【課題】特定の化学処理プラントの安全を確保する方法。
【解決手段】特定の化学処理プラントでの特定の化学処理のための複数組の処理条件案のそれぞれについて、前記特定の化学処理で使用される少なくとも１つの材料の意図的に含まれた発火の後の圧力上昇率を測定する。前記化学処理プラントにおける前記特定の化学反応の安全操業を可能とする特定の圧力上昇率は、前記複数組の処理条件案に対応する最終的圧力上昇率から選択することができる。前記特定の化学処理は、選択した圧力上昇率に対応する前記複数組の処理条件のうちの特定の一組の処理条件を使用しながら、前記特定の化学処理プラントで実施することができる。補足として、前記特定の化学反応は、製品収率又は原料活用などの補助パラメータごとに、引き続き及び追加的に最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】銀系触媒、減速材及び補助減速材と併せてエチレンと酸素を用い、酸化エチレンを形成するエチレン酸化制御方法である。
【解決手段】エチレン酸化を制御する際、触媒活性及び触媒選択性などの触媒特性を最適化すべく、減速材濃度を比較的狭い有効濃度範囲内で一定に保ち、補助減速材濃度を比較的広い有効濃度範囲内で変化させる。 （もっと読む）

本発明は、迅速で安全な方法にてＨＯＦ．ＲＣＮを生成し、ＨＯＦ．ＲＣＮを用いて有機基質を酸化させる方法に関する。方法は、導管（１２）を通して希釈フッ素を、また、別の導管（１６）を通して水中ＲＣＮをマイクロ反応器（１５）内に通し、ＨＯＦ．ＲＣＮを形成するステップおよびこのＨＯＦ．ＲＣＮを有機基質（２ａ）と反応させるステップを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、出口における酸化オレフィンの濃度が約２．２体積％より大きい、エポキシ化触媒を用いたオレフィンのエポキシ化工程である。
【解決手段】特に、本発明は、少なくともエチレンと酸素を含む供給物と改善されたエポキシ化用媒体を接触させることによるエチレンのエポキシ化工程に関する。高生産性でエポキシ化工程における選択性が改善されている触媒は、直径約０．０１ミクロンから約５ミクロンの範囲の細孔を有し、微分細孔容積のピークが約０．０１ミクロンから約５ミクロン範囲である第１の細孔の形態を有する表面を有する固形支持体を含む。表面は、第１の細孔の形態を有するとは異なる、直径約１ミクロンから約２０ミクロンの範囲の細孔を有し、微分細孔容積のピークが約１ミクロンから約２０ミクロンの範囲である第２の細孔の形態を有する。二峰性の細孔表面には、触媒作用に効果的な量の銀又は銀含有化合物、促進量のレニウム又はレニウム含有化合物、及び促進量の１つ以上のアルカリ金属又はアルカリ金属含有化合物がある。 （もっと読む）

【課題】不活性な耐熱性固体担体からなるオレフィンのエポキシ化に有用な触媒用の担体を提供する。
【解決手段】担体は、１ミクロン未満の小さな細孔と、５ミクロンを超える大きな細孔による絶対容積が皆無か少量である。「１ミクロン未満の小さな細孔による絶対容積が皆無か少量」により、そのような細孔の細孔容積が０．２０ｍｌ／ｇ未満であることを意味する。「５ミクロンを超える大きな細孔による絶対容積が皆無か少量」により、そのような細孔の細孔容積が０．２０ｍｌ／ｇ未満であることを意味する。本発明は、そのような担体に支持されたオレフィンのエポキシ化に有用な触媒と、オレフィン、特にエチレンを、酸化オレフィン、特に酸化エチレンへ酸化する工程を更に提供する。 （もっと読む）

【解決手段】脂環式エポキシ基とビニルエーテル基との両方を含有する新規なカルボン酸エステル、その製造方法、これを含有する重合性組成物、およびこれを硬化させて得られる硬化物。
【効果】本発明の脂環式エポキシ基とビニルエーテル基を含有するカルボン酸エステルは、低臭気性、低皮膚刺激性であり、これを含有する重合性組成物は、コーティング剤、インキ、塗料、接着剤、レジスト、製版材、絶縁材、光学材料などの種々の分野で極めて有用である。この重合性組成物は、硬化収縮率が小さく、カチオン重合開始剤、特に光カチオン重合開始剤を含有する本発明の重合性組成物は硬化時に酸素による重合阻害がほとんど無いという特徴を示す。また、低粘度であるため、希釈性、加工性にも優れる。 （もっと読む）

