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Fターム[4D002BA07]の内容

廃ガス処理 (43,622) | 単位操作 (6,955) | 放電 (227)

Fターム[4D002BA07]に分類される特許

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【課題】中心電極と筒状電極間に生じる残留電荷を、簡単な構成で減少させることにより、排気ガスの脱臭処理効率を向上できる高電圧パルス放電型脱臭装置を提供する。
【解決手段】高電圧パルス放電部は、棒状の中心電極1と接地する筒状電極2からなっており、筒状電極1は内部に中心電極2を同軸に配置している。交流電源に連なる高電圧パルス電源20を給電線30により中心電極と接続し、パルスストリーマ放電を発生させる両電極1、2間に、処理対象の排気ガスを流して処理する。給電線30には、一端を接続する補助抵抗31を設けており、この補助抵抗31の他端を接地している。 (もっと読む)


【課題】排気ガスの脱臭効率を向上できる高電圧パルス放電型大容量脱臭装置を提供する。
【解決手段】接地する筒状電極12、22内に棒状の中心電極11、21を同軸に配置し、処理対象の排気ガスを両電極間11、21や21、22の流路に流して脱臭処理する。これら両電極11、21や21、22の複数本を並置し、かつ独立した高電圧パルス電源回路31や32をそれぞれ有する第1放電ユニット10及び第2放電ユニット20を構成する。第1放電ユニット10と第2放電ユニット20とは、排気ガスの供給側から排出側に順に配置している。第1放電ユニット10の筒状電極12は、その直径D1を、第2放電ユニット20の筒状電極22の直径D2より大きくしている。しかも、第1放電ユニット10と第2放電ユニット20との間は、電気的に絶縁可能な接続ダクト40により連結している。 (もっと読む)


【課題】 動物飼育施設、下水処理場施設、ごみ処理施設、魚肉類保管施設などの処理施設から発生する臭気ガスを放電極の放電によって発生するプラズマ中に通過させることで、臭気成分に直接電子を作用し臭気成分を直接分解すると共にプラズマで生成されたラジカルによっても臭気成分を直接分解して脱臭するようにした脱臭装置に於いては、比較的濃度の高い複合臭に対して十分な脱臭効果は期待できなかった。そこで本発明はこれらの要求を十分満足したものを提供しょうとしたものである。
【解決手段】 吸込み口と吹出し口を形成したハウジング内にプラズマを発生する放電極と放電極の下流側に吸着フィルタを配置して設け放電極で酸化分解されなかった残り臭気成分を吸着除去するようにすると共に放電極の汚れを洗浄して再生する洗浄ノズルを配置したことを特徴としたものである。 (もっと読む)


【課題】エネルギの消費量を著しく増大させたり、処理の絶対量を低下させることなく、簡易な方法及び構造で、プラズマによって行う排ガスの処理効率を向上することができるようにした排ガス処理装置における磁場によるプラズマの制御方法及びそれを用いた排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】反応管1内に導入した排ガスを、反応管1内に発生させたプラズマにより分解し処理する排ガス処理装置において、反応管1内に磁場を発生させることにより、反応管1内に発生したプラズマの状態を制御する。 (もっと読む)


【課題】現場に設置する際、現場の設備の上流/下流の方向を意識する必要をなくす。
【解決手段】風向センサ13を設け、この風向センサ13が検出する処理対象ガスGSの流れ方向を示す信号S1を制御部12へ送る。制御部12は、風向センサ13によって検出される処理対象ガスGSの流れ方向に基づいて、上流側に位置するハニカム構造体群2Aよりも下流側に位置するハニカム構造体群2Bに印加される高電圧の値を高くするように、高電圧源11からの高電圧V1,V2の出力状況を制御する。 (もっと読む)


【課題】大容量の高電圧電源を用いることなく、高いガス処理能力を得る。
【解決手段】高電圧印加手段20を設ける。ハニカム構造体4の第1の電極8を高電圧印加手段20の正電圧供給端子T1に接続する。ハニカム構造体4の第2の電極9を高電圧印加手段20の負電圧供給端子T2に接続する。制御部CNTよりスイッチング用集積回路IC1,IC2に対して駆動パルスPS1,PS2を出力し、第1の電極8に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧+V1を、第2の電極9に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−V2を、交互に切り換えて印加する。この際、駆動パルスPS1のオンタイミングに対して駆動パルスPS2のオンタイミングをTC時間遅延させることにより、この遅延時間TCの間、第1の電極8と第2の電極9との間に、正電圧+V1と負電圧−V2との差電圧V1+V2(高電圧)を印加させる。 (もっと読む)


