説明

Fターム[3K107FF16]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | パラメータ (13,035) | 圧力、真空度 (227)

Fターム[3K107FF16]に分類される特許

201 - 220 / 227


【課題】水蒸気バリア性が高く、かつ、臭気の低減されたバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機層と無機層とが積層した構造を含むバリア性積層体の製造方法であって、前記有機層は、下記一般式(1)で表されるモノマーを含む重合性組成物を100Pa以下の圧力下で重合させることにより形成することを特徴とする、バリア性積層体の製造方法。


[一般式(1)において、Lはm価の連結基を表し、mは1〜6の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】低沸点溶媒を用いながら液滴吐出ヘッドのノズル詰まりを起こりにくくすることが可能な発光装置の製造方法及び発光装置の製造装置を提供すること。
【解決手段】製造装置100は、基板10上に形成された画素電極、正孔注入層、発光層、陰極を有する発光装置を製造するための装置である。製造装置100は、表面に画素電極が形成された基板10上に、溶媒に溶解又は分散された機能物質を含む機能液14Lを吐出する液滴吐出ヘッド114と、基板10上に吐出された機能液14Lを乾燥させて、機能物質を含む機能層を形成する乾燥装置400とを有している。ここで、機能層は、正孔注入層及び発光層の少なくとも一方を含んでおり、液滴吐出ヘッド114は、液滴吐出ヘッド114内の溶媒の蒸気圧が10mmHg以下となる温度に冷却されている。 (もっと読む)


【課題】Oの含有量が十分に低く、かつ、高密度であるEL発光層形成用スパッタリングターゲットと、その製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも2価金属と、3価金属と、発光中心金属とからなる金属原料を溶解して合金を得る合金化工程と、得られた合金を粉砕して合金粉末を得る粉砕工程と、得られた合金粉末を用いて成形物を得る成形工程と、得られた成形物を焼結させて焼結体を得る焼結工程とを主要工程として含むものであり、合金化工程を真空中もしくは不活性雰囲気中で行い、かつ、合金化工程において前記金属原料の溶解に際して、水冷銅製坩堝を用いることにより得られる。 (もっと読む)


本発明の側面は、エレクトロルミネセント素子およびそれを作製する方法を含む。ある実施形態においては、素子は、基板(202)と、正孔注入電極層(204)と、誘電体層(206)と、エレクトロルミネセント層(212)と、電子注入電極層(208)と、キャビティ(210)とを含む。ある実施形態においては、正孔注入電極層(204)は、基板(202)の上方に配置され、誘電体層(206)は、正孔注入層(204)の上方に配置され、電子注入電極層(208)は、誘電体層(206)の上方に配置される。ある実施形態においては、本順序が反転される。ある実施形態においては、キャビティ(210)は、少なくとも誘電体層(206)を通って延在し、および/または電極層(例えば、正孔注入電極層(204)および/または電子注入電極層(208))のうちの1つ以上を通って延在してもよい。
(もっと読む)


