【課題】最外周誘導壁によって容器の開口部を開閉することにより、占有面積の小型化、及び処理の短時間化を実現する。
【解決手段】回転式処理装置１に、容器１Ａ、回転保持機構７、処理液吐出アーム３０、誘導壁１６，１７、及びエアシリンダ２２，２３を設けた。回転保持機構７は、容器１Ａの開口部３７から搬入された被処理基板３を水平に保持して回転させる。誘導壁１６，１７は、回転保持機構７の外周側に同心状に配置され、処理液吐出アーム３０から吐出された処理液の廃液を分別して排液する。エアシリンダ２２，２３は、誘導壁１６，１７のそれぞれを上端部が回転保持機構に保持された被処理基板３よりも上方に位置する回収位置と下方に位置する退避位置との間で昇降させる。誘導壁１６，１７のうち最外周誘導壁１７は、回収位置で開口部３７を閉鎖し、退避位置で開口部３７を開放する。 （もっと読む）

【課題】洗浄水中に微細気泡が長時間浮遊することによって微細気泡洗浄と超音波洗浄の切り替え時間が長くなることを防止する。
【解決手段】洗浄水として洗浄槽気泡の合一を抑制する添加剤を加えた液を使用し、洗浄槽に微細気泡を噴射する微細気泡発生装置と、洗浄水に超音波を照射する超音波振動子とを備えた洗浄装置において、洗浄槽に洗浄水中の微細気泡を除去する機構を設けた。 （もっと読む）

【課題】 例えば、ＰＰＳ樹脂素材のような超音波洗浄ではバリ取りに時間がかかる場合に、時間が経過してもバリ取り効率が低下せず、生産ラインのタクトタイムに合わせて効率的にバリ取りが行なえるようにする。
【解決手段】 洗浄槽３内の洗浄液Ｅ中に被洗浄物物を浸漬し、洗浄液Ｅを脱気回路１０により循環させながら脱気しつつ超音波洗浄・バリ取りを行うような操作において、洗浄槽３内の洗浄液Ｅに大気中の気体が入るのを抑制するため、洗浄液Ｅの液面に樹脂シート等の液面シャッター部材１３を被せて超音波洗浄・バリ取りを行う。また液面シャッター部材１３を洗浄槽３上部の二段開閉蓋１１に取付け、二段開閉蓋１１の開閉操作に連動して液面シャッター部材１３が液面に被せられたり、液面から退避できたりするようにする。 （もっと読む）

【課題】 清掃する床面又は壁面に散布した洗剤が清掃範囲外に流出することを防止できる床面又は壁面の清掃方法を提供すること。
【解決手段】 床面又は壁面の清掃方法は、床面又は壁面の清掃範囲外に洗剤が流出することを防止する防護フェンスを設置する第一工程と、清掃する床面又は壁面に洗剤を散布する第二工程と、洗剤を払拭し床面又は壁面の汚れを除去する第三工程と、床面又は壁面の清掃範囲内に残留する洗剤を中和するための中和剤を散布する第四工程と、防護フェンスを撤収する第五工程と、床面又は壁面を水ですすぎ洗う第六工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】酸素濃度を低減した処理液で基板を処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗを保持するスピンチャック３と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに対向する基板対向面３４を有し、基板対向面３４の周囲からスピンチャック３に向かって突出した周壁部３２が形成された遮断板６と、スピンチャック３に保持された基板Ｗに処理液を供給する第１上側処理液供給管３５とを備えている。第１上側処理液供給管３５には、第２上側処理液供給管３８を介して第１配管内調合ユニット５１から薬液が供給される。この薬液は、薬液原液と、不活性ガス溶存水生成ユニット５０によって純水中の酸素が脱気され、当該純水中に不活性ガスが添加されて生成された不活性ガス溶存水とが第１混合部５９内で混合されることにより調合されたものである。 （もっと読む）

