【課題】欠陥部を確実に修復しつつ、高い輝度をより長期間維持することができる有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に配置された有機発光層とを有する素子基板をエージングする製造方法であり、陽極と陰極の間に第１エージング電圧を印加して素子基板をエージングする第１エージング工程（Ｓ２０３）と、陽極と陰極との間に第２エージング電圧を印加して素子基板をエージングする第２エージング工程（Ｓ２０４）とを備えている。そして、第１エージング電圧の逆バイアス電圧は、有機ＥＬ装置の実駆動電圧の逆バイアス電圧よりも大きく、且つ、第２エージング電圧の順バイアス電圧は、有機ＥＬ装置の実駆動電圧の順バイアス電圧よりも大きく設定されている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の寿命を向上させ、有機ＥＬディスプレイの高画質化に寄与すること。
【解決手段】有機ＥＬ素子の製造方法において、第１電極が被着された基板を準備する工程と、前記第１電極上に発光層を含む有機層を形成する工程と、前記有機層上に第２電極を形成する工程と、を備え、前記有機層を形成する際に前記基板が配設されるチャンバー内において、前記有機層の形成前、形成中または形成後に金属材料を蒸発させ、前記蒸発させた金属材料に前記チャンバー内に含まれる水分及び／または酸素を吸着させる。 （もっと読む）

【課題】回路の誤動作を簡単な構成で抑制する。
【解決手段】発光領域ＡにはＯＬＥＤ素子７０が配置される。ＯＬＥＤ素子７０は共通電
極７２と画素電極７６との間に挟まれた発光機能層７４を有する。回路領域Ｂにおいて周
辺回路を構成するトランジスタ４０および５０と光の射出面との間には、補助配線１５０
が配置される。補助配線１５０は画素電極７２と同一の層で同時に形成される。補助配線
１５０および画素電極７２は遮光性および導電性を有する。 （もっと読む）

【課題】複数の有機ＥＬパネルに対して一括してエージング処理を施すときに、短絡画素に起因して隣接する有機ＥＬパネル等に損傷が与えられることを防止する。
【解決手段】１つの有機ＥＬパネル１０に接続される全ての陽極引き回し配線１１は、一旦、１つの陽極エージング用配線２１に接続される。陽極エージング用配線２１における第１の陽極エージング用共通配線２２に接続される箇所（Ａ部分）の近傍において、陽極エージング用配線２１は、配線幅が狭くなっている狭部を有する。特定の有機ＥＬパネル１０において欠陥（層間短絡など）が生じている可能性が高い場合には、その有機ＥＬパネル１０に接続されている陽極エージング用配線２１における狭部を切断する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子基板と封止基板とを封止するシール材が未硬化の状態で外部に流出することを防止した有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】封止基板３を構成する壁部２４の立ち上がり方向Ｓの頂面２４ａにおける外縁側には、複数の第１流出防止壁２５，２５が形成される。第１流出防止壁２５，２５は、立ち上がり方向Ｓにおける下面で壁部２４の頂面２４ａに接し、上面は有機ＥＬ素子基板２に対して間隔を空けて形成される。また、有機ＥＬ素子基板２の周縁部には、封止基板３を構成する壁部２４の頂面２４ａに向けて延びる複数の第２流出防止壁２６，２６が形成される。こうした第２流出防止壁２６，２６は、立ち上がり方向Ｓにおける下面で壁部２４の頂面２４ａに対して間隔を空けて形成される。 （もっと読む）

【課題】隔壁の欠損の発生を抑制することが可能な有機ＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる有機ＥＬ装置の一態様は、透明基板１０１上に形成された複数の陰極配線１０５と、複数の陰極配線１０５の間に形成された隔壁１０９とを有する有機ＥＬ装置であって、隔壁１０９の陰極配線１０５に対向する２側面のうち、一方の側面と透明基板１０１表面とのなす角は鋭角であり、他方の側面と透明基板１０１表面とのなす角は略直角又は鈍角であるものである。 （もっと読む）

【課題】安定性に優れ、故に高温時での保存や駆動安定性に優れ、さらには長寿命である高分子発光材料を提供すること。また、製造工程が簡略化され、大面積化が実現できるとともに、耐久性に優れた有機ＥＬ素子および表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る高分子発光材料は、一般式（１）などで表されるイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体からなることを特徴とする。


