んだアルカリ鹸化処理ラインを示す全体構成図
【図２】本発明に係る洗浄装置の概念図
【図３】気体噴出ノズルの配置角度を説明する説明図
【図４】エアカーテン方式の遮風壁を説明する説明図
【図５】多孔質材で形成した遮風箱方式の遮風壁を説明する説明図
【図６】遮風壁の先端と気体噴出ノズルとの距離Ｓ及び遮風壁の先端とウエブとのクリアランスＴを説明する説明図
【図７】図６の距離Ｓ、クリアランスＴと液膜除去性能、液滴付着防止性能の関係を示す図で、ウエブの搬送速度が８０ｍ／分の説明図
【図８】図６の距離Ｓ、クリアランスＴと液膜除去性能、液滴付着防止性能の関係を示す図で、ウエブの搬送速度が１００ｍ／分の説明図
【図９】遮風壁先端の配置位置が適切な場合の説明図
【図１０】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１１】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１２】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１３】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１４】本発明における多段式洗浄装置を説明する概念図
【図１５】実施例１における遮風壁の有無による違いを示す概念図
【図１６】本発明の多段式洗浄装置における均一湿潤処理の効果を示す表図
【図１７】多段式洗浄装置の１段目で、ウエブ表面に均一な湿潤状態を形成できない場合の図であり、（Ａ）はウエブ表面が乾き過ぎた場合、（Ｂ）はウエブ表面が湿り過ぎた場合の図
【符号の説明】
【０１６８】
１０…アルカリ鹸化処理ライン、１２…送り出し機、１４…アルカリ溶液塗布装置、１６…温度維持装置、１８…反応停止装置、２２…洗浄装置、２４…乾燥装置、２６…巻き取り機、３０…洗浄液吹き付けノズル、３２…気体噴出ノズル、３４…遮風壁、３４ａ…遮風壁の先端、３６…噴出流の領域、３７…位置調整手段、３８…外縁部、４０…最適領域、４２…多段式洗浄装置、４４…洗浄ユニット、４６…湿潤手段、４８…加湿ノズル、Ｗ…ウエブ、Ｌ…洗浄液、Ｌ１…液膜、Ｌ２…液滴、Ｇ…気体噴出ノズルから噴出される気体、Ｅ…誘因エア、Ｐ…液切り点
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置に係り、特に長尺状光学補償シートの透明支持体として用いられるポリマーフイルムにアルカリ液を塗布してアルカリ鹸化した後に、塗布されたアルカリ液を除去するための洗浄技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学フイルムの需要が増加しつつある。この光学フイルムとしては、液晶セルに位相差板として使用される光学補償シートがある。
【０００３】
ポリマーフイルムで形成された透明支持体上に配向膜および液晶性分子を固定化した光学異方性層を設けた光学補償シートを製造する場合、透明支持体（通常は、セルロースアセテートフイルムに代表されるセルロースエステルフイルム）と配向膜（通常はポリビニルアルコール）との間の良好な密着が必要となる。セルロースエステルフイルムとポリビニルアルコールとの親和性は弱く、この界面での剥がれや割れが発生してしまうため、セルロースエステルフイルム上にゼラチンの下引き層を設けていた。しかしながら、ゼラチン下引き層を塗設する際の塗布液溶媒として、この下引き層とセルロースエステルフイルムの密着を発現させるためにはセルロースエステルフイルムに浸透する溶媒（例えば、ケトン系溶剤など）を用いなければならないため、セルロースエステルフイルムが膨潤し、続く乾燥工程で収縮する過程でフイルムの微細な屈曲が発生する問題があった。この屈曲したフイルム上に配向膜、次いで液晶性分子層を塗設すると、屈曲形状に沿って配向膜と液晶性分子層の厚みムラや液晶性分子の配向ムラが発生し、液晶表示装置の描画品質を劣化させることがわかった。
【０００４】
また、ゼラチン下引き層を設けずにセルロースエステルフイルムと親水性材料（例えば配向膜）との密着性を改良する一般的な方法として、フイルムをアルカリ水溶液中に浸漬する、いわゆる鹸化浴処理を行う方法が知られている（例えば特許文献１）。しかし、この浸漬による鹸化浴処理においては、セルロースエステルフイルムの両面が同時に親水化してしまうため、片面にポリビニルアルコールなどの親水性層を塗設した後にロール状に巻き取ると、表裏が接着してしまう問題が発生する。鹸化浴処理にて、片面のみを親水化する手段としては、目的としない面をラミネートなどの防水加工を施して鹸化処理する方法が挙げられるが、煩雑な工程が増えるばかりでなく、不要な廃棄物が発生するなど、生産性、環境保全の観点で好ましくなかった。
【０００５】
このため、配向膜を塗設するポリマーフイルムの片面のみにアルカリ溶液を連続塗布し、反応時間の経過後、アルカリ溶液を洗浄液で洗浄してポリマーフイルムから洗い落とす鹸化方法が提案された（例えば、特許文献２）。
【０００６】
このようにポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理して親水化する方法においては、ポリマーフイルムに塗布されたアルカリ液の洗浄中においても鹸化反応は進行しているので、洗浄が不均一になると、鹸化ムラが発生してしまい、不良品となってしまう。特に、ポリマーフイルムに洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、気体を吹き付けることにより除去する方法があるが、この場合には除去した液滴や気体の吹き付けにより飛散したミストがポリマーフイルムに再付着すると、洗浄が不均一になってしまう。また、液滴やミストが気体噴出手段の噴出口に付着すると、液滴中のスケールによって噴出口が目詰まりすることもある。従って、均一洗浄には、ポリマーフイルムから洗浄液を均一に除去するのみならず、除去した洗浄液の液滴やミストが再付着することを防止することが重要になる。
【０００７】
シート状物の表面に付着した液体を、気体を吹き付けて除去する技術としては、例えば特許文献３があり、ウエブ状のシートに付着した液体を空気で吹き飛ばし、吹き飛ばした液体を吸引装置で吸引する方法が提案されている。また、特許文献４には、板状の被処理基板に気体を吹き付けて乾燥処理するに際して、被処理基板から飛散したミストを吸引装置で吸引することにより、ミストが基板に再付着するのを防止する方法が提案されている。また、特許文献５は、板状の基板に付着した処理液を吹き飛ばして乾燥する際に、完全に乾燥させないように、基板の処理液が付着した面に向けてその処理液と同じ種類の処理液を霧化して噴射することが提案されている。
【特許文献１】特開平８−９４８３８号公報
【特許文献２】特開２００３−３１３３２６号公報
【特許文献３】特開平６−９９１５０号公報
【特許文献４】特開２００３−２２９４０４号公報
【特許文献５】特開２００１−２２４９９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３及び４のように、除去した液体を吸引装置で吸引する方法は、吸引装置を別途設けなくてはならず、装置が大がかりになるという欠点がある。更に、特許文献３は、噴出ノズル通過後、すなわち液体除去後のシートに液滴が残存しなければ良いという技術であるので、本願発明を適用する好ましい一例のように、洗浄中にも化学反応が進行するような薬剤を洗浄する場合には、洗浄途中、即ち気体噴出ノズルを通過する前に液滴やミストが再付着すると化学反応の進行ムラが発生してしまう。また、特許文献４及び５は、不連続に搬送される板状の基板から気体の噴出で液体を除去する技術であり、基板が通過するときだけ液滴やミストが再付着しないようにしたものである。従って、不連続に搬送される板状の基板には適用できても、本願発明のように連続搬送されるウエブ状被洗浄物の場合には、液滴やミストが再付着してしまうという問題がある。
【０００９】
ところで、ウエブ状の被洗浄物に薬剤を塗布して化学反応を行わせ、その後に化学反応を停止するために薬剤を洗浄液で洗浄して除去する際に、均一洗浄が要求される分野は光学補償シートを製造するためのポリフイルムの鹸化に限らず、他の分野でも必要な技術である。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ウエブ状の被洗浄物に洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、噴出ノズルから噴出する気体で除去する際に、除去した洗浄液の液滴やミストが被洗浄物に再付着することを防止できるので、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができると共に、噴出ノズルの噴出口を液滴やミストのスケールで目詰まりさせることがないウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付け工程と、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する洗浄液除去工程と、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄方法において、前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄方法を提供する。
【００１２】
尚、被洗浄物から除去された液滴にはミストも含むものとすると共に、被洗浄物の搬送方向は水平方向であることが好ましいが、水平に対して多少傾いている場合にも適用できる。以下同様である。
【００１３】
本発明の発明者は、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が被洗浄物や噴出ノズルに再付着する要因として、気体の噴出によって誘因される誘因エアが大きく関与しているとの知見を得た。即ち、気体の噴出によるエゼクター作用によって、噴出周辺のエアが誘因され、この誘因エアの一つとして洗浄液の吹き付け位置から気体の噴出位置に向かう誘因エアが発生する。そして、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が、この誘因エアに運ばれて、洗浄途中の被洗浄物表面や気体を噴出する噴出ノズルに再付着する。被洗浄物に再付着した液滴は、洗浄ムラの原因となると共に、噴出ノズルの噴出口に再付着した液滴はそのスケール（液滴中の固形分）により、噴出口を目詰まりさせる。
【００１４】
本発明の請求項１によれば、気体の噴出によって誘因される誘因エアの成分のうち、吹き付け位置側から噴出位置側に誘因される成分の誘因エアを少なくとも遮風するようにしたので、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が被洗浄物表面や噴出ノズルに再付着するのを防止することができる。これにより、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができるので、被洗浄物の部分において化学反応ムラが発生しない。また、噴出ノズルの噴出口を付着した液滴中のスケールで目詰まりさせることがない。
【００１５】
請求項２は、請求項１において、前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする。
【００１６】
請求項２のように、被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために洗浄液で洗浄する場合において、本発明が特に有効である。尚、化学反応を洗浄して停止するとは、単に化学反応を行う薬剤を洗い落とすことに限定されず、洗浄液と化学反応を行わせることで、薬剤の化学反応を停止することも含む。