本発明は、オレフィンオキシドを調製するためのエポキシ化反応器システムであって、銅および亜鉛を含有する吸収材を収容する１つ以上の精製容器を含む１つ以上の精製区域；並びに、エポキシ化触媒を収容する１つ以上の反応容器を含む反応区域であって、１つ以上の精製区域の下流に位置する反応区域を含むシステム；オレフィンの調製方法；並びに１，２−ジオール、１，２−ジオールエーテル、１，２−カーボネートおよびアルカノールアミンの調製方法を提供する。
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【課題】温和な条件下、エポキシ化反応にハロゲン化合物を全く使用せず、ジオレフィン類と過酸化水素水溶液の速やかな反応による安全で容易なジエポキシ化合物の新規製造法を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有するジオレフィンジエステル化合物を酸化剤として過酸化水素水溶液を使用するとともに触媒としてタングステン化合物および硫酸水素第４級アンモニウムを使用してオレフィンの２ヶ所共にエポキシ化を行うジエポキシ化合物の製造法を用いる。 （もっと読む）

反応槽と、反応槽内部に位置する吸収剤と、吸収剤より下流に位置する触媒とを含む反応器システム；供給物を反応させるプロセス並びに１，２−ジオール、１，２−ジオールエーテル、１，２−カルボナート、またはアルカノールアミンを調製するプロセス。
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【課題】外部熱源を用いた場合に対し、エポキシ化反応器の最大到達温度を超えた、エポキシ化プロセスの制御された開始温度を達成する方法。
【解決手段】
本発明の方法は、反応器の温度を高選択性触媒の調整に適した温度とする反応器内の酸化反応を使用する。本発明の方法は、反応器の設計制限内にとどまり設計割合の２５から１００％の間の反応器へのガス流量を維持している間、高選択性触媒を含む反応器を、反応器の外部熱源を用いた第１温度とする工程を含む。反応器が第１温度に到達すると、少なくともオレフィン、例えばエチレン、その上酸素が反応器の供給ガスへ導入される。オレフィン及び酸素の濃度は、反応器のガス流量が設計の１００％へ上昇することを許容する反応器熱を有するように、その上、反応器温度を第１温度より高く且つ外部熱源により到達可能な反応器の温度より高い第２温度へ上昇させるのに十分な反応器熱を有するように調整される。 （もっと読む）

担体ならびに、担体上に付着させられた、銀、レニウム助触媒、第１の共助触媒および第２の共助触媒を含み、第１の共助触媒対第２の共助触媒のモル比は１より大きく、第１の共助触媒はイオウ、リン、ホウ素およびこれらの混合物から選択され、第２の共助触媒はタングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの混合物から選択される、オレフィンのエポキシ化のための触媒、この触媒を調製する方法、オレフィンおよび酸素を含む供給原料を触媒の存在下で反応させることによる酸化オレフィンを調製する方法、ならびに１，２−ジオール、１，２−ジオールエーテル、１，２−カーボネートまたはアルカノールアミンを調製する方法。 （もっと読む）

