【課題】処理液の上部に保護液層を形成することにより、処理液の損耗を防止することができるとともに、処理液及び基板の汚染を防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】噴出管７から処理液を処理槽１に供給させつつ回収槽１７から処理液を排出させるとともに、保護液供給部１９から純水を供給させつつ処理液排出孔１５及び回収槽１７から純水を排出させて、処理液の上面に純水による保護液層ＰＬを形成させる。保護液層ＰＬにより処理液の上面が塞がれた状態となるので、リフタ３３による基板Ｗの搬入出の際にオートカバー２７を開けても、処理液の蒸発が抑制できる。したがって、処理液の損耗を防止できるとともに、オートカバー２７への付着を防止でき処理液及び基板Ｗの汚染を防止できる。 （もっと読む）

【課題】液表面に浮遊する軽いゴミやパーティクルを無くし、洗浄槽内で溶剤洗浄した後のワークを引き上げた際にゴミ等の再付着を防ぐことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽１２は、貯留している洗浄剤４６の液体でワーク４４を洗浄する液体洗浄エリア１６と、液体洗浄エリア１６内の洗浄剤４６の余剰液が流入するオーバーフロー槽３８（液流出エリア）と、洗浄槽１２内のいずれかの面から排出した後に液体洗浄エリア１６に導入する第１循環経路７１とを少なくとも備え、液体洗浄エリア１６に、第１循環経路７１を経由して液体洗浄エリア１６内に洗浄剤４６を流入させる流入部材７２と、流入部材７２から流入する洗浄剤４６の液流を液体洗浄エリア１６内の洗浄剤４６の液面７３と平行な液流７４になるように液面７３に導く液流ガイド８１とを有する液面流動手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＡなどの有機溶媒成分を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、有機溶媒成分の消費量を抑制しながら基板表面を良好に乾燥する。
【解決手段】リンス処理後に基板Ｗを回転させながら基板表面Ｗｆに付着しているリンス液（ＤＩＷ）の表層部を基板表面Ｗｆから振り切って除去する。続いて、基板表面ＷｆにＩＰＡとＤＩＷとが混合された混合液を供給する。基板表面Ｗｆ上のリンス液の大部分が除去されていることから、基板表面Ｗｆに微細パターンＦＰが形成されている場合であってもパターン間隙に付着する液体成分が混合液に置換される。しかも、基板表面Ｗｆに供給する混合液のＩＰＡ濃度は５０％以下とされている。したがって、ＩＰＡの消費量を抑制しながらパターン倒壊を有効に防止できる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成された液膜を短時間でしかも基板表面を汚染させることなく凍結させることができる基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法を提供する。
【解決手段】スピンチャック２に基板Ｗを略水平姿勢で保持した状態で基板表面ＷｆにＤＩＷを供給して基板表面Ｗｆに液膜を形成する。続いて、基板裏面Ｗｂに液体冷媒を供給しながら基板Ｗを回転させる。これにより、基板Ｗに接液する液体冷媒に作用する遠心力によって、基板Ｗの裏面全体に液体冷媒が均一に行き渡る。その結果、基板Ｗが裏面Ｗｂに接液する液体冷媒によって直接的に冷却され、液膜が比較的短時間で凍結する。また、基板表面Ｗｆに形成された液膜に液体冷媒が接触することがないため、基板表面Ｗｆを汚染させることなく液膜を凍結させることができる。 （もっと読む）

【課題】例え気孔径が小さく、高密度で体積の大きな多孔質体であっても、この内部まで効率よく洗浄できるようにする。
【解決手段】密閉空間内に多孔質体１１０を配し、多孔質体１１０の内部を通過する加圧した洗浄液１２４で該多孔質体１１０の内部を洗浄し、その後、前記／又は別の密閉空間内に多孔質体１１０を配し、多孔質体１１０の内部を通過する加圧した純水を多孔質体１１０の内部に供給する。 （もっと読む）

