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Fターム[3B201CD33]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 漏曳防止 (439) | 蓋、扉、仕切 (194)

Fターム[3B201CD33]に分類される特許

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【課題】基板の表面からリンス液を良好に除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハWの表面に純水が供給され、ウエハWの表面に対するリンス処理(ウエハWの表面を純水で洗い流す処理)が行われた後、純水よりも表面張力の低いIPA液がウエハWの表面に供給される。また、IPA液の供給と並行して、ウエハWの表面と反対側の裏面に温水が供給される。 (もっと読む)


【課題】ワーク浸漬時のワークおよびワーク処理槽の環境を一定にし、ムラ無く適切に表面処理を行うことができる浸漬処理装置のワーク浸漬装置および浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークWに表面処理を行うワーク処理槽5の処理溶液に、ワークWを浸漬するための浸漬処理装置1の浸漬移動機構17であって、ワークWを吊り下げる吊下げ機構51と、吊下げ機構51を昇降自在に支持すると共に、吊下げ機構51を介してワークWをワーク処理槽5に浸漬する昇降機構52と、を備え、吊下げ機構51を支持する昇降機構52の出力端であるリードねじ79が、吊下げ機構51およびこれに吊り下げられたワークWの重心位置に配設されている。 (もっと読む)


【課題】炭化水素系溶剤及びフッ素系溶剤を所望する洗浄力に保つとともに、該各溶剤を被洗浄物の洗浄処理に繰り返し使用することができる2液式洗浄装置の提供を目的とする。
【解決手段】浸漬槽3に貯液された炭化水素系溶剤Bを冷却して、炭化水素系溶剤Bに含まれるフッ素系溶剤Cを比重差により上下分離するとともに、その比重分離されたフッ素系溶剤Cを該フッ素系溶剤Cに含まれる炭化水素系溶剤Bから蒸発気化される温度に加熱して分離する。フッ素系溶剤Cが分離された炭化水素系溶剤Bは浸漬槽3へ返還する。炭化水素系溶剤Bが分離されたフッ素系溶剤Cの蒸気Caは凝縮液化して水分離槽9に滴下し、水分離槽9に貯液されたフッ素系溶剤Cは蒸気発生槽5へ返還する。 (もっと読む)


【課題】鋼板を洗浄する鋼板洗浄装置において、鋼板の表裏面に付着した汚れ(異物)を洗浄水の噴射圧力により効果的に取り除くことができ、且つ、清潔な周辺環境の確保及びコスト低減を実現することのできる鋼板洗浄装置を提供する。
【解決手段】鋼板1の表裏面に付着している異物を洗い落とす鋼板洗浄装置100において、前記鋼板1をほぼ水平として一方向に搬送する搬送手段2と、前記搬送手段2により搬送される鋼板1の表裏面に対し所定の高温度・高圧力の洗浄水Lを洗浄ノズル7、8から噴射する洗浄手段3と、前記洗浄手段3により洗浄された鋼板1を乾燥する乾燥手段4とを備え、前記洗浄ノズル7、8の噴射口は、前記鋼板1の表裏面に対し鋼板搬送方向の上流側に向けられている。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の回路基板と半導体素子との隙間の洗浄効果を高める。
【解決手段】回路基板2の表面にソルダーレジスト22を形成し、ソルダーレジスト22に第1の開口を形成して電極21を露出させ、半導体素子3の表面にポリイミド32を形成し、ポリイミド32に第2の開口を形成して電極31を露出させ、電極31に半田バンプ34を形成し、電極21および半田バンプ34の少なくとも一方にフラックスを塗布し、ソルダーレジスト22とポリイミド32とを対向させ電極21に半田バンプ34を接合し、回路基板2と半導体素子3との隙間に洗浄液を供給して隙間に存在するフラックスを洗浄する。フラックスを洗浄する工程前に、ソルダーレジスト22およびポリイミド32の少なくとも一方に凹部を形成する。 (もっと読む)


【課題】基板の主面に対向部材を極めて微小な間隔を隔てて対向配置させて基板に処理を施すことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】遮断板4の対向面には、中央部吐出口12と多数個の周縁部吐出口19とが形成されている。遮断板保持体17は、ボールブッシュ機構23を介してアーム10に取り付けられている。そのため、遮断板保持体17および遮断板4は、アーム10に対して上下方向に変位可能に保持される。周縁部吐出口19からの不活性ガスの吐出によって、遮断板4に、鉛直上向きの離反方向力が作用し、遮断板4はアーム10に対して鉛直上向きに相対変位する。遮断板4は、この離反方向力と遮断板4等に働く重力とが釣り合う位置に保持される。 (もっと読む)


