【課題】微細加工技術に適した化学増幅型レジスト材料のベース樹脂用高分子化合物の単量体として有用な新規エステル化合物及びその製造方法、該エステル化合物を単量体として含有する高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料の提供。
【解決手段】下式で代表される４種類の重合性エステル化合物及びその製造方法、該エステル化合物を単量体として含有する高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂として含有するレジスト材料。


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【課題】 分子内に少なくとも１つの炭素−炭素二重結合と少なくとも１つのカルボキシル基又はアルコキシカルボニル基を有する化合物から、分子内に２以上のヒドロキシル基を有するポリオールを、簡易に、しかも生産効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】 本発明のポリオールの製造法は、分子内に少なくとも１つの炭素−炭素二重結合と少なくとも１つのＣＯＯＲ基（Ｒは、水素原子又はアルキル基を示す）とを有する化合物（Ａ）を、下記式（１）
ＭＢＨ₄ （１）
（式中、ＭはＮａ、Ｋ又はＬｉを示す）で表される水素化ホウ素錯化合物（Ｂ）及び該水素化ホウ素錯化合物からボランを発生可能な反応剤（Ｃ）と反応させ、次いで酸化処理を施すことにより、分子内に少なくとも２つのヒドロキシル基を有する化合物を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有毒な試薬を用いず、導電性ポリマーを形成できるモノマーの提供。
【解決手段】下記に示す式の化合物の製法の開示。


ＺはＳｅ又はＳ；ＹはＮＨ又はＯ；ＸはＯ又はＳ、Ｗ及びＷ’は水素、−Ｃ＝ＯＮＨ₂、−Ｃ＝ＯＮＨＲ’−Ｃ＝ＯＮＲ’Ｒ’、−Ｃ≡Ｎから選択され、Ｒ’はＣ_1〜6アルキル。 （もっと読む）

【課題】十分な電荷輸送性を発揮し得るとともに、溶媒に対する優れた溶解性を有する縮合環化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される縮合環化合物。


［式中、Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基等を示す。ただし、Ｒ^１１及びＲ^１２の少なくとも一方は水素原子ではない。Ｒ^１３及びＲ^１４は、それぞれ独立に１価の基を示し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数である。Ｙ^１１及びＹ^１２は、それぞれ独立に硫黄原子等である。］ （もっと読む）

【課題】ポリマー原料および架橋剤（またはその原料）として有用な新規なスピロ環状アセタール類およびそれらの製造方法を提供する。また、スピロ環状アセタール骨格を繰り返し単位に含む新規なポリマーを提供する。
【解決手段】固体酸触媒の存在下、下記一般式（Ｉ）で表される化合物とペンタエリスリトールとを脱水縮合させて、下記一般式（ＩＩ）で表されるスピロ環状アセタール化合物を製造する。下記一般式（ＩＩ）で表わされるスピロ環状アセタール化合物を用いて下記一般式（ＩＩＩ）で表わされる繰り返し単位を有するポリマーを製造する。




（式中、Ｒ^１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｑは水素原子又はアシル基を表し、Ｌは少なくとも１つの炭素原子を含む２価の連結基を表し、ｎは０または１を表す。） （もっと読む）

【課題】分子設計の自由度が高く、不必要な副反応化合物を簡単に取り除き、高収率、省エネルギーで且つ容易に導電性高分子原料となるチオフェン化合物単量体を製造する方法を提供する。
【解決手段】３，４−ジアルコキシチオフェンと、ジオール化合物またはジチオール化合物またはチオール基および水酸基を有する化合物と、アルコール除去剤とを含んでなる混合物を脱アルコール反応させることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（式中、Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基を示す。Ｒ¹は構成炭素上の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示す。ＷはＣＨ₂、酸素原子、硫黄原子のいずれかを示す。）
【効果】本発明のラクトン含有化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射線レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、高解像性かつ液侵媒体である水への溶出及び水の浸入を抑制し、この高分子化合物がレジスト材料として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】高いらせんねじれ力を有するキラル剤、該キラル剤を含有する組成物、該組成物を用いて得られる１層で広い選択反射帯域を持つコレステリック規則性を持つ樹脂、該樹脂の層を有する光学素子、および該光学素子を備え且つ斜めからの観察によっても表示に着色がない液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 ２価のキラル基と、該キラル基の２つの結合手にそれぞれ結合する１価の基Ｄと１価の基Ｅとからなり、該１価の基Ｄと該１価の基Ｅは同じ構造の環を同数有し、且つ以下の（Ｉ）または（ＩＩ）を満たす、キラル剤。
（Ｉ）該１価の基Ｄ及び該１価の基Ｅの、一方は炭素鎖を有し、もう一方は炭素鎖を有しない。
（ＩＩ）該１価の基Ｄ及び該１価の基Ｅの両方が炭素鎖を有し、且つ、該１価の基Ｄの炭素鎖の炭素数と該１価の基Ｅの炭素鎖の炭素数とが異なる。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）の重合による、繰り返し単位（２）を含むレジスト材料。


（Ｒ¹はＦ、又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ²はＨ、又はアルキル基。Ｒ³はＯ、又はアルキレン基。Ｒ⁴及びＲ⁵はＨ、又はアルキル基又はフッ素化されたアルキル基。Ｒ⁶はＨ又は酸不安定基。）
【効果】レジスト材料は、ＡｒＦ露光において優れた解像性と透明性、エッチング耐性を有し、ＡｒＦ液浸リソグラフィーでも高い性能を発揮する。 （もっと読む）