【課題】有機機能層をウェットプロセスで形成した場合において、高沸点溶を除去乾燥する際に有機機能性素子の特性の低下が起きず、高性能な有機EL素子、有機太陽電池および有機薄膜トランジスタのような有機機能性素子を製造可能とする乾燥方法を提供する。
【解決手段】チャンバー内を減圧する工程と、前記基板を前記溶媒の沸点以上に加熱する工程と、冷却したゲッターに溶媒を吸着する工程とを少なくとも含むことを特徴とする乾燥方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】インキのはじき等がなく膜厚均一性に優れたな膜形成を行うことで、欠陥やムラのない有機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に隔壁パターンを形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域に凸版印刷法により正孔輸送インキを転写して層を形成する工程とを少なくとも有し、該正孔輸送インキの表面張力が40mN/m以下である有機EL素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】インキのはじき等がなく膜厚均一性に優れたな膜形成を行うことで、欠陥やムラのない有機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に隔壁パターンを形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域にスリットコート法により正孔輸送インキを塗布して正孔輸送層を形成する工程とを少なくとも有し、該正孔輸送インキが水溶性で、沸点200℃以下の有機溶剤を1〜50体積%含有し、インキの表面張力が40mN/m以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【解決課題】 内部への水分の浸入が少なく、従来の封止方法に比べて、発光寿命を維持しつつ表示部外のエリアを小さくした有機EL素子を提供する。
【解決手段】 基板上に、第1電極22と、有機発光層を含む有機EL層23と、第2電極24と、上記第1電極および/または上記第2電極と電気的に接続した少なくとも1本の外部駆動用回路との接続用のフレキシブルケーブル26と、外部封止層25とを備えた有機EL素子であって、上記フレキシブルケーブルの端部が、表面改質され、上記第1電極と上記外部封止層との間に挟まれており、上記外部封止層が、上記第1電極、有機EL層、第2電極、および、フレキシブルケーブル端部を被覆するように、接着剤を介さずに積層していることを特徴とする有機EL素子である。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板Gに成膜する成膜装置13であって、処理容器30の内部において、第1の層を成膜させる第1成膜機構35と、第2の層を成膜させる第2成膜機構36を備え、第1成膜機構35は、処理容器30の内部に配置された、成膜材料の蒸気を基板に供給するノズル34と、処理容器の外部に配置された、成膜材料の蒸気を発生させる蒸気発生部45と、蒸気発生部45で発生させた成膜材料の蒸気をノズル34に送る配管46と、を備える。 (もっと読む)


本発明は、封止された厚膜誘電体ディスプレイであって、厚膜誘電体ディスプレイ構造と、そのディスプレイ構造の上に配置された接着層と、を備えるディスプレイである。発明は、また、カバープレートの下側と、厚膜誘電体エレクトロルミネセンスディスプレイの表面と、に接着される接着層を備えるシールを提供する。シールは、ディスプレイコンポーネントが空気中の汚染物質にさらされることを十分に抑止する。
(もっと読む)


本発明は、基板上に金属からなる第1電極、1層以上の有機物層、および第2電極を順次形成するステップを含む有機電子素子の製造方法であって、1)前記有機物層を形成する前に前記第1電極上に前記第1電極より酸化率の高い金属を用いて層を形成するステップ、2)前記第1電極より酸化率の高い金属を用いて形成した層を酸素プラズマ処理して金属酸化物層を形成するステップ、および3)前記金属酸化物層を不活性気体でプラズマ処理して除去するステップ、を含む有機電子素子の製造方法およびその方法によって製造された有機電子素子を提供する。
(もっと読む)


【課題】製造が容易であり、歩留りを向上させることができ、低コストで製造可能な発光
装置、発光装置の製造方法及び電子機器を提供すること。
【解決手段】有機EL装置1を構造する過程で有機EL素子3内に回折格子を形成する必
要がなく、回折格子6bが形成された回折格子フィルム6を有機EL素子3とは別個に作
成し、この回折格子6bを保護層4の上面4aに密接させれば済むことになる。これによ
り、大掛かりな露光装置や特殊な露光装置が不要になると共に、歩留りを向上させること
ができ、低コスト化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】有機EL表示装置に用いる基板の有機汚染に対する洗浄度を高めることで、欠陥画素の減少、有機EL表示装置の長寿命化を実現する。
【解決手段】蒸着を行う第1チャンバとは異なる第2チャンバで、蒸着を行う前に、有機表示装置の基板を加熱しながらオゾン洗浄を行い、その後、第1チャンバで有機物の蒸着を行うか、蒸着を行う第1チャンバとは異なる第2チャンバで蒸着を行った後に、有機表示装置の基板を加熱しながらオゾン洗浄を行うようにする。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィー法によるEL素子の製造方法において、EL素子の発光効率を向上できる方法を提供する。
【解決手段】少なくとも電極層が形成された基板上に、エレクトロルミネッセント層を形成する工程、前記エレクトロルミネッセント層上に、フォトレジスト層を被覆する工程、前記フォトレジスト層を、フォトマスクを介して露光し、現像することによりフォトレジスト層をパターニングする工程、前記パターニングによりフォトレジスト層が被覆されていない部分のエレクトロルミネッセント層を除去して、前記エレクトロルミネッセント層をパターニングする工程、前記フォトレジスト層が被覆されている部分のフォトレジストを除去する工程、および前記フォトレジストが除去されたエレクトロルミネッセント層部分の表面を、洗浄する工程、
を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置の支持基板と封止基板とを貼り合せる際の、シール樹脂の破裂の防止を図る。
【解決手段】EL素子101が配置された支持基板100と、凹部(ポケット部201)が形成された封止基板200とがシール樹脂150を介して貼り合わされている。ポケット部201の底部にはEL素子101に対向するように乾燥剤層210が形成されている。ポケット部201の容積をV1(=L1×L2×H1)とし、乾燥剤層210の体積をV2(=M1×M2×H2)とした場合に、0<V2/V1≦0.8の関係が成立するように、ポケット部201及び乾燥剤層210を形成する。 (もっと読む)


