【課題】高精細な複数種の薄膜パターンの形成を効率よく行い得るようにする。
【解決手段】フィルム２に有機ＥＬ層１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂと同形状の開口パターン４を設けたマスク１をフィルム２がＴＦＴ基板１９側となるようにして該ＴＦＴ基板１９上に位置決めし載置し、ＴＦＴ基板１９のＲ対応アノード電極２１Ｒ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｒ有機ＥＬ層１７Ｒを形成した後、マスク１を複数種の有機ＥＬ層１７Ｒ〜１７Ｂの配列ピッチと同寸法だけアノード電極２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂの並び方向に移動し、ＴＦＴ基板１９のＧ対応アノード電極２１Ｇ上にマスク１の開口パターン４を介して成膜し、Ｇ有機ＥＬ層１７Ｇを形成する。 （もっと読む）

【課題】電極間におけるリーク・ショートの発生を防ぎつつ構成材料として使用可能な材料の範囲が広範である有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されている第一画素電極及び第二画素電極上に、電荷注入輸送性材料からなる電荷注入輸送層を付き周りの良い形成方法を用いて形成する工程と、電荷注入輸送層上に第一有機ＥＬ層を形成する工程と、第一有機ＥＬ層を加工して、少なくとも第二画素電極上に設けられている第一有機ＥＬ層を除去する工程と、第二画素電極上に設けられている電荷注入輸送層の少なくとも一部を除去する工程と、第二画素電極上に、第二有機ＥＬ層２５を形成する工程と、第一画素２ａと第二画素２ｂとに共通する対向電極２６を形成する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする、有機ＥＬ表示装置１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】より長波長側の光を吸収し、室温で液状のテトラアザポルフィリン誘導体の提供。
【解決手段】下記図中記載のテトラアザポルフィリン誘導体。
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【課題】凹凸部分を含めて有機ＥＬ素子を的確に下地層によって被覆でき、下地層の上に形成されるバリア層にクラックが入ることを抑制することができるようにする。
【解決手段】熱の印加によって流動性を発現する材料によって下地層７を構成する。このような構成とすれば、熱の印加によって下地層７を流動させることで平坦化でき、隔壁６による凹凸部分などを含めた被覆したい領域の全域を下地層７によって被覆した状態にできる。また、下地層７の形成時に仮に気泡などが混入したり未形成領域ができたりしても、平坦化によって気泡や未形成領域を消失させられる。このため、隔壁６による凹凸部分などにおいても下地層７が応力緩和効果を発揮し、応力集中によってバリア層８にクラックが入ることを抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】画素電極の駆動素子として酸化物ＴＦＴを用いた表示装置の信頼性を向上させつつ、製造コストの低減を図ることを可能にした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極および薄膜トランジタを有する複数の画素と、薄膜トランジタを駆動する信号線および走査線と、共通電極と、複数の画素と共通電極との間に配置される表示層とを備える表示部４を、第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との間の間隙に設けた後、レーザ吸収能を有する封着用ガラス材料の焼成層からなる枠状の封着材料層１０にレーザ光１１を照射することによって、表示部４を封止する封着層９を形成する。 （もっと読む）

【課題】サテライトによる短絡不良を抑制することができる、有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】それぞれの色に対応した有機発光層を、発光材料を溶媒に溶かしたインクをインクジェットで塗布することによって形成する際に、それぞれの色に対応するインクを、粘度の低い順番に塗布することによって、先に塗布したインクのサテライトを、後から塗布した粘度の高いインクで被覆できる。これによって、有機ＥＬディスプレイのインクジェットで製造する際、サテライトによる短絡不良を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部６を設けて保持部材１を形成し、保持部材１の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム２を密着して保持し、第１の磁気チャック１７上に載置された基板３に対して保持部材１を位置合わせした後、磁力により保持部材１を吸着してフィルム２を基板３面に密着させ、保持部材１の開口部６内のフィルム２の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン４を形成し、第２の磁気チャック１８の磁力により保持部材１を吸着して該保持部材１及びフィルム２を一体的に基板３上から剥離する。 （もっと読む）