【００１７】
請求項３は請求項２において、前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする。
【００１８】
請求項３のように、光学補償フイルムを製造する際に、透明支持体としてのポリマーフイルムをアルカリ鹸化し、鹸化反応を停止させるためにアルカリ液を洗浄液で洗浄する工程では精度の良い均一洗浄が要求されるので、本発明が特に有効になる。
【００１９】
請求項４は請求項１〜３のいずれか１において、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出し、該検出結果に基づいて、前記誘因エアを遮風する遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする。
【００２０】
請求項４は、遮風壁の好ましい配置位置を規定したものである。
【００２１】
本発明は、吹き付け位置から噴出位置に誘因される誘因エアを遮風壁で遮風することで、遮風壁がない場合に比べて被洗浄物から除去された液滴が被洗浄物表面や噴出ノズルに再付着しない効果を発揮することができるが、遮風壁の配置位置を適切に設定することで一層の効果を発揮できる。ここで、遮風壁とは、固体物に限定されず、例えばエアカーテンの気体による壁も含む。遮風壁の横幅は、被洗浄物の横幅と同等〜１．３倍が好ましく、遮風壁の厚みは０．１〜１０ｍｍに形成することが好ましい。
【００２２】
請求項４によれば、遮風壁の先端（被洗浄物側の先端）を、噴出流の外縁部に位置させるようにしたので、遮風壁を配置しても被洗浄物から洗浄液を除去する除去性能を低下させることがなく、且つ除去された液滴が被洗浄物表面や噴出ノズルに再付着しない効果を向上できる。
【００２３】
尚、外縁部とは、気体の噴出流が噴出位置から末広がり形状に形成される領域の直ぐ外側の領域を言い、風速が略ゼロに近い領域を言う。具体的には、風速が０ｍ／秒を超え、ノズル噴出風速の０．５％以下の風速もしくは０．５ｍ／秒以下の風速のいずれか小さい値までの領域をいう。従って、外縁部は、噴出流近傍の風速を何点か測定することにより特定することができる。
【００２４】
請求項５は請求項１〜４のいずれか１において、前記洗浄液吹き付け工程と前記洗浄液除去工程とを一組とした洗浄工程を多段で行うと共に、各洗浄工程では、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄工程に送るための湿潤処理を行うことを特徴とする。
【００２５】
請求項５は、洗浄液吹き付け工程と洗浄液除去工程とを一組とした洗浄工程を多段で行うことを前提とした発明である。例えば、洗浄工程を３段で行う場合、１段目の洗浄工程で被洗浄物から洗浄液を略完全に除去して被洗浄物表面が乾き過ぎの状態にあると、２段目の洗浄工程において吹き付けた洗浄液が被洗浄物表面に均一に塗布されにくくなる。これにより、液膜の厚みムラが形成されるので、洗浄ムラが発現してしまう。洗浄ムラが発現すると、洗浄中にも反応が進む薬剤を洗浄する場合に、反応ムラが発現してしまい不良品となる。
【００２６】
請求項５では、被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄工程に送られるようにしたので、洗浄液を被洗浄物に吹き付けて均一な塗布を行うことができ、液膜の厚みムラが形成されないので、洗浄ムラが発現しにくくなる。
【００２７】
請求項６は請求項５において、前記湿潤処理は、前記噴出流の流速及び／又は風量を制御する処理であることを特徴とする。
【００２８】
請求項６は湿潤処理の好ましい一態様を示すものであり、噴出流の流速及び／又は風量を制御する方法である。噴出流の流速及び／又は風量を制御することで、被洗浄物から除去される洗浄液量が変わるので、湿潤状態を維持できる流速及び／又は風量に制御すればよい。
【００２９】
請求項７は請求項５において、前記湿潤処理は、前記噴出流を形成する気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる処理であることを特徴とする。
【００３０】
請求項７は湿潤処理の好ましい別の態様を示すものであり、噴出流を形成する気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる方法である。尚、噴出流の流速及び／又は風量の制御を併用してもよい。
【００３１】
請求項８は請求項５において、前記湿潤処理は、前記被洗浄物の表面から洗浄液を除去する噴出流の他に、前記被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を別途噴出させる処理であることを特徴とする。
【００３２】
請求項８は湿潤処理の好ましい更に別の態様を示すものであり、洗浄液を除去する噴出流とは別に、被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を噴出させる方法である。尚、噴出流の流速及び／又は風量の制御と併用するようにしてもよい。
【００３３】
請求項９は請求項１〜８のいずれか１において、前記搬送される被洗浄物の洗浄対象である前記表面は、上面と下面のうちの下面であることを特徴とする。
【００３４】
被洗浄物の表面、即ち洗浄対象面が下面である方が、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が落下するので、好ましい。
【００３５】
本発明の請求項１０は前記目的を達成するために、搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付けノズルと、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する気体噴出ノズルと、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄装置において、前記洗浄液吹き付けノズルと前記気体噴出ノズルとの間に、前記被洗浄物の搬送方向に直交する向きを有して遮風壁を設けたことを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄装置を提供する。
【００３６】
請求項１０は、本発明を装置として構成したものであり、洗浄液吹き付けノズルと気体噴出ノズルとの間に、被洗浄物の搬送方向に直交する向きの遮風壁を設けたので、吹き付け位置側から噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することができる。遮風壁の横幅は、被洗浄物の横幅と同等〜１．３倍程度が好ましく、遮風壁の厚みは０．１〜１０ｍｍに形成することが好ましい。
【００３７】
請求項１１は請求項１０において、前記遮風壁により、前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とする。
【００３８】
請求項１１は、遮風壁により吹き付け位置側から噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風するので、被洗浄物から除去された洗浄液の液滴が、この誘因エアに運ばれて、洗浄途中の被洗浄物表面や気体噴出ノズルに再付着するのを防止できる。
【００３９】
請求項１２は請求項１０又は１１において、前記遮風壁は板状の遮風板であることを特徴とする。
【００４０】
請求項１２は遮風壁の好ましい一態様を示したものであり、遮風壁として板状の遮風板を用いたものである。
【００４１】
請求項１３は請求項１０又は１１において、前記遮風壁はエアカーテンであることを特徴とする。
【００４２】
請求項１３は遮風壁の好ましい別態様を示したものであり、遮風壁としてエアカーテンを用いたものである。
【００４３】
請求項１４は請求項１０又は１１において、前記遮風壁は多孔質板で形成された遮風箱であると共に、前記遮風箱から微弱なエアが吹き出されることを特徴とする。
【００４４】
請求項１４は遮風壁の好ましい更に別態様を示したものであり、遮風壁として多孔質板で形成された遮風箱を用い、遮風箱から微弱なエアが吹き出されるようにしたものである。この微弱なエアの吹き出しにより、遮風箱に付着した液滴を排除できる。この場合、エアの吹き出し力が大きいと、遮風箱に付着した液滴が再び飛散して被洗浄物に付着するので、エアの吹き出し力は、遮風箱に付着した液滴を遮風箱から離脱できる程度の微弱なエアであることが必要である。
【００４５】
請求項１５は請求項１０〜１４の少なくとも１において、前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする。
【００４６】
請求項１６は請求項１５において、前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする。
【００４７】
請求項１７は請求項１０〜１６のいずれか１において、前記遮風壁の配置位置を調整する位置調整手段を備えていることを特徴とする。
【００４８】
請求項１７によれば、遮風壁の配置位置を調整する位置調整手段を備えたので、洗浄液を除去したり、再付着を防止したりする上で適切な位置に遮風壁を移動することができる。
【００４９】
この場合、遮風壁を横方向（気体噴出ノズルに対して接近・離間する方向）や、縦方向（被洗浄物に対して接近・離間する方向）の両方に移動して配置位置を調整できることが好ましい。
【００５０】
請求項１８は請求項１７において、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出する検出手段を設け、前記位置調整手段は検出結果に基づいて、前記遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする。
【００５１】
請求項１８は、洗浄液を除去したり、再付着を防止したりする上で、遮風壁の好ましい配置位置を規定したもので、遮風壁の先端を気体の噴出流の外縁部に配置することが好ましい。尚、外縁部とは、上述の通りである。
【００５２】
請求項１９は、１０〜１８のいずれか１において、前記洗浄液噴出ノズルと前記気体噴出ノズルとを一組とした洗浄ユニットを多段に設けると共に、各洗浄ユニットには、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニットに送るための湿潤手段を設けたことを特徴とする。
【００５３】
請求項１９は、洗浄液吹き付けノズルと気体噴出ノズルとを一組とした洗浄ユニットを多段に設けることを前提とした発明であり、各洗浄ユニットには、被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニットに送るための湿潤手段を設けたので、洗浄液の塗布が不均一になるのを防止でき、均一洗浄を行うことができる。
【００５４】
請求項２０〜２２は好ましい湿潤手段を示したものであり、請求項２０は噴出流の流速及び／又は風量を制御する手段であり、請求項２１は噴出ノズルから噴出される気体中に、洗浄液の蒸気（ミストも含む）を含有させる手段であり、請求項２２は被洗浄物の表面を加湿する加湿手段である。
【００５５】
請求項２３は、被洗浄物の洗浄対象面を下面とするようにしたものである。
【発明の効果】
【００５６】
本発明のウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置によれば、ウエブ状の被洗浄物に洗浄液を吹き付けて形成される液膜を、噴出ノズルから噴出する気体で除去する際に、除去した洗浄液の液滴やミストが被洗浄物に再付着することを防止できる。