【課題】連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄でき、且つ洗浄液の漏洩を充分に防止できるインライン洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数個の洗浄槽10,20,30の各々において、連続的に搬入されてくる被洗浄物Aの挿入、減圧下での洗浄、蒸気洗浄、真空乾燥及び取出の各工程が重複することなく順次進行するように、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御する制御部55が設けられており、且つ洗浄槽10,20,30の各々に洗浄液を給液する給液タンク70と、減圧手段によって吸引された洗浄槽10,20,30の各槽内の洗浄液蒸気を含有するガスが導入され、凝縮器で凝縮された洗浄液を給液タンク70に回収する蒸留器80とを具備する。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽に形成される開口部を塞ぐのに適した蓋部材を備える洗浄装置を提供すること。
【解決手段】洗浄装置は、被洗浄物を出し入れするための開口部が形成される洗浄槽3と、洗浄槽3に洗浄液を供給するための配管部材22a1、22a2、22b1、22b2と、開口部を塞ぐ蓋部材40とを備え、開口部には、配管部材22a1、22a2、22b1、22b2の一部が配置されている。蓋部材40は、一端が開口するとともにY方向に向かって配管部材22a1、22a2、22b1、22b2が通過可能な第1スリット41aが形成される第1蓋部材41と、一端が開口するとともにX方向に向かって配管部材22が通過可能な第2スリット42aが形成される第2蓋部材42とを備えている。 (もっと読む)


【課題】水を含む高沸点、高蒸発潜熱の洗浄剤においても、再付着がなく、洗浄後の乾燥効率が高く、洗浄、乾燥時間を短縮でき、複雑な形状の被洗浄物でも乾燥シミを作ることなく乾燥させることができるベーパー洗浄を可能にする。
【解決手段】被洗浄物をベーパー洗浄するためのベーパー洗浄槽6と、ベーパー洗浄槽6内における下方部分に蓄えた洗浄剤16と、ベーパー洗浄槽6に連通した乾燥槽5と、ベーパー洗浄槽6と乾燥槽5間を遮断又は開放可能とした遮断蓋13と、被洗浄物を載置可能であるとともにベーパー洗浄槽6と乾燥槽5間を移動可能なキャリアと、を具備した装置本体2と、装置本体2に連結された、装置本体2の内部を加減圧する圧力調整手段3と、被洗浄物に付着した洗浄剤等を排液するための排液弁17と、洗浄剤16を加熱するための加熱システム19と、を具備した。 (もっと読む)


【課題】量産部品例えば自動車用ピストン等の自動洗浄乾燥装置に関し、特に洗浄後の乾燥に圧縮空気を用い、乾燥を極短時間で可能とする自動洗浄乾燥装置を提供する。
【解決手段】脱脂洗浄槽11、水洗浄槽12、純水洗浄槽13、乾燥槽14を直列に配置し、各処理槽に同時に部品10を搬入搬出する5組のチャック1を横行ビーム2に設け、横行ビームを昇降ビーム3で上下動させる事により、槽間に処理ピストンを順次次工程に運搬供給する事を特徴とする自動洗浄乾燥装置。 (もっと読む)


【解決手段】 洗浄システム1は、クランクケース2を支持したパレット3を洗浄位置Bまで搬送する搬送手段6と、クランクケース2を洗浄する洗浄手段7とを備えている。
パレット3には固定通路12を設けてあり、その一端にフレキシブルチューブ13の一端13Aが接続されている。フレキシブルチューブ13の他端13Bは、クランクケース2の油穴4の開口に接続されている。上記パレット3が搬送手段6により洗浄位置Bの液槽22内に浸漬されると、固定通路12と吐出通路24とが重合して相互に連通する。その後、ポンプ23から吐出される洗浄液が吐出通路24、固定通路12およびフレキシブルチューブ13を介してクランクケース2の油穴4に直接給送される。
【効果】 クランクケース2の油穴4を効率的かつ確実に洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】複数の被洗浄物を連続的により少ない液量でより確実に洗浄でき、かつ軽量化及び小型化可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】外周壁と底部を備え前記外周壁と前記底部とで形成された空間に液体を貯留する洗浄槽と、付勢されて振動し前記洗浄槽を振動させる振動子と、前記空間に設けられ回転軸を中心として所定方向に回転する搬送部とを備え、前記空間に供給された被洗浄物の少なくとも一部の部位を前記液体に浸漬させ、前記被洗浄物を前記搬送部により前記底部上で前記所定方向に回転移動させると共に前記振動子により前記洗浄槽を振動させて前記液体により前記被洗浄物を洗浄し、前記洗浄した被洗浄物を前記洗浄槽の外部に排出するように構成した。 (もっと読む)


【課題】隣接する処理室への処理液(ミスト)の侵入をより確実に防止する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Sに薬液処理を施すウエット処理部2と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Sに施す前処理部1とを有する。各処理部1,2のチャンバ10,20は開口部11aを介して連通しており、この開口部11aは、前処理部1側に設けられるシャッタ装置14と、ウエット処理部2側に設けられるシャッタ本体25とにより開閉可能に設けられている。また、前処理部1のチャンバ10内には、開口部11aの開放中、ウエット処理部2側に向かって開口部11aにエアを吐出するエアノズル19a,19bが配備されている。 (もっと読む)