【課題】従来のテトラカルボン酸二無水物を原料とする配向膜を用いた液晶表示素子は、電圧保持率が低下しやすい、残像が発生し易い、ラビング時の押込み強度や加熱時の温度の影響によりプレチルト角が変化し易いなどの問題点があり、また従来のテトラカルボン酸二無水物には製造時に特別な装置が必要であるものもあった。本発明はこれらの問題点を考慮して、電圧保持率および残留ＤＣの問題が改善された液晶表示素子用の液晶配向剤を得ることができ、しかも容易に合成できる新規なテトラカルボン酸二無水物の提供を目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表されるテトラカルボン酸二無水物。式（Ｉ）において、ｐおよびｑは独立して０または１であり、これらの合計は１または２である。

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【課題】安価な原料から煩雑な操作を用いずに製造することが可能で、その重合により優れた性能（耐薬品性、耐候性、撥水・撥油性、低分子間相互作用性、低屈折率性、高光透過性等の性能）を示すポリマーを与える新規な２官能の含フッ素スピロ環状アセタール化合物を提供する。また、この２官能の含フッ素スピロ環状アセタール化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される含フッ素スピロ環状アセタール化合物ならびにその製造方法。
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本明細書の開示は、グリセロール並びにレブリン酸及びエステル類からのケタール化合物の調製と、それらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】ＫｒＦ等のエキシマレーザー光、極端紫外線（ＥＵＶ）、電子線、Ｘ線等の放射線に感応するレジスト材料用基材及び感放射線性組成物を提供することにある。本発明の他の目的は、金属触媒を使用することなくかつ簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造を有するポリフェノール系有機化合物を含むレジスト材料用基材、ならびに、該基材および酸発生剤を含む感放射線性組成物。
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【課題】キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物、導電性材料、導電層、電子デバイスおよび電子機器を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される化合物と、その架橋剤としてのビニル化合物とを含有する。


［Ｘ^１〜Ｘ^４は特定の置換基を表し、８つのＲは水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｙは複素環を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】新規な、フルオロスルホニル基を有するノルボルネン類、および該ノルボルネン類の製造方法を提供する。
【解決手段】下式（ａ）で表される化合物、および下式（ｃ）で表される化合物と下式（ｂ）で表される化合物をＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応させる下式（ａ）で表される化合物の製造方法（ただし、Ｘはメチレン基、モノメチルメチレン基、ジメチルメチレン基、酸素原子または硫黄原子を、Ｑ^Ｆは炭素数１〜２０の２価の含フッ素有機基を、ｋは０、１または２を、示す。）。
【化１】
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【課題】
合成が容易で、重合時の体積収縮に起因する問題が少ない樹脂を製造することができるスピロオルソエステル、ジスピロオルソエステル、それらの合成法、及びそれらの重合物を提供すること。
【解決手段】
スピロオルソエステル、ジスピロオルソエステル、それらの合成法、及びそれらの重合物。 （もっと読む）

【課題】芳香族ジカルボン酸や芳香族トリカルボン酸のモノ無水物やピロメリット酸モノ無水物等のモノ無水物の含量が少なく、反応器、移送容器および配管などの閉塞をおこさない粒子性状をもち、着色が少ないピロメリット酸二無水物を安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】無水酢酸不存在下で粗ピロメリット酸を加熱脱水してピロメリット酸の５０．０〜９９．５重量％をピロメリット酸二無水物に変換し、少なくともピロメリット酸とピロメリット酸二無水物を含む反応混合物を得る工程、および、該反応混合物を無水酢酸存在下で加熱無水化する工程を含むピロメリット酸二無水物の製造方法。
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【課題】 １，３：２，４−ビス−Ｏ−（ｐ−メチルベンジリデン）−Ｄ−ソルビトール等のジアセタールを含有するポリオレフィン樹脂組成物を成形加工する際のアルデヒド類の発生量及び成形体中のアルデヒド類の含有量を大幅に抑制すると共に、ジアセタールから発生する臭気及び味の移行性を抑制する。
【解決手段】 (A)１，３：２，４−ビス−Ｏ−（ｐ−メチルベンジリデン）−Ｄ−ソルビトール等のジアセタール及び(B)ソルビタンC₈-C₂₂脂肪酸エステル及びポリオキシエチレンソルビタンC₈-C₂₂脂肪酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも１種からなるジアセタール組成物をポリオレフィン用核剤として用いることにより、得られるポリオレフィン樹脂組成物及びそれを成形して得られる成形体中のアルデヒド類の含有量を抑制し、臭気及び味の移行性を抑制する。 （もっと読む）

【課題】部分的又は完全にフッ素化されたアルキル置換チエノチオフェンモノマー（及びそれらのポリマー）を提供する。
【解決手段】該モノマーは、次の式によって表される。


式中、Ｒはアルキル基であり；Ｘ及びＸ’はＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＭｇＣｌ、ＭｇＢｒ、ＭｇＩ、Ｓｎ（Ｒ’）₃、
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【課題】紫外線領域に吸収がなく、光透過性が高く、さらに溶媒溶解性が改善された液晶配向膜や光通信用光導波路等の光学材料用ポリイミドの原料モノマーとなり得る脂環式テトラカルボン酸二無水物およびその製造法を提供することを課題とする。
【解決手段】式［１］
【化１】


（式中、Ｒは炭素数２〜１０のアルキル基を表す。）
で表されるジアルキルシクロブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸−１，２：３，４−二無水化合物。 （もっと読む）