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Fターム[4E068CC06]の内容

レーザ加工 (34,456) | 検知手段 (1,426) | 位置センサ (251)

Fターム[4E068CC06]に分類される特許

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【課題】 加工対象物の高精度な切断を可能にするレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】 本発明のレーザ加工方法では、板状の加工対象物1の内部に集光点Pを合わせてレーザ光Lを照射する。まず、加工対象物1の第1の切断予定ライン5aに沿って、切断の起点となる第1の改質領域71を形成する。次に、切断予定ライン5aと交差する第2の切断予定ライン5bに沿って、改質領域71の少なくとも一部と交差するように、切断の起点となる第2の改質領域72を形成する。次に、切断予定ライン5bに沿って、切断の起点となる第4の改質領域73を形成する。次に、改質領域71とレーザ光Lが入射する加工対象物1の入射面1aとの間に、切断予定ライン5aに沿って、改質領域73の少なくとも一部と交差するように、切断の起点となる第3の改質領域74を形成する。 (もっと読む)


【課題】加工対象物の表面の測定時点と加工時点とが同一でなくても、また前記加工対象物の表面に微細な塵埃が付着していても、レーザー(アニール)加工ができるレーザー加工装置を得ること。
【解決手段】本発明のレーザー加工装置1は、レーザー変位計3に所定の間隔を開けて追従するレーザ加工手段4を用い、レーザー変位計3で加工対象物Wであるアモルファスシリコン層Waの異なる表面の測定位置における高さを順次測定し、高さデーターを収集し、その収集した高さデーターを加工してレーザ加工手段4のレーザービームLbをアモルファスシリコン層Waの前記測定位置の表面にフォーカス或いはオフセットさせて、アモルファスシリコン層Waをアニールできるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 レーザ切断により遠隔かつ高能率で切断を行なえると共に2次生成物の発生量も少なくて済むレーザ切断方法及び装置並びに該装置を用いた解体方法を提供する。
【解決手段】 平行レーザビーム16が得られる切断ヘッド2をロボットアーム1に装着し、前記切断ヘッド2の高さ方向は同切断ヘッド2に付設したハイトセンサ8により制御すると共に、移動方向は前記ロボットアーム1に装備した監視部6からの加工部における視覚情報を元に、オペレータ5がコントローラ4によりロボットアーム1を遠隔操作することで制御する。 (もっと読む)


【課題】ノズルユニットがワークに衝突した際にノズルユニットの揺動を可能にして、ノズルユニットの破損を未然に防止するレーザ加工機における加工ヘッドを提供する。
【解決手段】集光レンズ20を収容したレンズホルダHの下端部にノズルユニット17を揺動可能に装着する。取付部材15の下端面と、ノズルユニット17の連結部材24の上面との間にコイルばね30を介在して、ノズルユニット17を常には正規位置に付勢保持する。前記ノズルユニット17の内部空間34にアシストガス発生装置37から供給パイプ38及びガス導入口39を介してアシストガスを供給する。前記供給パイプ38の途中に電磁開閉弁41を設け、距離センサ43によって前記ノズル23がワークWに異常に接近された場合に、前記電磁開閉弁41をドレンポートに切り換え、ノズルユニット17の内部空間34のアシストガスを排出しノズルユニット17の揺動を許容する。 (もっと読む)


【課題】 微細パターンの欠陥を短時間で修正することができ、装置価格が低く、装置設置面積が小さく、修正の品質が高い微細パターン修正装置を提供する。
【解決手段】 この微細パターン修正装置は、レーザビームを照射して黒欠陥を除去するレーザ装置1、欠陥を観察する観察光学系2、インクを塗布して色抜け欠陥を修正するインク塗布ユニット3、および突起欠陥を研磨して修正するテープ研磨ユニット5を含む修正ヘッド部6と、修正ヘッド部6を位置決めするXYZテーブル7〜9と、被修正ガラス基板10を搭載するガラス定盤11とを備える。したがって、1台の装置で色抜け欠陥、黒欠陥および突起欠陥を修正することができる。 (もっと読む)


【課題】 TFT−LCD、PDP、OLEDのようなディスプレイモジュールのガラス切断時、上・下板の同時切断または上板だけの切断など選択的な基板切断が可能な非金属材基板の切断装置及び切断方法を提供する。
【解決手段】本発明は、紫外線領域の短波長レーザービームを発生させるレーザービーム発生装置と、前記短波長レーザービームを、切断しようとする非金属材基板上の所望の位置に照射する照射具と、前記基板深さ方向へのレーザービームの焦点位置を可変させる焦点移動手段と、前記基板と前記レーザービームとが相対運動するようにして、前記基板の切断作業が行われるようにする相対物移動手段と、を備えてなることを特徴 (もっと読む)