（式中、Ｚ₁は、五員または六員の含窒素複素環を完成するための原子群を表し、Ｚ₂は、五員もしくは六員の炭素環または複素環を完成するための原子群を表し、これらの環は置換基を有してもよく、また、縮合環を有していてもよい。Ｒ₁およびＲ₂は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子などを表す。Ｒ₃は重合性官能基を有する置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】縦型の有機発光トランジスタ素子において、陽極と陰極との間の電流制御を容易にした有機発光トランジスタ素子を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に設けられた補助電極２と、補助電極２上に設けられた絶縁膜３と、絶縁膜３上に所定の大きさで設けられた第１電極４と、第１電極４上に平面視で同じ大きさで設けられた電荷注入抑制層５と、第１電極４が設けられていない絶縁膜３上に設けられた電荷注入層１２と、電荷注入抑制層５及び電荷注入層１２上又は電荷注入層１２上に設けられた発光層１１と、発光層１１上に設けられた第２電極７とを少なくとも有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬパネルの製造工程において、歩留まりを低下させることなくエージング処理を行うことが可能な有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬパネル１の製造方法は、異なる発光色を呈する複数種類の有機層７ａ〜７ｃをそれぞれ一対の電極４，８で挟持してなる複数種類の発光画素を基板上に形成する発光画素形成工程を含む。前記各発光画素の両電極４，８間に少なくとも逆バイアス電圧成分を含む電圧波形を印加するエージング処理工程を含む。前記エージング処理工程において、発光色の異なる前記各発光画素にそれぞれ異なる加熱処理を行って前記各発光画素の温度を調整する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の品質を低下させることなく、安定した封止操作を行うことが可能なロールツーロール方式による有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄工程１１０、有機ＥＬ構造体形成工程１２０、被覆処理工程１３０、からなり、ロール状に巻き取られた可撓性の基材を繰り出して、洗浄工程１１０における基材の洗浄、有機ＥＬ構造体形成工程１２０における第１電極、有機層、第２電極からなる有機ＥＬ構造体の形成、および、被覆処理工程１３０における保護膜の被覆処理をインラインで行って、基材をロール状に巻き取る。 （もっと読む）

【課題】基板を加熱する場合であっても、塗布液を正しい位置に塗布する。
【解決手段】加熱工程（ステップＳ１）においては、基板を塗布時の処理温度に加熱する。測定工程（ステップＳ４）においては、加熱された基板の所定部分の長さを測定する。調整工程においては、加熱前における所定部分の長さと測定工程で測定された長さとに基づいて加熱による基板の膨張率を算出し（ステップＳ４）、所定の第１方向へのピッチ送り量を当該膨張率に基づいて調整する（ステップＳ７）。塗布工程（ステップＳ８）においては、基板に対して塗布液を吐出している塗布手段を第１方向に垂直な第２方向に相対移動させる動作と、調整工程において調整されたピッチ送り量だけ基板を塗布手段に対して相対移動させる動作とを繰り返すことによって塗布液を基板に塗布する。 （もっと読む）

【課題】製造工程を長くすることなく、生産性が高く、高品質で多層化対応が取れた有機ＥＬ素子の製造方法の提供。
【解決手段】帯状可撓性基材上に少なくとも第１電極と、第１有機化合物層と、第２有機化合物層と、第２電極と、封止層とを順次積層した少なくとも一つの有機ＥＬ素子を、帯状可撓性基材供給工程と、第１電極形成工程と、第１有機機能層形成工程と、第２有機機能層形成工程と、第２電極形成工程と、封止層形成工程とを有する製造工程を使用し、前記有機ＥＬ素子を製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記第１電極形成工程、前記第１有機機能層形成工程、前記第２有機機能層形成工程、前記第２電極形成工程、封止層形成工程の何れかの工程が終了した後、前記帯状可撓性基材をロール状に巻き取り回収し、不活性ガス雰囲気にて保管することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電源線の抵抗を抑制しながら各要素を電源線と同層から形成する。
【解決手段】基板１０の面上には駆動トランジスタＴdrと素子導通部７１と初期化トラン
ジスタＴintと接続部６１とが配置される。駆動トランジスタＴdrは、電源線１５から発
光素子Ｅに供給される電流量を制御する。素子導通部７１は、駆動トランジスタＴdrと発
光素子Ｅとを電気的に接続する。初期化トランジスタＴintは、オン状態に遷移すること
で駆動トランジスタＴdrをダイオード接続する。接続部６１は、駆動トランジスタＴdrと
初期化トランジスタＴintとを電気的に接続する。電源線１５はＸ方向に延在する。素子
導通部７１および接続部６１は、電源線１５と同層から形成され、基板１０に垂直な方向
からみて、駆動トランジスタＴdrを挟んで電源線１５の幅方向（Ｙ方向）における一方の
側に位置する。 （もっと読む）