【００５７】
これにより、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができると共に、噴出ノズルの噴出口を液滴やミストのスケールで目詰まりさせることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】
以下、添付図面に従って、本発明に係るウエブ状被洗浄物の洗浄方法及び装置の好ましい実施の形態について詳説する。
【００５９】
図１は、本発明に係るウエブ状被洗浄物の洗浄装置を、ポリマーフイルムのアルカリ鹸化処理ライン１０に組み込んだ一例を示す全体構成図である。しかし、本発明は、ポリマーフイルムのアルカリ鹸化処理ライン１０に組み込むことに限定されるものではなく、ウエブ状の被洗浄物に薬剤を塗布して化学反応を行わせ、その後に化学反応を停止するために薬剤を洗浄液で洗浄して除去する際に、均一洗浄が要求される全ての分野に好ましく適用できる。
【００６０】
図１に示されるように、アルカリ鹸化処理ライン１０は、主に、送り出し気体噴出ノズル３２と、ポリマーフイルム（以下、ウエブＷと記す）にアルカリ溶液を塗布するアルカリ溶液塗布装置１４と、アルカリ溶液を塗布したウエブＷの温度を室温以上に維持する温度維持装置１６と、温度が維持されたウエブＷに希釈溶媒又は酸性溶液を塗布して反応を停止させる反応停止装置１８と、ウエブＷからアルカリ溶液を洗い落とす本発明の洗浄装置２２と、洗浄後のウエブＷを乾燥させる乾燥装置２４と、巻き取り機２６とから構成される。
【００６１】
アルカリ溶液塗布装置１４は、送り出し機１２より送り出され、ガイドローラ２８によりガイドされるウエブＷの下面に、アルカリ溶液を塗布する塗布手段１４Ａを備えている。本実施形態に使用されるウエブＷ、及びアルカリ液の詳細については、後述する。
【００６２】
上記塗布手段１４Ａとしては、ダイコーター（エクストルージョンコーター、スライドコーター）、ロールコーター（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）、ロッドコーター（細い金属線を巻いたロッド）等、が好ましく使用されるが、少ない塗布量域でも安定に操作できるロッドコーター、グラビアコーター、ブレードコーター、ダイコーターが特に好ましく使用される。
【００６３】
アルカリ溶液の塗布量は、その後、水洗除去するため廃液処理を考慮して、極力抑制することが望ましく、１〜１００ｃｃ／ｍ２が好ましく、１〜５０ｃｃ／ｍ２がより好ましい。また、塗布量の変動をウエブＷの幅方向および塗布時間に対して３０％未満に抑制することが好ましい。
【００６４】
アルカリ鹸化反応に必要なアルカリ塗布量は、ウエブＷの単位面積当りの鹸化反応サイト数に配向膜との密着を発現させるために必要な鹸化深さを乗じた総鹸化サイト数（＝理論アルカリ塗布量）が目安となる。鹸化反応の進行にともなってアルカリが消費され反応速度が低下するため、実際には上述の理論アルカリ塗布量の数倍を塗布することが好ましい。具体的には、理論アルカリ塗布量の２〜２０倍であることが好ましく、２〜５倍であることがさらに好ましい。
【００６５】
アルカリ溶液の温度は、反応温度（＝ウエブＷの温度）に等しいことが望ましい。安定な塗布を行うためには、アルカリ溶液の沸点よりも低い温度であることが好ましく、沸点よりも５℃低い温度であることがさらに好ましく、沸点よりも１０℃低い温度であることが最も好ましい。
【００６６】
温度維持装置１６は、アルカリ溶液を塗布した後、鹸化反応が終了するまで、ウエブＷの温度を室温（約１５℃）以上に保つ加熱手段１６Ａを備えている。加熱手段１６Ａとしては、塗布の反対面への熱風の衝突、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒータによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。赤外線ヒータは、非接触、かつ空気の流れを伴わずに加熱できるため、アルカリ溶液塗布面への影響を最小にできるため好ましい。赤外線ヒータは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。市販の赤外線ヒータ（例えば（株）ノリタケカンパニーリミテド製）を用いてもよい。熱媒体が、オイルまたはスチームを用いるオイル式またはスチーム式の赤外ヒータは、有機溶剤が共存する雰囲気における防爆の観点で好ましい。
【００６７】
ウエブＷの温度は、１５℃〜１５０℃、好ましくは２５℃〜１００℃、さらに好ましくは３０℃〜８０℃に設定される。また、ウエブＷの温度は、アルカリ溶液塗布前に加熱した温度と同じでも異なっていてもよい。ウエブＷの温度の検出には、一般に市販されている非接触の赤外線温度計が利用でき、上記温度範囲に制御するために、加熱手段１６Ａに対してフィードバック制御を行ってもよい。
【００６８】
アルカリ溶液を塗布して、洗い落とすまでに上記温度範囲に保持する時間は、後述する搬送速度にもよるが、１秒〜５分に保つことが好ましく、２〜１００秒間保つことがより好ましく、３〜５０秒間保つことが特に好ましい。
【００６９】
ウエブＷの搬送速度は、上記アルカリ溶液の組成と塗布方式の組み合わせによって決定される。ウエブＷの搬送速度は、一般的に、１０〜５００ｍ／分が好ましく、２０〜３００ｍ／分がさらに好ましい。
【００７０】
また、ウエブＷを、酸素濃度が０〜１８％の範囲にある雰囲気下において鹸化処理することが好ましい。酸素濃度は０〜１５％がさらに好ましく、０〜１０％が最も好ましい。このように、低酸素濃度下で鹸化塗布液を（アルカリ溶液）を塗布することで、ウエブＷの表面特性を制御でき、密着性の高い表面を得ることができる。雰囲気中の酸素以外の気体成分は、不活性ガス（例、窒素、ヘリウム、アルゴン）であることが好ましく、窒素であることが特に好ましい。
【００７１】
反応停止装置１８は、アルカリ溶液とウエブＷとの鹸化反応を停止させるために、アルカリ濃度を下げるための希釈溶媒を塗布するバー塗布機１８Ａを備えている。尚、希釈溶媒の塗布方法については、アルカリ溶液の塗布方法と同様である。
【００７２】
希釈溶媒は、アルカリ溶液中のアルカリ剤を溶解する溶媒であり、水または有機溶剤と水との混合液が好ましく、水がより好ましい。その他、前述したアルカリ鹸化溶液に用いた有機溶剤が優位に用いることができる。なお、二種類以上の有機溶媒を混合して使用してもよい。
【００７３】
希釈溶媒の塗布量は、アルカリ溶液の濃度に応じて決定される。バー塗布機１８Ａのバーがフラットバーの場合は、塗布ビード内の流動が一様でないため、アルカリ溶液と希釈溶媒との混合が発生し、この混合した液が再塗布される。したがって、この場合は希釈溶媒の塗布量によって希釈率を特定することが困難であるため、希釈溶媒塗布後のアルカリ濃度を測定する必要がある。希釈溶媒の塗布量は、元のアルカリ濃度を１．５〜１０倍に希釈することが好ましく、２〜５倍に希釈することがさらに好ましい。
【００７４】
また、上記希釈溶媒の他に、アルカリによる鹸化反応を迅速に停止するため、酸を用いることもできる。この場合、少ない量でアルカリを中和するため、強酸を用いることが好ましい。また、水洗の容易さを考慮すると、アルカリと中和反応後に生成する塩が水に対する溶解度が高い酸を選定することが好ましく、たとえば、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、メタンスルホン酸、クエン酸が好適に使用される。
【００７５】
酸溶液の塗布量は、アルカリの種類とアルカリ溶液の濃度に応じて決定され、酸溶液塗布後のｐＨが４〜９になる様に酸溶液の塗布量が決定されることが好ましく、６〜８になる様に決定されることがより好ましい。
【００７６】
洗浄装置２２では、例えば光学補償フイルムを製造する際に、後工程で塗布される配向膜並びに液晶性分子層の塗膜形成や液晶分子の配向に影響を及ぼすことを防止するため、ウエブＷの表面に残存するアルカリ溶液を完全に且つ均一に洗浄除去することが必要である。洗浄装置２２については後で詳細に説明する。
【００７７】
乾燥装置２４は、洗浄装置２２でアルカリ液が洗い落とされ、ウエブＷに最終的に残った洗浄液Ｌを乾燥する装置であり、ウエブＷをロール状に巻き取る前に、ウエブＷを好ましい含水率に調整するために加熱乾燥する。また、これとは逆に、乾燥装置２４は、設定された湿度を有する風で調湿することもできる。乾燥装置２４としては、クリーン度が高く、ヒータ等で加熱された清浄エアが給気される公知の加熱乾燥手段が使用される。乾燥風の温度は３０〜２００℃が好ましく、４０〜１５０℃がより好ましく、５０〜１２０℃が特に好ましい。尚、乾燥装置２４の前段におけるエアナイフ等の気体噴出ノズル３２で充分に洗浄液Ｌが除去される場合は、特に乾燥装置２４は設けなくても良い。
【００７８】
上記の如くアルカリ鹸化処理されたウエブＷは、一旦巻き取り機２６で巻き取られてもよいし、又は上述した鹸化処理工程の後に連続して光学補償フィルムの機能層の塗設が行われてもよい。
【００７９】
次に、本発明の洗浄装置２２の構成について詳細に説明する。図２は、洗浄装置２２の構成を説明する概念図である。
【００８０】
図２に示されるように、洗浄装置２２は、主に、ウエブの表面（洗浄対象面）に洗浄液Ｌ（水が一般的に使用される）を吹き付ける洗浄液吹き付けノズル３０と、ウエブＷの搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体（エアが一般的に使用される）を噴出してウエブＷの表面に残存する液膜Ｌ１を除去する気体噴出ノズル３２と、洗浄液吹き付けノズル３０と気体噴出ノズル３２との間に設けられた遮風壁３４と、で構成される。
【００８１】
洗浄液吹き付けノズル３０には、洗浄液供給配管３１が接続され、洗浄液供給配管３１から洗浄液吹き付けノズル３０に圧送された洗浄液Ｌが、ウエブＷの下面に吹き付けられる。洗浄液吹き付けノズル３０としては、市販のスプレーノズル（例えば、（株）いけうち製、スプレーイングシステムズ社製）を用いてもよい。これにより、ウエブＷを連続搬送しながら洗浄できる上、噴流によってウエブＷ上の洗浄液Ｌとアルカリ性塗布液との乱流混合が得られ、洗浄効果が向上する。また、洗浄液吹き付けノズル３０としては、上述の例に限らず、塗布ヘッド（例、ファウンテンコーター、フロッグマウスコーター）を用いる方法等も使用できる。
【００８２】
洗浄液吹き付けノズル３０における洗浄液Ｌの吹き付け速度は、高い乱流混合が得られ、且つウエブＷの搬送安定性を損なわない速度の範囲であり、５０〜１０００ｃｍ／秒が好ましく、１００〜７００ｃｍ／秒がより好ましく、１００〜５００ｃｍ／秒がさらに好ましい。
【００８３】
洗浄に使用する洗浄液Ｌの量は、下記に定義される理論希釈率を上回る量である。
【００８４】
理論希釈倍率＝洗浄液Ｌの使用量［ｃｃ／ｍ２］÷アルカリ鹸化溶液の塗布量［ｃｃ／ｍ２］
即ち、洗浄に使用される洗浄液Ｌの全てがアルカリ性塗布液の希釈混合に寄与したという仮定の理論希釈率を定義する。実際には、完全混合は起こらないので、理論希釈率を上回る洗浄液量を使用することとなる。用いたアルカリ性塗布液のアルカリ濃度や副次添加物、溶媒の種類にもよるが、少なくとも１００〜１０００倍、好ましくは５００〜１万倍、さらに好ましくは１０００〜十万倍の理論希釈が得られる洗浄液を使用する。
【００８５】
洗浄で一定量の洗浄液Ｌを用いる場合、一度に全量適用するよりも、洗浄装置２２を多段に設けて、複数回に分割して適用する多段式洗浄方法が好ましい。即ち、一つの洗浄液吹き付けノズル３０と次の洗浄液吹き付けノズル３０との間には適当な時間（距離）を設けて、拡散によるアルカリ性塗布液の希釈を進行させる。尚、多段式洗浄装置については後で、詳細に説明する。