【課題】ガス流対向面の表面積を大とし、更なるガス処理能力の向上を図る。
【解決手段】各ハニカム構造体4に角穴4dを複数設ける。これにより、各ハニカム構造体4の処理対象ガスGSの通過方向に面する上流側の面(最上流の面)4b1、各ハニカム構造体4の処理対象ガスGSの通過方向に面する角穴4dの下流側の面4b2では、プラズマが発生せず、処理対象ガスGSの流れに接すると共に、処理対象ガスGSの通過方向への流体圧を受けることから、この面4b1,4b2がガス流対向面となって、処理対象ガスGS中の水分がハニカム構造体4内に入り込み、ハニカム構造体4でのプラズマ発生を活性化させる。 (もっと読む)


【課題】異常放電の発生を抑えつつ、処理対象ガスの処理を継続し、未処理のガスが残らないようにする。
【解決手段】高電圧印加部20を設ける。ハニカム構造体4の第1の電極8を高電圧印加部20の正電圧供給端子T1に接続する。ハニカム構造体4の第2の電極9を高電圧印加部20の負電圧供給端子T2に接続する。制御部CNTよりスイッチング用集積回路IC1,IC2に対して駆動パルスPS1,PS2を出力し、第1の電極8に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧+V1を、第2の電極9に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−V2を、交互に切り換えて印加する。異常放電検知部21を設け、第1の電極8と第2の電極9との間の異常放電の発生を検知した場合、その異常放電の発生量に応じて、第1の電極8と第2の電極9への高電圧の休止期間を自動調整する。 (もっと読む)


【課題】排ガスの浄化システムに利用した場合に、その浄化システムをできるだけ小型化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】 本発明の放電装置は、第1誘電性部材と、空間を介して第1誘電性部材に対向する第2誘電性部材と、第1誘電性部材の内部又は表面に設けられ、交流電位に応じて空間にプラズマを発生させ、直流電位に応じて空間に電界を生じさせる第1電極群と、第2誘電性部材の内部又は表面に設けられ、交流電位に応じて空間にプラズマを発生させ、直流電位に応じて空間に電界を生じさせる第2電極群と、第1電極群および第2電極群の一方に交流電位を供給し、第1電極群および第2電極群の他方に直流電位を供給し、第1電極群と第2電極群との間で交流電位と直流電位とを切り換える切換部とを有する。 (もっと読む)


加工システム内で廃物を処理する方法及び装置を開示する。いくつかの実施形態では、廃物を処理するためのシステムが、加工容量を有するプロセスチャンバと、プロセスチャンバに結合されて加工容量から廃物を除去する排出管と、排出管に結合され、排出管に反応種を注入して廃物を処理する反応種生成器とを含み、反応種生成器が、一重項水素、水素イオン又は水素ラジカルのうちの少なくとも1つを含む反応種を生成する。いくつかの実施形態では、廃物を処理する方法が、加工システムの加工容量からの廃物を、加工容量に流体結合した排出管を通じて流すステップと、排出管内の廃物を、一重項水素、水素イオン又は水素ラジカルのうちの少なくとも1つを含む反応種で処理するステップと、処理した廃物を除害システムに流すステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】 低い電圧でプラズマを発生させることができ、プラズマによる表面電極の侵食が抑制された沿面放電型のプラズマ発生体およびプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、セラミックスからなる絶縁基板1と、絶縁基板1の一方主面に設けられた第一電極21と、絶縁基板1の内部または他方主面に設けられ、第一電極21の少なくとも一部と対向している対向領域および絶縁基板1の一方主面に垂直な方向から見たときに第一電極21の外側に延出している延出領域を有する第二電極22とを備えた沿面放電型のプラズマ発生体であって、第二電極22に対向する第一電極21の周縁部が多数の孔41を有するセラミック被膜4で覆われている。 (もっと読む)


【課題】 排ガスに含まれているNOxを安価に効率よく分解できる方法を提供する。
【解決手段】 上記課題は、窒素ガスを主成分とし、NOxを含む大気圧の排ガスに電子線を照射してNOxを還元分解することを特徴とする排ガス処理方法によって解決される。 (もっと読む)