【課題】ミストに代えて、浮遊・拡散性に優れた微小サイズの洗剤泡を、洗浄対象部位を囲む閉空間に噴霧状態で供給することで、閉空間全体に洗剤成分を均等に行き渡らせて洗浄性能を向上させることができる洗剤泡による洗浄方法および装置を提供する。
【解決手段】気泡２ａの外表面が洗剤成分の薄膜２ｂで覆われて、浮遊・拡散性を有する微小サイズの洗剤泡２を、浴槽（洗浄対象部位）２０内の閉空間に噴霧状態で供給することで、微小サイズの洗剤泡２は、その優れた浮遊・拡散性によって浴槽２０内の全体に均等に行き渡るようになるから、浴槽２０内の全体に洗剤成分が均等に行き渡るので、洗浄性能が向上するようになる。 （もっと読む）

【課題】複数種類のパレットを、簡単な装置構成で、作業性よく効率的に脱水処理できる複数種類のパレットに対応可能な脱水装置及びこれを用いた洗浄設備を提供する。
【解決手段】荷物の運搬に使用した複数種類の使用済みのパレット１１の側方周囲を囲むカバー部材と、パレット１１を水平状態で搬送するパレット搬送手段１９と、このパレット１１を設定位置に停止するパレット停止手段２３と、停止させたパレット１１の搬送方向と直交する方向の位置調整を行うパレット位置調整手段２７と、パレット１１を載置する回転テーブル４６を備えこれを回転可能及び昇降可能に支持する昇降手段４７と、カバー部材の内側に設けられ、昇降手段４７によって上昇させたパレット１１をその形状に対応してその両側からガイドする逆階段状となった一対の嵌合部５９、６０、５９ａ、６０ａを備える固定部材６１と、このパレット１１を回転させる駆動手段６５とを有する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の使用量を少なくしながら、被洗浄物の微細な隙間から窪みまで綺麗に洗浄する。
【解決手段】洗浄方法は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭとし、このミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給して被洗浄物Ｈを洗浄する。
洗浄装置は、洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波霧化機１と、この超音波霧化機１で霧化されたミストＭを被洗浄物Ｈの表面に供給する供給部５とを備える。超音波霧化機１は、洗浄液Ｗを入れる超音波霧化室４と、この超音波霧化室４の洗浄液Ｗを超音波振動させてミストＭに霧化する超音波振動子２と、超音波振動子２に高周波電力を供給する超音波電源３とを備える。洗浄装置は、超音波霧化機１で霧化されたミストＭを供給部５から被洗浄物Ｈの表面に供給して、被洗浄物Ｈを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】攪拌羽根の下縁と処理容器の底部内面との間のクリアランス調整を容易にする。
【解決手段】攪拌羽根７の回転駆動軸７ｃの下方部分７ｃ１は減速機１０の中空状出力軸１０ａに挿入され、スライドスプライン部１１で連結されている。回転駆動軸７ｃは、スライドスプライン部１１により、中空状出力軸１０ａに対して鉛直方向に昇降移動（スライド移動）することができる。サーボモータ１２が作動すると、ボールねじ装置１３のネジ軸１３ｂが回転し、これにより、回転駆動軸７ｃがガイド１５及びスリーブ１６と共にガイドレール１４に沿って昇降移動する。回転駆動軸７ｃ（攪拌羽根７）の昇降位置は、サーボモータ１２の回転制御によって任意の位置に無段階で調整することができる。 （もっと読む）