【課題】略漏斗状の石英部材の内側を一層確実に洗浄することができる石英部材の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】本発明の石英部材の洗浄方法は、第１開口部Ｓ１１及びその反対側に位置し且つ第１開口部Ｓ１１に連通する第２開口部Ｓ２１を有し、第２開口部Ｓ２１側に管状部Ｓ２を備えると共に第１開口部Ｓ１１側に第１開口部Ｓ１１の開口面積が第２開口部Ｓ２１の開口面積よりも大きくなるように膨らんだ膨出部Ｓ１を備える中空の石英部材Ｓを洗浄する洗浄方法であって、第１開口部Ｓ１１を下に向けた状態の石英部材Ｓに対して、第２開口部Ｓ２１を塞いだ状態で、石英部材Ｓの内側に第２開口部Ｓ２１を介して洗浄用液Ｒ３を噴射して、管状部Ｓ２の内側を洗浄する管状部内側洗浄工程を備える。 （もっと読む）

【課題】この発明は、洗浄処理に使用される洗浄液の損失が少なくて済み、消費量及びコストの低減を図ることができる被処理物洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理物洗浄装置１により被処理物Ａを浸漬洗浄処理する際に、第１処理槽１Ｂ内に放出されたフッ素系溶剤Ｃの蒸気Ｃａを、第２処理槽２Ｂより下方に配置された冷却ジャケット３の冷却作用によって沸点より低い温度に冷却する。被処理物Ａを、第１処理槽１Ｂ内の第２処理槽２Ｂに貯留されたフッ素系溶剤Ｃに浸漬して浸漬洗浄処理する。浸漬洗浄処理から蒸気洗浄処理へ移行する際に、被処理物Ａを第２処理槽２Ｂに収容したまま位置を変更せずに、第２処理槽２Ｂに貯留されたフッ素系溶剤Ｃを蒸気Ｃａに入れ替えて蒸気洗浄処理する。蒸気洗浄処理から浸漬洗浄処理へ戻る際に、第２処理槽２Ｂに放出された蒸気Ｃａをフッ素系溶剤Ｃに入れ替えて浸漬洗浄処理する。 （もっと読む）

【課題】 この発明はカップ体内に設けられた仕切体を上昇させた状態及び下降させた状態のいずれであってもカップ体内を確実に排気できる処理装置を提供することにある。
【解決手段】 カップ体２内に設けられた回転テーブル３と、カップ体内の雰囲気を排出する第１の排気ブロア２１と、回転テーブルの外周とカップ体の内周との間に周方向全長にわたって設けられる固定仕切体１１及び上下駆動手段１３によって上下方向に駆動される可動仕切体１２を有し、上昇方向に駆動されたときに基板から飛散する処理液を内周面に衝突させる仕切体と、仕切体の内周面に衝突してカップ体の内底部に落下した処理液を回収する気液分離器２２と、仕切体の周壁に設けられ仕切体を上昇させて処理液を回収するときに第１の排気ブロアによる排気経路が仕切体によって遮断されるのを阻止する気体を通過して液体の通過を阻止する材料によって形成された通気性部材１２ａを具備する。 （もっと読む）

【課題】処理室内を自動洗浄することによって、洗浄の手間を省き、かつ処理室内の状態を一定に保つことができる恒温槽を得る。
【解決手段】試料が収納される処理室１８が設けられている。シャワー２０は、処理室１８の内壁に洗浄液を噴射して洗浄する。排水口２２は、洗浄に用いられた洗浄液を排出する。水質センサ２４は、排水口２２から排出される洗浄液の水質を測定する。制御部３６は、水質センサ２４の測定結果を入力し、シャワー２０を制御する。制御部３６は、シャワー２０に洗浄を開始させ、洗浄開始から所定時間が経過し、かつ洗浄液の水質が所定の値に達すると、シャワー２０を停止させる。 （もっと読む）