【課題】 低い電圧でプラズマを発生させることができ、プラズマによる表面電極の侵食が抑制された沿面放電型のプラズマ発生体およびプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、セラミックスからなる絶縁基板1と、絶縁基板1の一方主面に設けられた第一電極21と、絶縁基板1の内部または他方主面に設けられ、第一電極21の少なくとも一部と対向している対向領域および絶縁基板1の一方主面に垂直な方向から見たときに第一電極21の外側に延出している延出領域からなる第二電極22とを備えた沿面放電型のプラズマ発生体であって、絶縁基板1の一方主面に垂直な方向から見たときに、第二電極22の内側に位置する第一電極21の周縁部がセラミック被膜4で覆われているとともに、セラミック被膜4とセラミック被膜4から露出する第一電極21との境界が連続する凹凸形状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】大容量の高電圧電源を不要としコストダウンを図る。
【解決手段】
高電圧印加手段20を設ける。ハニカム構造体4の第1の電極8を高電圧印加手段20の正電圧供給端子T1に接続する。ハニカム構造体4の第2の電極9を高電圧印加手段20の負電圧供給端子T2に接続する。高電圧印加手段20のトランジスタQ1,Q2のベースに駆動パルスPSを与え、第1の電極8に接地電位から正方向に立ち上がる正電圧+V1を、第2の電極9に接地電位から負方向に立ち下がる負電圧−V2を、交互に切り換えて印加する。これにより、第1の電極8と第2の電極9との間に、正電圧+V1と負電圧−V2との差電圧V1+V2(高電圧)が周期的に印加されるものとなり、大容量の高電圧電源が不要となる。 (もっと読む)


【課題】ラジカル発生器の電極間で間欠的にストリーマコロナ放電させ、原料ガスから生成するラジカルにて排気ガスを効果的に脱臭でき、しかも簡単な構成で経済的に製作できる方法及び装置を提供する。
【解決手段】交流電源1と接続する高電圧パルス電源2を、原料ガスからラジカルを生成するラジカル発生器3と接続している。高電圧パルス電源2内のスイッチング回路2bの動作を制御するために、間欠パルス発生部5を備える制御回路4を設けている。制御回路4の制御で、スイッチング回路2bの動作により、高電圧パルス電源2からラジカル発生器3の電極間に供給する高電圧出力を、高繰り返しパルスの発生とパルスの休止がある間欠高電圧パルス出力にする。これにより、ラジカル発生器3の電極間にストリーマコロナ放電させて間欠的にラジカルを生成し、パルスの休止時間で生成ラジカルによる酸化反応行わせ、排気ガスの脱臭効率を上げる。 (もっと読む)


排出物の削減に関するシステム及び方法を提供する。本発明の態様は、削減システムを高レベル設定で起動するステップと、望ましくない物質を含む排出物を削減システムにおいて受け取るステップと、削減システムを高レベル設定で使用して望ましくない物質を削減するステップと、排出物に関する情報を受け取るステップと、情報を分析して最適な設定を決定するステップと、高レベル設定を最適な設定に調整するステップと、より多くの望ましくない物質を含むより多くの排出物を受け取って、その後これを減衰させることができるステップとを含むことができる。最適な設定は、選択する設定効率に対応する。他にも数多くの態様を提供する。 (もっと読む)


【課題】フッ素化合物の熱分解時における反応器の内部の減肉を極小化して長期間連続して使用することのできるガス処理装置を提供する。
【解決手段】フッ素化合物を含んだ処理対象ガスFを囲繞し、その内部における高温の熱分解領域Rにて処理対象ガスFの熱分解を行う反応器24を備えるガス処理装置10において、熱分解領域Rに面する反応器24の内面に、酸化マグネシウム、酸化バリウムおよび酸化セリウムから選択された1種類以上の物質からなる耐火材を用いることにより、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


ガス洗浄装置及びガス洗浄方法が提供される。本発明によるガス洗浄装置は、 反応ガスが流入される反応管と、反応管と連結され、流入された反応ガスをプラズマ化させる反応器と、反応器内のプラズマに水を注入するための水注入部とを備え、別途のヒーターを使用せず、プラズマの熱源を利用して水を蒸気化させるため、非常に経済的なガス洗浄が可能である。さらに、プラズマ化した反応ガスが排出される最適の領域で水を直接蒸気化させて反応ガスを洗浄するため、ガス洗浄の効率も向上する。
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【課題】 PFCガスのプラズマ分解処理において、排ガスに与えたエネルギーを有効利用する方法およびプラズマ分解処理で生成したガスの再結合を防止する方法を提供する。
【解決手段】 排ガス中のパーフルオロコンパウンドガス(PFCガス)を分解するためのプラズマ処理を用いて該排ガスの処理を行う際に、該プラズマ処理により生じるプラズマにより電磁流体発電を行うことによりエネルギー回収を図ることを特徴とする、パーフルオロコンパウンドガスを含有する排ガスの処理方法。 (もっと読む)


【課題】流体中に含まれる難分解性化合物を効率よく除去することが可能な処理技術を提供する。
【解決手段】難分解性化合物を含むPFCガス31が導入される処理槽19と、処理槽19内にナノバブル含有水を吐出するナノバブル含有水吐出部54と、処理槽19内のナノバブル含有水中にPFCガス31を含むマイクロナノバブルを発生させるマイクロナノバブル発生部79とを備える、難分解性化合物を含む流体を処理するための処理装置20を提供する。 (もっと読む)


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