【課題】第１画素とこの第１画素と異なる領域に形成された第２画素とを有する発光素子において、下部電極のレイアウトを簡単にすることができると共に、第１、第２画素の見栄えが互いに異なることを抑制することができる発光素子を提供する。
【解決手段】第１画素Ａの第１下部電極２０ａと第２画素Ｂの第２上部電極２２ｂとを電気的に接続し、第１画素Ａの第１上部電極２２ａと第２画素Ｂの第２下部電極２０ｂとを電気的に接続する。これによれば、外部回路と接続される下部電極を１つにすることができ、下部電極のレイアウトが複雑になることを抑制することができる。また、第１画素Ａの第１下部電極２０ａと第２画素Ｂの第２下部電極２０ｂとを立体交差させる必要もなく、第１、第２画素Ａ、Ｂの見栄えが互いに異なることを抑制することもできる。 （もっと読む）

【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機ＥＬ成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク８３とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機ＥＬ成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム８２の外枠に沿って設けられる、複数の固定板８４を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 （もっと読む）

【課題】成膜エリアに封止膜が的確に形成され、かつ、非成膜エリアには封止膜が形成されることを抑制する。
【解決手段】成膜エリアＲ１と非成膜エリアＲ２とをそれぞれ別々に隔離壁２によって囲み、これらの間に成膜可エリアＲ３を配置した構造とし、マスクを隔離壁２の上面に接触させて成膜エリアＲ１以外の領域を覆った状態でガスを用いた手法によって封止膜３を形成する。これにより、成膜エリアＲ１のみに良好に封止膜３を形成しつつ、成膜エリアＲ１以外の領域には封止膜３が形成されないようにできることから、成膜エリアＲ１に封止膜３が的確に形成され、かつ、非成膜エリアＲ２には封止膜３が形成されることを抑制できる。 （もっと読む）

【課題】従来に比べ、構造を簡便なものとしつつ、各画素のピーク輝度を下げる。
【解決手段】表示照明装置１は、電圧印加により抵抗値Ｒswが変化する抵抗スイッチ２２、及び当該抵抗スイッチ２２と直列に接続された発光部２１をそれぞれ有し、マトリクス状に配列された有機ＥＬデバイス２０と、抵抗スイッチ２２の抵抗値Ｒswを高抵抗又は低抵抗に設定する書き込み制御、及び、抵抗スイッチ２２の抵抗値Ｒswに基づいて発光部２１の発光を制御する発光制御を行う制御部６とを備える。制御部６は、１フレームを複数のサブフレームに時分割し、書き込み制御と発光制御とをサブフレーム毎に行う。 （もっと読む）

【課題】安価で容易に合成することができる材料を用いて、発光効率が高い有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】下記の一般式で表される銅錯体を発光層に用いた有機エレクトロルミネッセンス素子。
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【課題】エージング時間を短縮しつつ、スループットを向上できる表示装置の提供
【解決手段】表示装置１は、有機ＥＬ素子４０と、有機ＥＬ素子４０に電力を供給する電源部１０と、有機ＥＬ素子４０と電源部１０との間の電力供給路に設けられ、輝度信号を受け電流を有機ＥＬ素子４０に流す画素回路３０と、画素回路３０に輝度信号を出力すると共に、有機ＥＬ素子４０をエージングするエージングモード、および有機ＥＬ素子４０を用いた映像表示モードのいずれかで選択的に動作する制御部２０とを備える。電源部１０が出力する電源電圧は、エージングモードおよび映像表示モードにおいて同一であり、制御部２０は、エージングモードでの有機ＥＬ素子４０の発光輝度が、映像表示モードでの最大発光輝度よりも大きくなるように、エージングモードでの輝度信号に示される発光素子の発光輝度を設定する。 （もっと読む）