【課題】帯状鋼板等の帯状体の表面に存在する異物を洗浄する際に、洗浄不良や下流側への洗浄液の持ち込み、あるいはこれら両者に起因した押し込み疵の発生や溶接不良を、低コストで確実に事実上解消する。
【解決手段】異物が存在する帯状鋼板２２の表面に向けて、その幅方向を含むとともにその表面に直交する面内でこの表面に対して斜めに洗浄液２３を噴射することにより、帯状鋼板２２の表面に対して斜めに噴射された洗浄液２３が、表面に衝突して表面から離れる方向に反射した後に帯状鋼板２２から離れたまま帯状鋼板２２の幅方向の端部よりも外側へ飛散する際に、異物を飛散する洗浄液２２に随伴させることによって、異物を、帯状鋼板２２の幅方向の端部よりも外側へ飛散させて、帯状鋼板２２から異物を除去する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのコンタクトチップ２０と、該少なくとも１つのコンタクトチップ２０を囲むノズル２６とを備えているトーチヘッド１２を自動的に補修する方法及び装置１０に関するものである。第１の補修装置３２では、少なくとも１つのコンタクトチップ２０とノズル２６とが組み付けられている状態で、トーチヘッド１２が非接触で清掃される。少なくとも１つのコンタクトチップ２０及びノズル２６の表面の少なくとも一部に対して、トーチヘッド処理剤４２を塗布するために、第２の補修装置３４が用いられる。トーチヘッド１２が、第１の補修装置３２又は第２の補修装置３４に対応する補修位置に移動させられた後に、それぞれ第１の補修装置３２又は第２の補修装置３４の操作が、コントロールユニット５０により開始させられる。トーチヘッド処理剤は、約５ないし約５０重量パーセントの窒化ホウ素を含んでいる。
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【課題】トッププレートで基板の上方を覆う基板処理装置において、基板処理装置の小型化や処理能力の向上を図るとともに、基板を良好に処理できるようにすること。
【解決手段】本発明では、基板処理装置において、基板の下方に回動自在に配置され、前記基板を保持するターンテーブルと、前記ターンテーブルを回転させる回転駆動機構と、前記基板の上方に回動自在に配置され、前記基板の上方を覆うトッププレートと、前記ターンテーブルと前記トッププレートとの間に形成された処理流体流路に処理流体を供給する処理流体供給手段と、前記処理流体流路を挟んで前記ターンテーブル及び前記トッププレートそれぞれに非接触状態で引き合うように設けた磁石とを設けることにした。 （もっと読む）

【課題】収容部材内の薬液ミストを含む雰囲気が処理室内に拡散することを防止できる、基板処理装置を提供すること。
【解決手段】処理チャンバ２内において、ウエハＷを保持するウエハ回転機構３は、カップ８内に収容された状態で設けられている。カップ８の上端部には、カーテン形成ノズル３０が設けられている。また、処理チャンバ２内には、ウエハＷの表面にＳＰＭを供給するための移動ノズル１４が設けられている。少なくともウエハＷの表面へのＳＰＭの供給中は、カップ８の上方に水カーテンＷＣが形成され、水カーテンＷＣによって、カップ８の内側の空間を含む水カーテンＷＣの内側の空間と水カーテンＷＣの外側の空間とが遮断される。 （もっと読む）

【課題】基板にリンス液を供給する工程の終了後に、基板に薬液ミストが付着することを防止できる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板に対するレジスト剥離処理においては、処理室内において、基板にＳＰＭが供給される。このとき、基板でのＳＰＭの跳ね返りやＳＰＭ中の水分の蒸発などによるＳＰＭのミストが生じ、ＳＰＭのミストが処理室内の空間に浮遊して拡散する。基板へのＳＰＭの供給の終了後、基板にＳＰＭを洗い流すための純水が供給される。この純水の供給と並行して、処理室内の空間に微細な水滴が噴射される。これにより、処理室内の空間に拡散したＳＰＭのミストに微細な水滴がかかり、ＳＰＭのミストが微細な水滴に吸収され、ＳＰＭのミストが処理室内の雰囲気中から排除される。 （もっと読む）

【課題】 グリース、オイル、および汚れを機械部品から除去するために使用される多目的洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本部品洗浄装置１は、部品に噴霧する第１の清浄チャンバ１０２と、部品を浸漬および攪拌する第２の清浄チャンバ１０１とにより画成された自動清浄部２を有し、更に自動清浄部２に移動可能に接続された手動清浄部の３つの清浄部を含む。全ての清浄部は、単一のポンプからの清浄液と、洗浄工程からの相当量の清浄液および破砕物を回収および貯蔵するリザーバ部と、ディスプレイから操作される単一の制御装置システムと、清浄液を加熱する熱エネルギー源とを使用する。 （もっと読む）