【００８６】
洗浄液Ｌとしては、純水であることが好ましい。本実施形態に使用される純水とは、比電気抵抗が少なくとも０．１ＭΩ以上であり、特にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属イオンは１ｐｐｍ未満、クロル、硝酸などのアニオンは０．１ｐｐｍ未満であることが好ましい。
【００８７】
本発明において、洗浄能力の観点から、洗浄液Ｌの温度は室温以上に維持されることが重要である。洗浄液Ｌの温度は、高いほど汚れ成分（アルカリ溶液等）を洗浄、及び除去しやすい。したがって、洗浄液Ｌの温度は、５〜９０℃の範囲であることが好ましく、２５℃〜８０℃の範囲であることがより好ましく、２５℃〜６０℃の範囲であることがさらに好ましく、３７℃に設定されることが最も好ましい。
【００８８】
なお、洗浄液Ｌの温度を調節する温度調節手段（図示せず）は、洗浄液吹き付けノズル３０、及び洗浄液Ｌを送液する洗浄液供給配管３１等に設けられることが好ましい。温度調節手段としては、各種ヒータ、各種断熱材、保温材、又は洗浄部の全体の雰囲気温度を所定温度に保つ方法等が使用されるが、温度を所定レベルに維持することができれば、他の手段でもよい。
【００８９】
気体噴出ノズル３２には、エア配管３３が接続されると共にエア配管３３にはブロア３５が設けられる。そして、ブロア３５からエア配管３３を介して気体噴出ノズル３２に圧送された気体がウエブＷの下面に向けて噴出され、ウエブＷに当たった気体の一部が、ウエブＷの搬送方向に対向する噴出流となって流れる。この場合、気体噴出ノズル３２の噴出流を効率的に形成するには、図３に示すように、ウエブＷに対する気体噴出ノズル３２の角度θを３０〜９０°、好ましくは５０〜８０°、特に好ましくは６５〜７０°にするとよい。
【００９０】
気体噴出ノズル３２としては、エアナイフが好ましく使用される。但し、エアの噴出量が大きすぎると、ばたつきや寄りなど、ウエブＷの搬送安定性に影響を及ぼすことがあるので、好ましい範囲が存在する。ウエブＷ上の元の水膜厚み、ウエブＷの搬送速度にもよるが、通常は１０〜５００ｍ／秒、好ましくは２０〜３００ｍ／秒、より好ましくは３０〜２００ｍ／秒の風速を使用する。また、均一に液膜除去を行うためには、ウエブＷの幅方向の風速分布を、通常は１０％以内、好ましくは５％以内になる様、気体噴出ノズル３２の吹出し口やエアナイフへの給気方法を調整する。搬送するウエブ表面と気体噴出ノズル３２の噴出口の間隙は、狭い方が液切り性能が増すが、ウエブＷと接触して傷付ける可能性が高くなるため、適当な範囲がある。通常は、１０μｍ〜１０ｃｍ、好ましくは１００μｍ〜５ｃｍ、さらに好ましくは５００μｍ〜１ｃｍの間隙をもって設置する。更に、気体噴出ノズル３２と対向する様に、ウエブＷの洗浄対象面と反対側にバックアップロール（図示せず）を設置してもよい。これにより、間隙の設定が安定するとともに、ウエブＷのバタツキやシワ、変形などの影響を緩和させることができる。
【００９１】
遮風壁３４は、図２に示すように、気体噴出ノズル３２からの気体の噴出によって誘因される誘因エアＥの成分のうち、洗浄液Ｌの吹き付け位置側から気体の噴出位置側に誘因される成分の誘因エアＥを少なくとも遮風することにより、ウエブＷから除去された洗浄液Ｌの液滴Ｌ２がウエブＷの下面（洗浄対象面）や気体噴出ノズル３２に再付着するのを防止するものである。遮風壁３４は、ウエブＷの搬送方向に直交する向きに配置される。遮風壁３４の横幅は、ウエブＷの横幅の１倍〜１．３倍に形成されると共に、遮風壁３４の厚みは０．１ｍｍ〜１０ｍｍに形成される。また、遮風壁３４の高さＨ１は気体噴出ノズル３２の高さＨ２の１．５倍〜２倍に形成されることが好ましい。
【００９２】
遮風壁３４としては、例えば図２に示す板状の遮風板３４Ａ、図４に示すエアカーテン形成装置３４Ｂ、図５に示す遮風箱３４Ｃを好適に使用できるが、これらには限定されない。
【００９３】
エアカーテン形成装置３４Ｂは、ウエブ幅方向に長い噴出口を有するノズルａにエア配管ｂを接続して形成され、ノズルａからウエブＷの下面に向けてカーテン状のエアｃを吹き出す。この場合、カーテン状のエアｃを形成する吹出速度は、ウエブＷがバタつかなく、且つ気体噴出ノズル３２からウエブＷに沿って形成される噴出流の流れを阻害しない程度の速度に制御することが好ましい。
【００９４】
図５の遮風箱３４Ｃは、上面と洗浄液吹き付けノズル側の面が多孔質材料で形成された箱体ｄにエア配管ｅが接続して形成され、エア配管ｅから箱体ｄ内に微弱なエアが供給される。供給されたエアは多孔質材料で形成された上面と洗浄液吹き付けノズル側の面から流れでる。これにより、箱体ｄに付着する液滴Ｌ２を排除する。
【００９５】
図２に示すように、遮風壁３４は、遮風壁３４の配置位置を調整する位置調整手段３７を備えている。そして、位置調整手段３７は、遮風壁３４を、横方向（Ｘ−Ｘ方向）及び縦方向（Ｚ−Ｚ方向）に移動させて、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能の両方が十分に発揮される位置に移動する。尚、図３、図４では示さなかったが、エアカーテン３４Ｂ、遮風箱３４Ｃについても位置調整手段３７が設けられる。
【００９６】
本発明は、洗浄液Ｌの吹き付け位置側から気体Ｇの噴出位置側に誘因される誘因エアＥを遮風壁３４で遮風することで、遮風壁３４がない従来に比べてウエブＷから除去された液滴Ｌ２がウエブ表面や気体噴出ノズル３２に再付着しない効果を発揮することができる。しかし、遮風壁３４の配置位置を適切に設定することで一層の効果を発揮させることができる。
【００９７】
次に、遮風壁３４の好ましい配置位置について説明する。
【００９８】
ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能の両方が十分に発揮される位置に遮風壁３４を配置するには、遮風壁３４の先端（上端）を基準として配置すればよい。
【００９９】
図６に示すように、遮風壁３４の先端から気体噴出ノズル３２（噴出口位置まで）の距離をＳとし、遮風壁３４の先端とウエブＷの下面までのクリアランスをＴとし、位置調整手段３７で、距離ＳとクリアランスＴとを変えたときに、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能にどのように影響するかを調べた。
【０１００】
図７は、気体噴出ノズル３２からの気体の噴出速度を１５０ｍ／秒、ウエブＷの搬送速度を８０ｍ／分として洗浄を行った場合であり、図８は気体の噴出速度を１５０ｍ／秒、ウエブＷの搬送速度を８０ｍ／分として洗浄を行った場合である。図７及び図８ともに、横軸に距離Ｓをとり、縦軸にクリアランスＴをとった。また、○は液膜Ｌ１の除去性能及び液滴付着防止性能の両方が良好であることを示し、×は除去性能及び液滴付着防止性能の少なくとも一方において悪い結果であることを示す。
【０１０１】
図７から分かるように、○の集合領域は、距離Ｓが４０ｍｍを超えて８０ｍｍ未満であり、クリアランスＴが１０ｍｍを超えて３０ｍｍ未満で囲まれる領域である。また、図８の場合は、○の集合領域は、距離Ｓが５０ｍｍを超えて７０ｍｍ未満であり、クリアランスＴが１５ｍｍを超えて２５ｍｍ未満で囲まれる領域である。
【０１０２】
図７と図８の比較から分かるように、ウエブＷの搬送速度が速くなると、点線Ａ、点線Ｂ、点線Ｃ、及び点線Ｄで囲まれた○の集合領域が小さくなる。図示しなかったが、ウエブＷの搬送速度を８０ｍ／分よりも小さくすると、○の集合領域が大きくなる。同様に、気体噴出ノズル３２からの噴出速度やウエブＷに残存する液膜Ｌ１の厚みを変えた場合にも、○の集合領域は変動する。しかし、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能や液滴付着防止性能の両方を十分に得るためには、搬送速度、噴出速度、液膜Ｌ１の厚み等の各種の要因に関係なく、遮風壁３４の先端を○の集合領域に位置させることが必要になる。
【０１０３】
従って、各種の要因に影響されずに、位置調整手段３７で遮風壁３４の先端を○の集合領域に配置するには、○の集合領域を簡単に特定できることが必要になる。
【０１０４】
そこで、発明者は、点線Ａ、点線Ｂ、点線Ｃ、及び点線Ｄで囲まれた○の集合領域を特定する方法を鋭意研究した。その結果、図９に示すように、気体噴出ノズル３２の噴出位置から末広がり形状に形成される噴出流の領域３６（ウエブＷと点線Ｂとで挟まれた領域）の直ぐ外側の領域である外縁部３８（点線Ａと点線Ｂとで挟まれた領域）のうち、気体の噴出によって発生するエゼクタ作用を邪魔しないエゼクタ作用限界線（点線Ｃ）と、噴出流の領域３６のうちウエブＷ表面の液膜Ｌ１を液切りできる風速の限界位置から外縁部に延ばされた風速限界線（点線Ｄ）とで囲まれた最適領域４０（斜線部分）が、図７及び図８における○の集合領域に略一致することを見つけた。このことは、図７及び図８の上下を逆にした図と、図９とを対比すると分かり易く、図７及び図８の横軸が、図９のウエブＷに相当する。
【０１０５】
そして、最適領域４０を特定するには、先ず、ウエブ下方領域の複数点の風速を風速計（図示せず）で測定することにより、噴出流の領域３６の直ぐ外側（線Ｂで境界される直ぐ外側）の風速が略ゼロである外縁部３８を特定する。外縁部３８を特定したら、位置調整手段３７により遮風壁３４を縦方向に移動させて遮風壁３４の先端３４ａ（上端）を外縁部３８に位置させる。これにより、遮風壁３４の先端３４ａが噴出流の領域３６の外側に位置するので、ウエブＷの下面に沿って流れる噴出流の流れを遮風壁３４によって邪魔することがない。この結果、ウエブＷに残存する液膜Ｌ１の除去性能を良好に維持することができる。
【０１０６】
次に、位置調整手段３７により、遮風壁３４を横方向に移動させて、エゼクタ作用限界線（点線Ｃ）を探す。エゼクタ作用限界線よりも遮風壁３４が気体噴出ノズル３２側に近づき過ぎると、エゼクタ作用が邪魔されることに起因して噴出流の風速が低下し、液切り点Ｐが気体噴出ノズル側にシフトする。液切り点Ｐが気体噴出ノズル側にシフトすると、液膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２が遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下してしまい、液滴Ｌ２が液膜Ｌ１除去後のウエブ部分や気体噴出ノズル３２に再付着する恐れがある。従って、遮風壁３４を気体噴出ノズル側に移動していったときに、液切り点Ｐが気体噴出ノズル側にシフトする手前で止める。これにより、遮風壁３４の先端が液切り点Ｐよりも気体噴出ノズル３２側に位置させることができるので、液膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２が遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下してしまうことを防止できる。
【０１０７】
上記の如く遮風壁３４を配置することで、遮風壁３４の先端３４ａを最適領域４０、即ち除去性能及び液滴付着防止性能の両方を満足する○の集合領域に位置させることができる。
【０１０８】
次に、図９〜図１３を使用して、遮風壁３４の先端３４ａが最適領域４０に位置する場合と、位置しない場合との違いを詳細に説明する。
【０１０９】