【課題】仕様の異なる複数の表示装置を１つの基板に作製するさいに好適な基板およびこれを用いた表示装置の製造方法を提供することにある。
【解決手段】表示装置を形成するための装置形成領域が複数設けられた、複数の表示装置を形成するための基板であって、各装置形成領域は、当該基板上において、所定の第１方向と、この第１方向に垂直な第２方向にそれぞれ所定の間隔をあけて配置され、各装置形成領域には、前記第２方向に所定の間隔をあけて、前記第１方向に延在する複数本の隔壁部材からなる隔壁が設けられ、第１方向に隣り合う装置形成領域は、そのサイズが互いに異なり、かつ第１方向の一方の装置形成領域の隔壁部材の延長線上に、第１方向の他方の装置形成領域の隔壁部材が設けられている、複数の表示装置を形成するための基板。 （もっと読む）

【課題】高い屈折率を有し、なおかつ低透湿性に優れた硬化物（樹脂硬化物）を形成でき、硬化収縮が小さい樹脂組成物（硬化性樹脂組成物）を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物（Ａ）と、フェノール類とアルデヒドの縮合物、芳香族炭化水素とアルデヒドの縮合物、石油樹脂、スチレン化フェノール、及びロジンからなる群より選択された少なくとも１種の化合物（Ｂ）と、重合開始剤（Ｃ）とを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【化１】
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【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー９１と、基板搬送機から基板６を受取るための基板受けピン６６と、基板ホルダー昇降機構６８と、基板ホルダー９１の端部に設けられ、基板クランプ６１とクランプ支持金具６２とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板６を基板クランプ６１から解放するためのクランプ開閉ピン６７とを備え、クランプ支持金具６２は縦方向に回転し第１の腕６２ａ
と第２の腕６２ｃを有し、第１の腕６２ａの端には基板クランプ６１の一端が固定され、第２の腕６２ｃの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ６１が基板６を基板ホルダー９１に押圧するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】着色剤として染料又はレーキ顔料を用いた場合に、良好な耐溶剤性を有する着色層を形成することのできる着色組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）染料及びレーキ顔料から選ばれる少なくとも１種を含む着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、並びに（Ｄ）下記式（１）で表される光重合開始剤を含有することを特徴とする着色組成物。


〔式（１）において、Ｒ³は、炭素数４〜２０のシクロアルキル基、フェニル基又はナフチル基をを示す。〕 （もっと読む）

【課題】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、低コストで、外光反射を効果的に抑制しつつ、色味の発生をも十分に抑制しうる手段を提供する。
【解決手段】表示装置本体の視認側に円偏光板が配置されてなる表示装置において、円偏光板として、視認側から、表面反射抑止層と、偏光子と、λ／４板と、がこの順に積層されてなる構成を有するものを用い、表示装置の視認側の表面の法線に対して５°の方向から入射した光の表示装置における反射率として定義される正面反射率（Ｒ０）が、下記数式１を満たすように表示装置を構成する。


（式中、λ１およびλ２は、４８０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍから選ばれる互いに異なる波長であり、Ｒ０（λ１）およびＲ０（λ２）は、それぞれ波長λ１または波長λ２を有する光の正面反射率である。） （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板２上に一定形状の薄膜パターン４を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材５に薄膜パターン形成領域９に対応して該薄膜パターン４と同形状の貫通する開口パターン６を形成し、磁性部材５が磁力により第１の磁気チャック３の平坦な吸着面３ａに吸着されて保持されたマスク１の開口パターン６を、第２の磁気チャック８上に載置された基板２の薄膜パターン形成領域９に位置合わせするステップと、第２の磁気チャック８の磁力により磁性部材５を吸着してマスク１を第１の磁気チャック３から基板２上に移すステップと、マスク１の開口パターン６を介して基板２上の薄膜パターン形成領域９に成膜し、薄膜パターン４を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、低駆動電圧であり、且つ耐久性が高く、さらには、駆動時の電圧上昇を小さくできたり、経時安定性に優れたりする有機エレクトロルミネッセンス素子材料、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子材料。
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