超高速レーザ源を用いて、表面上に要素をレーザ加工するための近接場走査型光学顕微鏡(NSOM)レーザマイクロ加工システムおよび、そのような要素をレーザ加工する方法。システムは、1ns未満のパルス期間およびピーク波長を有するレーザ光パルスを生成する超高速レーザ源と、実質的に円柱形状を有するNSOMプローブと、NSOMプローブおよび加工されるマイクロ構造ワークピースを制御可能に保持なNSOMマウントと、NSOMプローブのプローブチップと表面との間の距離を決定するための、NSOMマウントに結合されたNSOMプローブモニタと、NSOMプローブモニタおよびNSOMマウント中の移送台に結合されたNSOM制御とを有する。NSOMマウントは、XY移送台およびZ移送台を有する。これらの移送台がNSOMプローブまたはマイクロ構造ワークピースに結合され、あるいは1つの移送台が各々に結合される。
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本発明は、レーザービームを制御して、様々な速度で動いている製品上にイメージ記号(例えば、コード/記号および文字の列)を印刷するための方法に関する。この方法は、グループ分類するステップ、ならびに、記号を一連のストライプに整理および/または移動するステップ、ならびに、前端のクリッピング補正と、後端のクリッピング補正と、製品の移動速度が変化した場合には、クリッピング補正をリアルタイムで更新するステップを含み得る。
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本発明は、工作物にキャビティを生成する方法に関する。この方法では、キャビティを生成するために、レーザビームをビームガイドに通して、工作物の表面に案内する。レーザビームは、焦点位置をキャビティの深さ方向に少なくとも一時的に変更できるように制御されている。工作物(5)にキャビティ(6)を生成する装置は、物質を除去するレーザビームを生成するレーザ光源(1)、レーザビームの焦点位置を調節する焦点調節装置(3)、工作物の表面にレーザビーム(20)を案内するビームガイド(4)、および焦点調節装置(3)ならびにビームガイド(4)を制御する制御装置(7)を含む。制御装置は、焦点調節装置(3)によって、レーザビームの焦点位置をキャビティの深さ方向に少なくとも一時的に変更可能とする制御を行うように設計される。
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本装置(50)は、居住可能な建造物の表面を加工する。本装置(50)は、相互作用領域にレーザ光を供給するように適合させたレーザの基本ユニット(300)を含み、レーザ光が、建造物から材料を取り除く。レーザの基本ユニット(300)は、レーザ発生器(310)と、レーザ発生器(310)に連結されたレーザヘッド(1200)とを含んでいる。レーザヘッド(200)は、相互作用領域から材料を取り除くように適合され、それにより、建造物内における活動への破壊性を減少させ得る。本装置(50)は、建造物に取り外し可能に連結され、レーザヘッド(1200)に取り外し可能に連結されるように適合させた固定用メカニズム(1110)をさらに含んでいる。本装置(50)は、レーザの基本ユニット(300)に電気的に接続された制御器(500)をさらに含んでいる。制御器(500)は、使用者の入力に応答して、レーザの基本ユニット(300)に制御信号を送信するように適合されている。
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【課題】 ヒューズをレーザトリミングをする半導体装置において、高精度でヒューズを切断すること。及びスクライブライン領域に占めるレーザートリミング位置決め用パターンの面積を小さくすること。
【解決手段】 レーザトリミング位置決め用パターンは、高光反射率領域と低光反射率領域との境界、すなわち光反射率が急峻に変化する場所をレーザトリミング用ヒューズ素子と同じ薄膜により形成されたパタンによって規定できるようにした。さらにレーザトリミング位置決め用パターン内部の寸法と、レーザービームスポット径との望ましい関係を示した。また、レーザトリミング位置決め用パターンを、半導体集積回路チップ内の既存のパッド領域内やブリーダ抵抗領域内に形成したり、スクライブラインの交点に配置して、半導体ウエハの回転方向に対する比較的荒い位置合せを行なうためのいわゆるシータマークの機能と、繰り返し配置された半導体集積回路一つ一つに対して正確な位置合せを行なうためのトリミングマークの機能とを兼用できる連続した構造として占有面積の縮小を図った。 (もっと読む)


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