【課題】塗布領域における流動性材料の塗布の終端側において流動性材料の乾燥時間が他の領域よりも短くなることを抑制する。
【解決手段】塗布装置は、基板９に向けて有機ＥＬ液を連続的に吐出する塗布ヘッド、塗布ヘッドを基板９に対して主走査方向および副走査方向に相対的に移動するヘッド移動機構および基板移動機構、並びに、これらの構成を制御する制御部を備える。塗布装置では、制御部により各構成が制御されて、基板９上の塗布領域９１に有機ＥＬ液が塗布されるとともに、副走査方向における塗布ヘッドの相対移動の基板９上の終端側において塗布領域９１の外側の非塗布領域９２に有機ＥＬ液が塗布される。これにより、基板９の塗布領域９１における有機ＥＬ液の塗布の終端側において、雰囲気中の有機ＥＬ液の溶媒成分の濃度が高くなり、有機ＥＬ液の乾燥時間が他の領域に塗布された有機ＥＬ液の乾燥時間よりも短くなることを抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】素子基板の周囲温度をより高い温度にして効率よくエージング処理を行うことができ、駆動電圧を効率よく低減することができる有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板上に陽極と陰極と複数の有機化合物層とを有する素子基板を製造する素子基板製造工程（Ｓ３０１）と、陽極と陰極の間にエージング電圧を印加して素子基板をエージングするエージング工程（Ｓ３０２）とを備えている。ここで、素子基板製造工程（Ｓ３０１）では、複数の有機化合物層のうち、ガラス転移温度が最も低い第1の有機化合物層が、第1の有機化合物層よりガラス転移温度が高い第２および第３の有機化合物層の間で挟持されるように、複数の有機化合物層を形成する。また、エージング工程（Ｓ３０２）では、素子基板の周囲温度を第1の有機化合物層のガラス転移温度以上に設定する。 （もっと読む）

【課題】 有機発光材料を用い、大気中で製造可能な発光装置を提供する。
【解決手段】
基板上の発光機能領域内部に、下部電極層、有機発光層、および上部透明電極層を積層した発光装置において、下部電極層と有機発光層の界面に、導電性金属のナノコロイダル粒子から形成される補助電極層を形成することにより、下部電極層は平滑化され、発光効率が高まる。また、下部電極層を透明電極層とし、その上に有機発光層、補助電極層および上部電極層を積層する構造でも同様の効果が得られる。さらに、金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル法によってガラスを生成し、このガラスによって前記発光装置を封止すると、発光をより持続させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】スペーサを用いることなく所望の間隔を形成することができるパネル製造装置を提供すること。
【解決手段】ギャップ形成ブロック６１の上面には上基板保持部４４に吸着された基板Ｗ２が当接され、上基板保持部４４の下降が規制されるようにした。この状態において、ギャップ形成ブロック６１の内側に収容され下基板保持部５３に吸着された基板Ｗ１と、ギャップ形成ブロック６１に当接された基板Ｗ２とが、所定の間隔にて保持される。即ち、両基板Ｗ１，Ｗ２の間に所定の基板ギャップが形成される。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れた複合材料を提供することを課題とする。また、当該材料を用いた工業化に有利な発光素子用複合材料を提供することを課題とする。またその複合材料を用いた発光素子、並びに発光装置を提供することを課題とする。
【解決手段】アリールアミン骨格を有する高分子化合物と、前記高分子化合物に対して電子受容性を有する無機化合物とを含む複合材料であり、その複合材料の吸収スペクトルが、当該複合材料を構成する高分子化合物、無機化合物のどちらの吸収スペクトルとも異なる、すなわち、当該複合材料を構成する高分子化合物、無機化合物のどちらの吸収スペクトルにも吸収ピークが現れない波長に吸収ピークを有する複合材料が導電性やキャリア輸送、注入性に優れ、好ましい。なお、これらの複合材料はゾルーゲル法による湿式法により作製されるため、作製工程における基板の大面積化が比較的容易であり、工業化に有利である。 （もっと読む）

【課題】接続配線が形成された基板の状態で金属電極の短絡不良の検査をすることができる有機ＥＬパネル用基板の検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる有機ＥＬパネル用基板１００の検査方法の一態様は、透明基板１０１上に形成された複数の陰極１０８と、複数の陰極１０８の各々と接続された陰極用エージング配線１０４とを有する有機ＥＬパネル用基板１００の検査方法であって、透明基板１０１に光を照射し、透明基板１０１からの透過光により陰極１０８間の短絡を検査する。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスに起因した回路層の動作不良等が抑制され、生産性および信頼性に優れた画像表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】素子基板上の中央部に形成された回路層上に、平坦化膜を形成する工程と、前記素子基板の周縁部に形成された回路層上に、前記平坦化膜よりも厚みの小さい保護膜を形成する工程と、前記前記保護膜の上に、前記素子基板と封止基板とを接着する封止材を形成する工程と、を備えることにより、製造プロセスに起因した動作不良等が確実に防止された生産性および動作信頼性に優れた有機ＥＬ表示装置を実現する。 （もっと読む）