【課題】ディスク状対象物の少なくとも下面の処理を行うための装置において、ディスク状対象物の汚染が回避できるような装置を提供する。
【解決手段】本発明の装置は、上面（２ｏ）を有しかつディスク状対象物（１）を位置決めするための少なくとも２つの部材（１９）が上面から垂直に突出している回転可能保持器（２）と、ディスク状対象物（１）の下面（１ｕ）に処理媒体を供給するために固定的に設けられかつ保持器（２）を貫通するように配置された少なくとも１つの配管（２４，２６）と、保持器（２）の下面（２ｕ）の少なくとも一部から離隔して固定配置され環状間隙（１６）を形成しているカバー（４）と、を備え、前記少なくとも１つの配管（２４，２６）は、隙間のない状態でカバー（４）を貫通していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ごみピットにごみを投入したごみ収集車のテールゲート内部を洗浄するために好適な洗浄装置及びこの洗浄装置を備えたごみ焼却施設を提供することである。
【解決手段】本発明による洗浄装置は、洗浄水を噴出するノズル（５１）と、前記ノズルがごみピット（２０）を臨むプラットホーム（１０）に設けられた車止め（１１）よりごみピット側に配置されるように前記ノズルを支持する支持体（５２）とを具備している。このようなノズルの配置は、ごみ収集車（９０）のテールゲート（９１）内部を洗浄するために好適である。本発明によれば、作業者は、足場の悪いごみ投入口（２０ａ）周辺でテールゲート（９１）の清掃作業をしないで済む。本発明による洗浄装置は、ごみ焼却施設又はごみ焼却施設以外のごみ処理施設に適用可能である。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく該基板表面に付着するパーティクルを効率良く除去する。
【解決手段】洗浄ユニット１にて、その表面に液膜が形成された基板は、基板搬送機構３により凍結ユニット２に搬送される。凍結ユニット２にて、液膜が凍結されることで液膜膜が体積膨張し、基板表面に付着するパーティクルと基板との間の付着力が弱まり、さらにはパーティクルが基板表面から脱離する。そして、凍結処理された基板は、基板搬送機構３により凍結ユニット２から洗浄ユニット１に再び搬送され、洗浄ユニット１にて基板に対して物理／化学洗浄が実行され、凍結膜が基板表面から除去される。このように物理／化学洗浄の前処理として液膜形成・液膜の凍結が行われることにより、基板表面からパーティクルを効率良く除去することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に略均一に乾燥流体を供給するようにして乾燥不良をなくした基板処理装置提供すること。
【解決手段】薬液や純水等の処理液を貯留し、この貯留された処理液に被処理基板を浸漬して処理する洗浄槽３と、この洗浄槽３の上方に配置して洗浄済み被処理基板を洗浄槽から引上げて乾燥処理する乾燥室６とを備え、洗浄槽３と乾燥室６との間には、これらの間を仕切るともに乾燥流体を排出させる排気穴を有するシャッター部材８がスライド移動自在に配設されている。 （もっと読む）

【課題】基板上の異物残留を低減できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理槽１３内に設置される基板Ｗ上に処理液を供給する位置と該処理液を供
給する位置から退避する位置との間を移動可能な吐出口６ｂを有するノズル６を備えた基
板処理装置１において、ノズル６が処理液を供給する位置から退避したときに、吐出口６
ｂが配置される空間領域と基板Ｗが配置される空間領域とを遮断する可動な遮断手段８、
１４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】液面の盛り上がり位置をずらすことにより、基板に乾燥不良が生じることを防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを内槽７から上昇させる際に、噴射ノズル３３から水平方向にドライエアｄａを噴射させるとともに、エアシリンダ５５により内槽７の上部側壁の高さを乾燥時高さにする。これにより、純水は、内槽７の上縁にてせき止められることなく第２の外槽４９に流れ込む。第２の外槽４９の幅は、噴射ノズル３３の上流側にあたる第１の外槽４７の幅よりも広くされているので、内槽７から離れた位置に純水の盛り上がりが生じる。したがって、引き上げられてゆく基板Ｗの部位にかかわらず乾燥具合を均一にできる。その上、ドライエアｄａの噴射によって純水が飛散するのを防止できるので、飛沫に起因する乾燥不良も防止できる。 （もっと読む）