【課題】 ガラス基板エッチング方法及びその装置を開示する。
【解決手段】 ガラス基板エッチング方法が開示される。まず、エッチング領域と洗浄領域を含むベースに収容されたエッチング液にガラス基板を沈積して、前記ガラス基板をエッチングする。前記ガラス基板を前記ベースの洗浄領域へ移送し、前記エッチング領域と前記洗浄領域を分離する。前記洗浄領域のエッチング液を排出する。前記ガラス基板に洗浄液を加える。従って、ガラス基板エッチング工程の効率を改善し、ガラス基板の品質低下を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】複数種類の液体を用いる基板処理方法において、液体を用いた処理の後に基板上に残留している当該液体を、次に使用される液体によって迅速かつより確実に置換することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理方法は、処理液によって基板Wを処理する工程と、基板上に置換液を供給し、基板上に残留する処理液を置換液で置換する工程と、を備える。置換する工程に用いられる置換液は、処理液の表面張力よりも小さい表面張力を有し、かつ、処理液の密度と同一の密度を有する。 (もっと読む)


【課題】スプレーした処理液が外部へ漏れ出したり、次槽へ持ち出されたり、前槽から持ち込まれたりすることなく、液切り及び処理液の回収を効率良くできる装置を提供する。
【解決手段】基板搬送機構(451,452,453)により処理槽(41a)内に搬送された被処理基板(K)に処理液(W)をスプレーすることで被処理基板(K)の表面に所定の処理を行うスプレー処理装置であって、処理槽(41a)内を主処理室(R3)と下流液止め室(R2)とに区分けすると共に被処理基板(K)の表面との間に下流微少間隙(D2)を形成するように立設した下流邪魔板(462)と、主処理室(R3)に配設され被処理基板(K)の表面に向けて処理液をスプレーする主スプレー機構(473)と、下流液止め室(R2)に配設され下流微少間隙(D2)の斜め上方から下流微少間隙(D2)に向けて処理液をスプレーする下流スプレー機構(472)とを備える。 (もっと読む)


【課題】処理チャンバ内を洗浄するための洗浄液による基板汚染を防止することができる基板処理装置および処理チャンバ内洗浄方法を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ2内においては、閉状態におけるシャッタ18上部の側方(水平でかつ側壁1に沿う方向)の一方側(図で示す右側)には、洗浄液を吐出するための第1洗浄液吐出ノズル32と、洗浄液を吐出するための第2洗浄液吐出ノズル33と、N2ガスを吐出するためのN2ガス吐出ノズル34とが設けられている。シャッタ18の上部に付着したSPMが、洗浄液によって洗い流される。また、洗浄に用いられた洗浄液がN2ガスによって除去される。 (もっと読む)


【課題】排気を分散させることによって乾燥不良を防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空ポンプによって排気機構75を介してチャンバ内の気体を排出するが、排気機構75はチャンバ内の気体を複数箇所から排気するので、チャンバ内において排気が偏りにくい。したがって、溶剤ノズルによってチャンバ内に形成された溶剤蒸気雰囲気が偏ることを防止でき、処理液から露出された基板Wに付着している液滴が偏って引かれることを防止できる。その結果、基板の乾燥不良を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】洗浄後にワークの表面に微小粒子等が付着することを抑制できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ワークWを洗浄する洗浄装置1であって、ワークWを洗浄する洗浄液Fが充填される洗浄槽2と、ワークWを支持して洗浄槽2内の洗浄液Fの内部と外部とに移動させるワーク支持部4と、ワーク支持部4の周囲を遮蔽し、外部の雰囲気から隔絶する遮蔽部6とを備え、遮蔽部6は流入口6Bと排気口とを有し、遮蔽部6の内部に、流入口6Bから洗浄槽2の上方を通過して排気口に向かう空気の流れが形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 洗浄液を使って機械部品のグリース、オイル、汚れ、および他の異物を洗い落とすために使用する水系および溶剤系可動部品洗浄装置、より具体的には、洗浄液槽の交換および保守のために、筐体内へのアクセスが容易となるよう、中空筐体に枢着された可動シンクおよび可動ふたを備える部品洗浄装置を提供する。
【解決手段】 部品洗浄装置100は、パネル5,6,7をシェル形に構成して成るサポートフレームを、洗浄液槽50の周囲に備え、サポートフレームにはシンク2が枢着されている。シンク2と回動ふた1との間には、蒸気の放出を抑制する接合部分が備えられる。シンク2の下にポンプが枢着され、洗浄液槽50の交換作業中、ポンプを引っ込められるよう構成されている。洗浄作業中の照明のために、ふた1の下側の作業区域62付近には一体型ライト22が配置され、最適な防火対策のために、熱可溶性の可溶性リンクを装備するラッチ機構が備えられる。 (もっと読む)


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