図９は、遮風壁３４の先端３４ａを最適領域４０に配置した場合であり、図１０は線Ａよりも下側に配置した場合（クリアランスＴが大きすぎる場合）であり、図１１は線Ｂよりも上側に配置した場合（クリアランスＴが小さすぎる場合）である。また、図１２は点線Ｄの外側に配置した場合（距離Ｓが大きすぎる場合）であり、図１３は点線Ｃの外側に配置した場合（距離Ｓが小さすぎる場合）である。
【０１１０】
これらの図から分かるように、図９の場合には、気体噴出ノズル３２からの噴出流によって液切りされる液膜Ｌ１の液切り点Ｐは、遮風壁３４よりも洗浄液吹き付けノズル側に位置すると共に、エゼクタ作用によって誘因される誘因エアＥは遮風壁３４で遮風されるので、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２は、遮風壁３４には付着するが、ウエブＷや気体噴出ノズル３２に付着することを防止できる。
【０１１１】
図１０は、遮風壁３４の先端３４ａがＡ線よりも下側に位置する場合であり、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２は誘因エアＥに乗って気体噴出ノズル側に運ばれる。これにより、液滴Ｌ２が気体噴出ノズル３２や、液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１２】
図１１は、遮風壁３４の先端３４ａがＢ線よりも上側に位置する場合であり、遮風壁３４の先端３４ａが噴出流の領域３６に入り込んでいる。これにより、噴出流の流れが邪魔されることに起因して噴出流の風速が弱くなり、液切り点Ｐが遮風壁３４よりも気体噴出ノズル側にシフトする。この結果、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２が誘因エアＥに運ばれて、気体噴出ノズル３２や液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１３】
図１２は、遮風壁３４の先端３４ａがＤ線よりも左側（洗浄液吹き付けノズル側）に位置する場合であり、遮風壁３４が気体噴出ノズル３２から遠すぎるので、液切り点Ｐが遮風壁３４よりも気体噴出ノズル側に形成される。これにより、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２が、遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下し、誘因エアＥに運ばれて、気体噴出ノズル３２や液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１４】
図１３は、遮風壁３４の先端３４ａがＣ線よりも右側（気体噴出ノズル側）に位置する場合であり、遮風壁３４が気体噴出ノズル３２から近過ぎるので、遮風壁３４によってエゼクタ作用が邪魔される。これにより、誘因エアＥは発現し難くなる反面、噴出流の風速が弱くなる。この結果、液切り点Ｐが遮風壁３４よりも気体噴出ノズル側にシフトするので、液膜Ｌ１から除去されて落下した液滴Ｌ２が、遮風壁３４の気体噴出ノズル側に落下し、弱いながらも生じている誘因エアＥに運ばれて、気体噴出ノズル３２や液膜Ｌ１が除去されたウエブ部分に再付着する。
【０１１５】
上記説明した遮風壁３４の先端３４ａを○の集合領域に配置する方法は、外縁部３８の概念を利用して、搬送速度、噴出速度、液膜Ｌ１の厚み等の各種の要因に関係なく、適切な位置に配置することができる。
【０１１６】
しかし、搬送速度、噴出速度、液膜Ｌ１の厚み等の各種の要因の影響を多少受けることを考慮するならば、距離ＳとクリアランスＴとが次の範囲を満足するように、遮風壁３４の先端３４ａを位置決めしてもよい。
【０１１７】
即ち、距離Ｓを５〜２００ｍｍの範囲、より好ましくは２０〜１５０ｍｍの範囲、特に好ましくは４０〜１００ｍｍの範囲にする。また、クリアランスＴを５〜７０ｍｍの範囲、より好ましくは８〜５０ｍｍの範囲、特に好ましくは１０〜３０ｍｍの範囲にする。
【０１１８】
また、遮風壁３４の幅方向における距離Ｓ及びクリアランスＴの精度は、ウエブＷの均一洗浄にとって重要であり、距離Ｓの精度は±１０ｍｍ、より好ましくは±５ｍｍ、特に好ましくは±１ｍｍである。また、クリアランスＴの精度は±５ｍｍ、より好ましくは±２ｍｍ、特に好ましくは±１ｍｍである。尚、この距離Ｓ及びクリアランスＴの精度は、外縁部３８を利用して遮風壁３４の先端３４ａを位置決めする場合にも同様に重要である。
【０１１９】
次に、本発明の洗浄装置２２を多段に設けた態様を説明する。尚、本実施の形態では、３段に設けた一例で説明する。
【０１２０】
図１４に示すように、多段式洗浄装置４２は、洗浄液吹き付けノズル３０、気体噴出ノズル３２、及び遮風壁３４を１組にした洗浄ユニット４４を３段直列に設けて構成される。更に、多段式洗浄装置４２の各洗浄ユニット４４には、ウエブＷの表面（洗浄対象面）が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニット４４に送るための湿潤手段４６が設けられている。本実施の形態では、湿潤手段４６として、加湿ノズル４８を備えた一例で説明する。湿潤手段４６は、一対の加湿ノズル４８、４８が気体噴出ノズル３２の両側（ウエブＷの搬送方向の前後）に配設されると共に、一対の加湿ノズル４８は加湿配管５０に接続される。加湿配管５０にはブロア５２が設けられると共に、加湿配管５２の途中には加湿器５４が設けられる。これにより、加湿された気体（一般的にはエアを使用）が加湿ノズル４８からウエブＷに向けて噴出される。加湿気体は、直接ウエブＷを加湿すると共に、気体噴出ノズル３２からの噴出流に乗ってウエブＷの搬送方向上流側や下流側に運ばれてウエブＷを加湿する。
【０１２１】
このように、１段目の洗浄ユニット４４でウエブＷから洗浄液Ｌを完全に除去しないで均一な湿潤状態で２段目の洗浄ユニット４４に送ることにより、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブＷに吹き付けられた洗浄液ＬをウエブＷの表面に均一に塗布することができる。これにより、均一洗浄を行うことができる。２段目の洗浄ユニット４４から３段目の洗浄ユニット４４に送る場合も同様である。
【０１２２】
尚、本実施の形態では加湿ノズル４８を一対設けたが、１つだけ設けるようにしてもよい。また、本実施の形態では、湿潤手段４６として加湿ノズル４８の例で説明したが、気体噴出ノズル３２からの噴出流の流速及び／又は風量を制御する制御手段（図示せず）を設けて、液膜Ｌ１から除去される洗浄液Ｌの除去量を制御するようにしてもよい。更には、気体噴出ノズル３２から噴出される気体Ｇ中に、洗浄液Ｌの蒸気（ミストも含む）を含有させる蒸気含有手段（図示せず）を設けるようにしてもよい。
【０１２３】
［ポリマーフイルム（ウエブＷ）］
本実施形態に使用されるポリマーフイルム（ウエブＷ）は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ウエブＷとしては、外力により複屈折が発現しにくいものが好ましい。ウエブＷは、エステル結合あるいはアミド結合のような加水分解できる結合（鹸化処理の対象となる結合）を含む。エステル結合が好ましく、エステル結合がポリマーの側鎖に存在していることがさらに好ましい。エステル結合が側鎖に存在しているポリマーとしては、セルロースエステルが代表的である。セルロースの低級脂肪酸エステルがより好ましく、セルロースアセテートがさらに好ましく、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートが最も好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
【０１２４】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましい。
【０１２５】
ウエブＷを光学補償フィルムに用いる場合、ウエブＷは、高いレターデーション値を有することが好ましい。ウエブＷのＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義される。
【０１２６】
（Ｉ） Ｒｅ＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ（II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、ウエブＷ面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率、ｎｙは、ウエブＷ面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率、ｎｚは、ウエブＷの厚み方向の屈折率、ｄは、単位をｎｍとするウエブＷの厚みである。ウエブＷのＲｅレターデーション値は１〜２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーション値は７０〜４００ｎｍであることが好ましい。具体的な値は、測定光の入射方向をウエブＷ膜面の鉛直方向に対して傾斜させた測定結果より外挿して求める。測定は、エリプソメーター（例えば、Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて実施できる。測定波長としては、６３２．８ｎｍ（Ｈｅ−Ｎｅレーザー）を採用する。
【０１２７】
ウエブＷのレターデーションを調整するためには延伸のような外力を与える方法が一般的であるが、また光学異方性を調節するためのレターデーション上昇剤が、場合により添加される。セルロースアシレートフイルムのレターデーションを調整するには、芳香族環を少なくとも二つ有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましい。また、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【０１２８】
ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルおよび炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【０１２９】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。さらに２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【０１３０】
一般的な方法でポリマー溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。ポリマーの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（０〜４０℃）でポリマーと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【０１３１】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケット構造の加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後、容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【０１３２】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもポリマーを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でポリマーを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られる効果がある。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。ポリマーの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１３３】