【課題】ミストの漏洩防止および排気が十分になされ、加工装置が備える他の機器や部品へのミストによる悪影響を防止する。
【解決手段】ケーシング２０内の洗浄室２１に設けたスピンナテーブル３０にウェーハ（ワーク）Ｗを保持し、ケーシング２０上方の開口をフラップ２５で閉じ、洗浄室２１内を密閉した状態で、スピンナテーブル３０を回転させ、洗浄水供給ノズル５０から、回転するウェーハＷの上面に洗浄水を供給して洗浄するスピンナ洗浄装置１において、洗浄室２１内の、スピンナテーブル３０の保持面３０Ａよりも上方に配したエアブロワ７０から下向き、かつスピンナテーブル３０の回転方向に沿った方向に空気を噴出させて、発生するミストを下方におさえ込み、ケーシング２０の下部に接続した排気管６０からミストを外部に排出する。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置において、リンス後の光学素子の水分を除去する際に、ＩＰＡや代替フロンなどを用いることなく、効率的に水分を除去することができるようにする。
【解決手段】被洗浄体であるレンズ２を洗浄治具１に保持して洗浄液５によって洗浄し、水を含むリンス液７でリンスするする洗浄リンス部１００Ａと、洗浄リンス部１００Ａでレンズ２に付着した水分を除去する水分除去部１００Ｂとを有する洗浄装置１００であって、水分除去部１００Ｂは、レンズ２を保持した洗浄治具１を収容して、洗浄治具１を回転させる回転枠１１と、回転枠１１に固定して設けられ、洗浄治具１を、洗浄治具１に保持されたレンズ２の厚さ方向が回転枠１１の回転円の径方向に略直交する方向に向くように保持する洗浄治具保持部１１ｅと、洗浄治具保持部１１ｅに向けて回転円の径方向にガスＧを噴射するガス噴射機構１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】パターンが微細化しても、パターンは破壊されずに異物を十分に除去することのできるフォトマスクの物理洗浄の方法を提供する。
【解決手段】１）密閉可能な洗浄チャンバー１０内の上部に空間Ｋを残して充填された薬液又は純水６０中にフォトマスク５０が浸漬された状態で洗浄チャンバーを密閉し、２）前記空間にＮ₂ ガスを供給して洗浄チャンバー内を高圧にした後に、３）該洗浄チャンバー内の高圧の薬液又は純水を、瞬時に洗浄チャンバーから排出し、高圧から常圧への瞬時の圧力差によってフォトマスクの異物を離脱させ除去する。 （もっと読む）

【課題】洗浄装置の密閉性を確保しながら、多数の被洗浄物を連続的処理を可能にする。
【解決手段】液体洗浄ゾーンＺ３と、蒸気洗浄ゾーンＺ２と、乾燥ゾーンＺ１とを密閉容器１内に設けた密閉洗浄装置であって、密閉容器１内の天井部に設けられ、被洗浄物を収容したバスケット１２を搬入搬出させるための搬入口１６、搬出口１７とそれぞれ開閉する蓋１８，１８と、液体洗浄槽３の洗浄液中、蒸気洗浄ゾーンＺ２中、搬入口１６下及び搬出口１７下の乾燥ゾーン中に設けられ、それぞれバスケット１２を載置させる複数のバスケット受台１５と、搬入口１６を通じて搬入口１６下のバスケット受台１５にバスケット１２を受け渡す搬入装置と、密閉容器１内に移動自在に設けられ、各バスケット受台１５との間でバスケット１２を移載する移載装置２１と、搬出口１７を通じて搬出口１７下のバスケット受台１５からバスケット１２を取り上げて搬出する搬出装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】気体の吹き付けより液切りを行う一方で、当該気体の吹き付けに伴い搬入口側に運ばれる処理液等が当該搬入口から外部に漏れるのを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口２ａから処理室１に搬入される基板Ｓに対して剥離液を供給した後、基板Ｓを搬出口３ａから搬出するように構成される。搬出口３ａの近傍には、基板Ｓに対して基板搬送方向における下流側から上流側に向かってエアを吐出することにより剥離液を除去する第１エアナイフ１３，１３が配置され、搬入口２ａの近傍には、基板搬送方向における上流側から下流側に向かってエアを吐出する第２エアナイフ１４，１４が設けられる。コントローラ３０は、第１エアナイフ１３，１３によるエアの吐出動作中に第２エアナイフ１４，１４からエアが吐出されるようにエアの吐出動作を制御する。 （もっと読む）