【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽12を用いて、透明基材フィルム18の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム1に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽12内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽12内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム18に接触させる。前記真空槽12内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽12の真空引きとは別に設けた真空ポンプ19により実現する。 (もっと読む)


【課題】差圧調節により有機電界発光表示装置のニュートンリングを防止できる有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】差圧調節により有機電界発光表示装置のニュートンリングが防止できるようにした有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。本発明の有機電界発光表示装置は、少なくとも一つの有機電界発光素子が形成された画素領域と非画素領域よを含む第1基板と、前記第1基板の画素領域を含む一領域上に合着される第2基板と、前記第1基板の非画素領域と前記第2基板との間に形成されるフリットと、を備え、前記第1基板及び前記第2基板のうち少なくとも一つの基板が外側に膨らんだ形状に形成される。 (もっと読む)


【課題】液状組成物を電気光学装置用基板上に吐出した後、乾燥させて画素構成要素を形成する場合でも画素構成要素を一定の膜厚で効率よく形成でき、かつ、液状組成物の組成に対する制約のない電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス装置の製造工程において、液状組成物を基板120上に吐出した後、液状膜Faを乾燥させて、正孔輸送層113aや発光層などの画素構成要素を形成するにあたって、吐出工程の後、乾燥工程の前に冷却工程を行って、乾燥工程では、基板120に向けて吐出する際の液状組成物の第1の温度より低くて液状組成物の凝固点よりも高い第2の温度まで液状膜Faを冷却した状態で減圧乾燥を行う。 (もっと読む)


【課題】低電圧で発光し、両面の輝度を独立に制御し、両面の画像を独立に表示することを特徴とする発光装置を提供する。また、上記の発光装置の製造に関して、EL層を大気に曝さずにITO電極を成膜する方法、封止缶や乾燥剤を使用しないで封止する方法を提供する。
【解決手段】絶縁表面上に透光性の電極及び非透光性の電極を形成し、前記透光性の電極の端部及び前記非透光性の電極の端部を覆うように有機樹脂膜を形成し、前記有機樹脂膜、前記透光性の電極、及び前記非透光性の電極上にエレクトロルミネセンス材料を含む層を形成し、前記エレクトロルミネセンス材料を含む層上に透明電極を形成し、前記透光性の電極の上方に、前記透明電極に接するように反射電極を形成する。 (もっと読む)


本発明は、気化物質を母材に蒸着する方法、特に、半導体物質をドープするための方法に関する。上記方法によると、一定量の気化物質(2)の電荷がエンベロープ(3)を用いて気密的に密封されている気化電荷(vaporizing charge)(1)が、気化チャンバーに導入される。そして、気化物質が、その後気化チャンバー中で気化し、母材に蒸着されるように、エンベロープ(3)は加熱及び/または減圧により開けられる。本発明は、さらに、上述の気化電荷(1)の製造方法および気化電荷(1)に関する。
(もっと読む)


201 - 220 / 227