次に、混合物を−１００〜−１０℃、好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。なお、冷却速度とは、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【０１３４】
さらに、これを０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃に加温すると、有機溶媒中にポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。なお、加温速度とは、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【０１３５】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保温する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【０１３６】
調製したポリマー溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製膜する。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に加工しておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。これにより、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１３７】
ウエブＷには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。
【０１３８】
さらに、本実施形態におけるウエブＷには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１３９】
さらに、本実施形態におけるウエブＷには、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、微粒子、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤を等）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。また、ウエブＷが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。これらの添加剤の使用量は、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されないが、ウエブＷ全組成物中、０．００１〜２０質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。
【０１４０】
ウエブＷは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％であることが好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、３０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１２０μｍであることがさらに好ましい。
【０１４１】
[アルカリ溶液]
本実施形態に使用されるアルカリ溶液は、水または有機溶剤と水との混合液にアルカリを溶解して調製できる。好ましい有機溶媒は、炭素原子数８以下のアルコール、炭素原子数が６以下のケトン、炭素原子数が６以下のエステル、炭素原子数が６以下の多価アルコールから選ばれる１種または２種以上の有機溶媒である。
【０１４２】
上記有機溶剤としては、一価アルコール（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フッ素化アルコールなど）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、多価アルコール（例、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなど）、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）およびエーテル（例、メチルセルソルブ、エチレングリコールジエチルエーテル）が挙げられる。特に好ましいものは、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、２−ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンである。
【０１４３】
有機溶剤は、ウエブＷを溶解したり膨潤したりしないことが必要である。また、アルカリ鹸化溶液の塗布が容易になるように、アルカリ溶液の液物性の項で記載されるように、表面張力が適度に低い有機溶剤を選択することも望ましい。また、有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性（溶解性）、反応温度および反応時間に応じて決定する。短い時間で鹸化反応を完了するためには、高い濃度に溶液を調製することが好ましい。ただし、溶媒濃度が高すぎるとウエブＷ中の成分（可塑剤など）が抽出され、ウエブＷの過度の膨潤が起こる場合があり、適切に選択する。水と有機溶媒の混合比は、３／９７〜８５／１５質量比が好ましい。より好ましくは５／９５〜６０／４０質量比であり、さらに好ましくは１５／８５〜４０／６０質量比である。この範囲において、ウエブＷの光学特性を損なうことなく容易にウエブＷ全面が均一に鹸化処理される。
【０１４４】
アルカリ溶液のアルカリ剤は、無機塩基および有機塩基のいずれも使用できる。低い濃度で鹸化反応をおこすためには強塩基が好ましい。アルカリ金属の水酸化物（例、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＬｉＯＨ）、アミン（例、パーフルオロトリブチルアミン、トリエチルアミン、ジアザビシクロノネン、ジアザビシクロウンデセン等）、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド（アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）、および錯塩の遊離塩基（例、［Ｐｔ（ＮＨ3）６］（ＯＨ）4）が好ましく、アルカリ金属の水酸化物がさらに好ましく、ＮａＯＨおよびＫＯＨが最も好ましい。
【０１４５】
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリの種類、反応温度および反応時間に応じて決定する。短い時間で鹸化反応を完了するためには、高い濃度に溶液を調製することが好ましい。ただし、アルカリ濃度が高すぎるとアルカリ溶液の安定性が損なわれ、長時間塗布において析出する場合もある。アルカリ溶液の濃度は０.１〜５規定（Ｎ）であることが好ましく、０.５〜５Ｎであることがさらに好ましく、０.５〜３Ｎであることが最も好ましい。
【０１４６】
本実施形態に使用されるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することもできる。界面活性剤を添加することによって、たとえ有機溶媒がウエブＷ含有物質を抽出したとしてもアルカリ溶液中に安定に存在させ、後の水洗工程においても抽出物質が析出、固体化しない。
【０１４７】
上記界面活性剤については、本発明のアルカリ鹸化液に溶解または分散可能なものであれば特に制限はない。ノニオン界面活性剤、イオン性界面活性剤（アニオン、カチオン、両性界面活性剤）等のいずれをも好適に用いることができるが、特にノニオン界面活性剤とアニオン界面活性剤が溶解性と鹸化性能の観点から好ましく用いられる（特開２００３−３１３３２６参照）。
【０１４８】
また、上記アルカリ溶液には、アルカリ溶液への界面活性剤、消泡剤の溶解助剤として、上述した有機溶剤以外の有機溶媒、防黴剤、防菌剤、その他添加剤（たとえば、アルカリ液安定化剤（酸化防止剤等）、水溶性化合物（ポリアルキレングリコール類、天然水溶性樹脂等））が添加されてもよい。
【０１４９】
本実施形態に使用されるアルカリ溶液に用いる水としては、日本国水道法（昭和３２年法律第１７７号）及びそれに基づく水質基準に関する省令（昭和５３年８月３１日厚生省令第５６号）、同国温泉法（昭和２３年７月１０日法律第１２５号及びその別表）、及び、ＷＨＯ規定水道水基準によって規定される水中の混入の状態に於ける各元素やミネラル等への影響、等に基づくものが好ましい。
【０１５０】
本実施形態に使用されるアルカリ溶液の液物性は、上記で説明の組成物から構成されるが、その表面張力が４５ｍＮ／ｍ以下であり、且つ粘度が０．８〜２０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。また、アルカリ溶液の密度は、０．６５〜１．０５ｇ／ｃｍ３であることが好ましい。これにより、アルカリ溶液の塗布が搬送速度に応じて安定な塗布操作が容易に行える様になり、且つウエブＷ表面への液の濡れ性、ウエブＷ表面に塗布した溶液の保持性、鹸化処理後のウエブＷ表面からのアルカリ液の除去性が充分に行われる。
【実施例】
【０１５１】
次に、実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１５２】
（実施例Ａ）
実施例Ａでは、遮風壁３４を設けた場合と設けない場合とで、ウエブＷから除去されて落下した液滴Ｌ２がどのような挙動を示すかを目視的に試験した。
【０１５３】
図１に示されるアルカリ鹸化処理ライン１０のアルカリ溶液塗布装置１４において、セルロースアセテートフイルム（厚さ：１００μｍ、幅：１８９５ｍｍ）の長尺状のウエブＷの一方面の側に、アルカリ溶液（１規定、ＫＯＨ溶液）を１４ｃｃ／ｍ２塗布した。次いで、１１０℃下で約７秒間、アルカリ鹸化処理させた後、反応停止装置１８においてアルカリ溶液に純水を３ｃｃ／ｍ２塗布して、希釈させた。その後、洗浄装置２２においてウエブＷの洗浄を行った。アルカリ鹸化処理ライン１０のウエブＷの搬送速度を１００ｍ／分とした。
【０１５４】
洗浄装置２２では、洗浄液吹き付けノズル３０からウエブＷの一方面（洗浄対象面）に、３７℃の純水を吹き付け速度１００ｃｍ／秒で吹き付けると共に、気体噴出ノズル３２（エアナイフを使用）から噴出風速１５０ｍ／秒でエアを噴出させて噴出流を形成し、ウエブＷに残存する水膜を除去した。
【０１５５】
そして、実施例では、洗浄液吹き付けノズル３０と気体噴出ノズル３２との間に、距離Ｓが６０ｍｍ、クリアランスＴが２０ｍｍになるように遮風壁３４（遮風板３４Ａを使用）を設けた。一方、比較例では、遮風壁３４を設けなかった。
【０１５６】
試験結果を図１５（Ａ）、（Ｂ）の模式図により説明する。図１５（Ａ）は遮風壁３４を設けた実施例であり、図１５（Ｂ）は遮風壁３４を設けない比較例である。
【０１５７】
図１５（Ａ）から分かるように、気体噴出ノズル３２からのエアの噴出によって誘因される誘因エアＥのうち、洗浄液吹き付けノズル側から気体噴出ノズル側に流れる誘因エアＥは、遮風壁３４によって遮風される。これにより、気体噴出ノズル３２による噴出流によって、ウエブＷの水膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２は遮風壁３４よりも洗浄液吹き付けノズル側に落下するので、ウエブＷの水膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２がウエブＷの洗浄後の部分や気体噴出ノズル３２に再付着することを防止できる。従って、洗浄中においても化学反応が進行する薬剤を洗浄する場合であっても、洗浄ムラのない均一洗浄を行うことができると共に、気体噴出ノズル３２の噴出口を液滴中のスケールで目詰まりさせることがなかった。