担体ならびに担体上に付着させられた銀、レニウム助触媒、第１の共助触媒および第２の共助触媒を含み、担体上に付着させられたレニウム助触媒の量は触媒の重量に対して１ミリモル／ｋｇより多く、第１の共助触媒はイオウ、リン、ホウ素およびこれらの混合物から選択され、第２の共助触媒はタングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの混合物から選択され、担体上に付着させられた第１の共助触媒および第２の共助触媒の合計量は触媒の重量に対して最大で３．８ミリモル／ｋｇである、オレフィンのエポキシ化のための触媒；この触媒を調製する方法；オレフィンおよび酸素を含む供給原料をこの触媒の存在下で反応させることによる酸化オレフィンを調製するための方法；ならびに１，２−ジオール、１，２−ジオールエーテル、１，２−カーボネートまたはアルカノールアミンを調製するための方法。
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オレフィン、酸素および二酸化炭素を含む反応器供給原料を、担体ならびに担体上に付着させられた銀、レニウム助触媒、第１の共助触媒および第２の共助触媒を含む触媒と接触させることを含み、二酸化炭素は反応器供給原料中に全エポキシ化反応器供給原料に対して最大で３モルパーセントの量で存在し、第１の共助触媒はイオウ、リン、ホウ素およびこれらの混合物から選択され、第２の共助触媒はタングステン、モリブデン、クロムおよびこれらの混合物から選択される、オレフィンのエポキシ化の方法、１，２−ジオール、１，２−ジオールエーテル、１，２−カーボネートまたはアルカノールアミンを調製する方法。 （もっと読む）

【課題】新たな(±)-DHMEQの光学分割法および(-)-DHMEQの製造方法を提供する。
【解決手段】(-)-DHMEQは、一般式(III)で表される化合物にBurkholderia cepacia由来のリパーゼを作用させて製造することができる。また、一般式(Ｉ)の化合物にBurkholderia cepacia由来のリパーゼを作用させた後、分別結晶法等により一般式(Ｉ)の化合物から一般式(III)の化合物を分離精製後、Burkholderia cepacia由来のリパーゼを作用させ、(±)-DHMEQを光学分割することができる。
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【課題】光学活性エポキシ化合物の工業的に有用な製造方法の提供。
【解決手段】光学活性チタンサレン錯体触媒及び光学活性チタンサラン触媒の存在下で、不飽和化合物を酸化剤（特に過酸化水素）によりエポキシ化するに当り、反応系中に緩衝剤又は緩衝液を添加する。これにより従来技術よりも、触媒の分解が抑制できること、触媒使用量が軽減できること、および副生成物を抑制できること等の利点がもたらされ、高い化学収率、光学純度で品質の良い光学活性エポキシ化合物を製造することができる。不飽和化合物としては、例えばインデン、２，２−ジメチルベンゾピラン、スチレン等が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 光学活性エポキシ化合物の製造方法、並びに該方法に用いる錯体及びその製造方法の提供。
【解決手段】式（１）及び式（１’）


で表される光学活性チタンサラン錯体を触媒として使用し、分子中に炭素−炭素二重結合を有するプロキラルな化合物を不斉エポキシ化反応させる光学活性エポキシ化合物の製造方法、並びに該方法に用いる錯体及びその製造方法。 （もっと読む）

プロピレン、酸素及び水素の反応、又はプロピレン及び過酸化水素の反応から得られる反応混合物中のプロピレンオキサイド生成物を、メタノール及び／又は水の抽出蒸留溶媒を用いる抽出蒸留により、プロピレン及び／又はプロパンから分離する。
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【課題】湿式法により容易に製膜が可能であり、フラーレン本来の性質を損なうことなく保持できる、フラーレン誘導体を原料とするフラーレン膜およびフラーレン重合体ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】フラーレンの熱分解温度よりも低い温度で分解する、例えば下式で表されるフラーレン誘導体の溶液を基材上に塗布して得られる塗布膜を、フラーレン誘導体の熱分解温度よりも高く、フラーレンの熱分解温度よりも低い温度で加熱する。
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本発明はエチレンオキシドおよび場合によってエチレングリコールの製造のための方法を提供する。ｐＨを５．５から９．５の範囲内に維持するために、エチレンオキシド吸収装置のクエンチ部の下流の１つまたは複数の位置において塩基が加えられる。これはエチレンオキシドおよびエチレングリコールプラントにおける腐食を軽減する。 （もっと読む）

【課題】反応性原料或いは各種機能性化合物の中間原料として用いることのできる脂環式カルボン酸を提供すること。
【解決手段】テトラシクロドデセンカルボン酸類を直接原料とし、溶媒中、その不飽和基を有機過酸等の酸化剤で酸化して得られる一般式（１）で表されるエポキシテトラシクロドデカンカルボン酸類、及び該化合物の製造方法。


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_３は各々独立して炭素原子数１〜６のアルキル基または水素原子を示す。） （もっと読む）