【課題】ワークの保持手段自体による陰の部分を解消するとともに、そのワークに対する保持作用及び洗浄作用の安定化を図り、長期間の稼働により搬送チェーン等の無端状走行帯に伸びが生じたとしても、ワークの各停止位置における洗浄作用に支障が生じることのない洗浄装置を提供する。
【解決手段】ワークが載置されるワーク載置部と、ワークの上面を押えつける押圧部材と、洗浄媒体を噴射する噴射ノズルとを備え、ワーク載置部７に載置されたワーク１を押圧部材１９により押えつけながら洗浄媒体を吹付ける洗浄装置において、押圧部材１９を噴射ノズル２０と一体的に設け、それらの押圧部材１９と噴射ノズル２０を移動させることにより、押圧部材１９による陰の問題を解消するとともに、ワーク載置部を移動するための搬送チェーン等の無端状走行帯の伸びに起因する押圧部材１９や噴射ノズル２０の移動上の問題を解消する。 （もっと読む）

【課題】大型且つフラットな金型の洗浄に適する洗浄装置を提供する。
【解決手段】電解洗浄液が供給される金型洗浄用の洗浄槽２と、フラットで大面積の金型を垂直状態あるいは傾斜状態で保持して、前記洗浄槽内に載置する金型保持材６と、前記金型保持材に保持された前記金型の側方に対向させて、前記洗浄槽内に浸漬する電解洗浄用の電極２２と、前記金型保持材を介して前記金型を接触させ、前記電極と電解洗浄液および金型を介して通電させて電解洗浄を行わせる給電手段と、前記金型保持材の背面側に位置する前記洗浄槽の側壁外部に設置し、前記電解洗浄液に超音波振動を発生させる超音波発生装置４を備え、前記垂直あるいは傾斜保持された金型を電解洗浄及び超音波洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤蒸気の捕集を確実にし周囲の作業環境の悪化を未然に防止するとともに、処理装置をコンパクトで安価に製作できるシステムを提供することを目的としている。
【解決手段】有機溶剤１０４を貯留し上方が開放である洗浄槽１０１の上端縁１１３周囲に配設され、有機溶剤蒸気を吸引するための吸引口２として上方向開口部４と横方向開口部６を有し、上方向開口部４の外周に隔壁７を立設した吸引ダクト１と、有機溶剤蒸気を回収または分解するために吸引ダクト１に接続された処理装置１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】表面に疎水性の部分を有する種々の基板においても、表面へのパーティクルが残存し難い基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも一部の期間において基板を回転させつつ、基板の表面に液を供給して洗浄する工程と、その後基板を乾燥させる工程とを有する基板洗浄方法であって、基板を乾燥させる工程は、基板の回転数を基板を洗浄する際の回転数よりも低い第１の回転数に減速させる工程と、基板の回転数が前記第１の回転数まで減速された際に、基板の略中心から周縁部に向けて液の供給位置の移動を開始する工程と、第１の回転数より低い第２の回転数に達した時点で液の供給を停止する工程と、第２の回転数から回転数を増加させる工程と、第２の回転数より高い回転数で基板を回転させながら基板に向かってガスを供給する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄水を再利用することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】 被洗浄物を洗浄するための洗浄槽と、該洗浄槽から排水される水を受け貯留する貯留槽を備え、貯留槽の水を洗濯水として再利用する洗浄装置は、
前記貯留槽に貯留された水を取り出し、該水を当該貯留槽へと戻すための第１の経路と、前記第１の経路の途中で分岐され前記貯留槽の水を前記洗浄槽へと送るための第２の経路と、前記第１の経路と第２の経路のいずれかの経路に切り替えるための制御弁と、前記貯留槽から前記分岐されるまでの第１の経路に設けられ、前記貯留槽の水を吸引し、送り出すためのポンプと、前記第１の経路中に設けられ、前記貯留槽へと戻され水を浄化するための浄化手段と、前記制御弁、ポンプを制御することで、前記貯留槽の水を前記洗浄槽へ、あるいは前記貯留槽の水を第1の経路を経由して当該貯留槽へ戻し、前記貯留槽へと戻される水を浄化するために前記浄化手段を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）