【０１５８】
これに対して、図１５（Ｂ）の比較例では、ウエブＷの水膜Ｌ１から除去された液滴Ｌ２は誘因エアＥに運ばれて、ウエブＷの洗浄後の部分や気体噴出ノズル３２に再付着する。これにより、再付着したウエブ部分の洗浄が不均一になると共に、気体噴出ノズル３２の噴出口を液滴中のスケールで目詰まりすることがあった。
【０１５９】
（実施例Ｂ）
実施例Ｂでは、洗浄ユニット４４を３段設けた図１４の多段式洗浄装置４２を用いて、湿潤処理の効果について試験した。各洗浄ユニット４４の気体噴出ノズル３２の両側に一対の加湿ノズル４８、４８を設けた以外は、実施例Ａと同様である。
【０１６０】
そして、図１６の表に示すように、１段目の洗浄ユニット４４の気体噴出ノズル３２から噴出するエアの温度と露点、及び一対の加湿ノズル４８、４８から噴出するエアの温度と露点を、色々変えたときに、ウエブ表面の洗浄状態がどのようになるかを観察した。
【０１６１】
試験１は、気体噴出ノズル３２から低温（２５℃）で乾いた（５℃ＤＰ）エアを噴出する一方、加湿ノズル４８から気体噴出ノズル３２よりも高温（４０℃）で湿った（４０℃ＤＰ）エアを噴出させた場合である。その結果、１段目終了のウエブ表面は、均一な湿潤状態が形成され、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブ表面に吹き付けられた純水が均一に塗布された。２段目から３段目も同様であった。これにより、均一な多段洗浄を行うことができ、洗浄中の鹸化反応にムラが発生しなかった。
【０１６２】
試験２は、加湿ノズル４８から気体噴出ノズル３２よりも高温（４０℃）で乾いた（５℃ＤＰ）エアを噴出させた場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、１段目終了のウエブ表面が、図１７（Ａ）のように乾き過ぎの状態になり、部分的に湿潤部分（黒色部分）が観察された。即ち、均一な湿潤状態を形成できなかった。これにより、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブ表面に吹き付けられた純水が、乾き過ぎの部分には塗布されにくいために、洗浄が不均一になり、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。得られた製品は不良品扱いとなった。
【０１６３】
試験３は、加湿ノズル４８から気体噴出ノズル３２と同じ温度（２５℃）で湿った（１４℃ＤＰ）エアを噴出させた場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、１段目終了のウエブ表面が、図１７（Ｂ）のように湿り過ぎの状態になり、部分的に乾いた部分（白色部分）が観察された。即ち、均一な湿潤状態を形成できなかった。これにより、２段目の洗浄液吹き付けノズル３０からウエブ表面に吹き付けられた純水が、乾き過ぎの部分には塗布されにくいために、洗浄が不均一になり、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。得られた製品は不良品扱いとなった。
【０１６４】
試験４は、気体噴出ノズル３２から高温（４０℃）で乾いた（５℃ＤＰ）エアを噴出した場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、試験２と同様に乾き過ぎの状態になり、洗浄が不均一になったため、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。
【０１６５】
試験５は気体噴出ノズル３２から低温（２５℃）で湿った（１４℃ＤＰ）エアを噴出した場合であり、その他は試験１と同様である。その結果、試験３と同様に湿り過ぎの状態になり、洗浄が不均一になったため、洗浄中における鹸化反応ムラが発現した。
【０１６６】
このように、多段式の洗浄を行う場合には、均一な湿潤状態を形成して次段の洗浄装置に送ることが均一洗浄にとって重要になることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１６７】
【図１】本発明に係る洗浄装置を組み込んだアルカリ鹸化処理ラインを示す全体構成図
【図２】本発明に係る洗浄装置の概念図
【図３】気体噴出ノズルの配置角度を説明する説明図
【図４】エアカーテン方式の遮風壁を説明する説明図
【図５】多孔質材で形成した遮風箱方式の遮風壁を説明する説明図
【図６】遮風壁の先端と気体噴出ノズルとの距離Ｓ及び遮風壁の先端とウエブとのクリアランスＴを説明する説明図
【図７】図６の距離Ｓ、クリアランスＴと液膜除去性能、液滴付着防止性能の関係を示す図で、ウエブの搬送速度が８０ｍ／分の説明図
【図８】図６の距離Ｓ、クリアランスＴと液膜除去性能、液滴付着防止性能の関係を示す図で、ウエブの搬送速度が１００ｍ／分の説明図
【図９】遮風壁先端の配置位置が適切な場合の説明図
【図１０】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１１】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１２】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１３】遮風壁先端の配置位置が適切でない場合の説明図
【図１４】本発明における多段式洗浄装置を説明する概念図
【図１５】実施例１における遮風壁の有無による違いを示す概念図
【図１６】本発明の多段式洗浄装置における均一湿潤処理の効果を示す表図
【図１７】多段式洗浄装置の１段目で、ウエブ表面に均一な湿潤状態を形成できない場合の図であり、（Ａ）はウエブ表面が乾き過ぎた場合、（Ｂ）はウエブ表面が湿り過ぎた場合の図
【符号の説明】
【０１６８】
１０…アルカリ鹸化処理ライン、１２…送り出し機、１４…アルカリ溶液塗布装置、１６…温度維持装置、１８…反応停止装置、２２…洗浄装置、２４…乾燥装置、２６…巻き取り機、３０…洗浄液吹き付けノズル、３２…気体噴出ノズル、３４…遮風壁、３４ａ…遮風壁の先端、３６…噴出流の領域、３７…位置調整手段、３８…外縁部、４０…最適領域、４２…多段式洗浄装置、４４…洗浄ユニット、４６…湿潤手段、４８…加湿ノズル、Ｗ…ウエブ、Ｌ…洗浄液、Ｌ１…液膜、Ｌ２…液滴、Ｇ…気体噴出ノズルから噴出される気体、Ｅ…誘因エア、Ｐ…液切り点
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付け工程と、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する洗浄液除去工程と、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄方法において、
前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項２】
前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする請求項１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項３】
前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする請求項２のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項４】
前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出し、該検出結果に基づいて、前記誘因エアを遮風する遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする請求項１〜３の何れか１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄液吹き付け工程と前記洗浄液除去工程とを一組とした洗浄工程を多段で行うと共に、各洗浄工程では、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄工程に送るための湿潤処理を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項６】
前記湿潤処理は、前記噴出流の流速及び／又は風量を制御する処理であることを特徴とする請求項５のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項７】
前記湿潤処理は、前記噴出流を形成する気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる処理であることを特徴とする請求項５のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項８】
前記湿潤処理は、前記被洗浄物の表面から洗浄液を除去する噴出流の他に、前記被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を別途噴出させる処理であることを特徴とする請求項５のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項９】
前記搬送される被洗浄物の洗浄対象面である前記表面は、上面と下面のうちの下面であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項１０】
搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付けノズルと、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する気体噴出ノズルと、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄装置において、
前記洗浄液吹き付けノズルと前記気体噴出ノズルとの間に、前記被洗浄物の搬送方向に直交する向きを有して遮風壁を設けたことを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１１】
前記遮風壁により、前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とする請求項１０のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１２】
前記遮風壁は板状の遮風板であることを特徴とする請求項１０又は１１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１３】
前記遮風壁はエアカーテンであることを特徴とする請求項１０又は１１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１４】
前記遮風壁は多孔質板で形成された遮風箱であると共に、前記遮風箱から微弱なエアが吹き出されることを特徴とする請求項１０又は１１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１５】
前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする請求項１０〜１４の少なくとも１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１６】
前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする請求項１５のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１７】
前記遮風壁の配置位置を調整する位置調整手段を備えていることを特徴とする請求項１０〜１６のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１８】
前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出する検出手段を設け、前記位置調整手段は検出結果に基づいて、前記遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする請求項１７のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１９】
前記洗浄液噴出ノズルと前記気体噴出ノズルとを一組とした洗浄ユニットを多段に設けると共に、各洗浄ユニットには、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニットに送るための湿潤手段を設けたことを特徴とする請求項１０〜１８のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２０】
前記湿潤手段は、前記噴出ノズルからの噴出流の流速及び／又は風量を制御する手段であることを特徴とする請求項１９のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２１】
前記湿潤手段は、前記気体噴出ノズルから噴出される気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる手段であることを特徴とする請求項１９又は２０のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２２】
前記湿潤手段は、前記気体噴出ノズルの近傍に設けられ、前記被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を噴出させる手段であることを特徴とする請求項１９〜２１のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２３】
前記搬送される被洗浄物の洗浄対象面である前記表面は、上面と下面のうちの下面であることを特徴とする請求項１０〜２２のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１】
搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付け工程と、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する洗浄液除去工程と、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄方法において、
前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項２】
前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする請求項１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項３】
前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする請求項２のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項４】
前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出し、該検出結果に基づいて、前記誘因エアを遮風する遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする請求項１〜３の何れか１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項５】
前記洗浄液吹き付け工程と前記洗浄液除去工程とを一組とした洗浄工程を多段で行うと共に、各洗浄工程では、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄工程に送るための湿潤処理を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項６】
前記湿潤処理は、前記噴出流の流速及び／又は風量を制御する処理であることを特徴とする請求項５のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項７】
前記湿潤処理は、前記噴出流を形成する気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる処理であることを特徴とする請求項５のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項８】
前記湿潤処理は、前記被洗浄物の表面から洗浄液を除去する噴出流の他に、前記被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を別途噴出させる処理であることを特徴とする請求項５のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項９】
前記搬送される被洗浄物の洗浄対象面である前記表面は、上面と下面のうちの下面であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄方法。
【請求項１０】
搬送されるウエブ状の被洗浄物の表面に洗浄液を吹き付ける洗浄液吹き付けノズルと、前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きの噴出流が少なくとも形成されるように気体を噴出して前記被洗浄物の表面に残存する液膜を除去する気体噴出ノズルと、を有するウエブ状被洗浄物の洗浄装置において、
前記洗浄液吹き付けノズルと前記気体噴出ノズルとの間に、前記被洗浄物の搬送方向に直交する向きを有して遮風壁を設けたことを特徴とするウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１１】
前記遮風壁により、前記気体の噴出によって誘因される誘因エアのうち、前記洗浄液の吹き付け位置側から前記気体の噴出位置側に誘因される誘因エアを遮風することを特徴とする請求項１０のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１２】
前記遮風壁は板状の遮風板であることを特徴とする請求項１０又は１１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１３】
前記遮風壁はエアカーテンであることを特徴とする請求項１０又は１１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１４】
前記遮風壁は多孔質板で形成された遮風箱であると共に、前記遮風箱から微弱なエアが吹き出されることを特徴とする請求項１０又は１１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１５】
前記被洗浄物の表面には、前記被洗浄物に対して化学反応を行う薬剤が塗布されており、該薬剤の化学反応を停止するために前記洗浄液で洗浄することを特徴とする請求項１０〜１４の少なくとも１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１６】
前記被洗浄物はポリマーフイルムであると共に、前記薬剤は前記ポリマーフイルムをアルカリ鹸化処理するアルカリ液であることを特徴とする請求項１５のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１７】
前記遮風壁の配置位置を調整する位置調整手段を備えていることを特徴とする請求項１０〜１６のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１８】
前記被洗浄物の搬送方向に対向する向きに形成される噴出流の外縁部を検出する検出手段を設け、前記位置調整手段は検出結果に基づいて、前記遮風壁の先端を前記外縁部に位置させることを特徴とする請求項１７のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項１９】
前記洗浄液噴出ノズルと前記気体噴出ノズルとを一組とした洗浄ユニットを多段に設けると共に、各洗浄ユニットには、前記被洗浄物の表面が均一な湿潤状態を維持した状態で次段の洗浄ユニットに送るための湿潤手段を設けたことを特徴とする請求項１０〜１８のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２０】
前記湿潤手段は、前記噴出ノズルからの噴出流の流速及び／又は風量を制御する手段であることを特徴とする請求項１９のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２１】
前記湿潤手段は、前記気体噴出ノズルから噴出される気体中に、前記洗浄液の蒸気を含有させる手段であることを特徴とする請求項１９又は２０のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２２】
前記湿潤手段は、前記気体噴出ノズルの近傍に設けられ、前記被洗浄物の表面を加湿する加湿用気体を噴出させる手段であることを特徴とする請求項１９〜２１のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【請求項２３】
前記搬送される被洗浄物の洗浄対象面である前記表面は、上面と下面のうちの下面であることを特徴とする請求項１０〜２２のいずれか１のウエブ状被洗浄物の洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２００８−２５３８６２（Ｐ２００８−２５３８６２Ａ）
【公開日】平成２０年１０月２３日（２００８．１０．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−９５５５３（Ｐ２００７−９５５５３）
【出願日】平成１９年３月３０日（２００７．３．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【出願人】（５０７１０４７１７）富士フイルムオプトマテリアルズ株式会社 (2)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１０月２３日（２００８．１０．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年３月３０日（２００７．３．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【出願人】（５０７１０４７１７）富士フイルムオプトマテリアルズ株式会社 (2)
【Ｆターム（参考）】
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