【課題】外部応力による微細構造の傷つきを防ぎ、基材への微細構造フィルム施工後は容易に除去することができる微細構造フィルム用保護フィルム、該保護フィルムで保護された微細構造フィルムの積層体、該積層体を用いた微細構造フィルムの施工方法を提供する。
【解決手段】微細構造フィルム用保護フィルムは、微細構造フィルムの被保護面を被覆し、上記被保護面と密着する微細構造保護層を有し、上記微細構造保護層は水性樹脂を含み、上記被保護面に対する上記水性樹脂の分散液の接触角が９０°以下である。微細構造フィルム積層体は、該微細構造フィルム用保護フィルムと、微細構造フィルムとを有する。微細構造フィルムの施工方法は、該微細構造フィルム積層体を基板に貼り付けた後、溶剤を用いて上記微細構造保護層を上記被保護面から剥離し、上記微細構造フィルム用保護フィルムを除去する。 （もっと読む）

【課題】ハードコート層とは別に防汚層を形成することなく、ハードコート層に防汚機能を付与し、基材との高い密着性を有するとともに、優れた耐カール性、耐擦傷性、表面硬度を付与でき、汚れの除去が簡便にでき、表面硬度と防汚特性とを両立したハードコートフィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、基材の一方の面に形成されたハードコート層と、を備え、ハードコート層は膜厚が３μｍ以上３０μｍ以下であり、ハードコート層の表面の表面自由エネルギーが２０ｍＮ／ｍ以下であり、かつ、塑性変形硬度が０．３ＧＰａ以上であることを特徴とするハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材に適切な表面硬度を有し耐熱性、耐候性および密着性に優れた表面保護用の硬化被膜を形成する、生産性と経済性を兼ね備えた方法を提供する。
【解決手段】この表面保護被膜の形成方法は、プラスチック基材の表面に、加熱硬化型シリコーンと溶剤を含む被覆用組成物を塗布する工程と、前記被覆用組成物の塗膜を乾燥する工程と、乾燥された前記被覆用組成物の塗膜を、液状のフッ素系不活性化合物を加熱して発生する蒸気の凝縮潜熱を用いて加熱し硬化させる工程を備える。被覆用組成物としては、（Ａ）オルガノシラントリオールおよび／またはその部分縮合物と（Ｂ）コロイド状シリカと（Ｃ）溶剤をそれぞれ含む被覆液を使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 少量でも優れた帯電防止性を発現するための帯電防止コーティング剤組成物、及びそれを硬化させたもので、帯電防止性、透明性、耐擦傷性に優れ、基材との密着性を有する優れた帯電防止被膜を提供する。
【解決手段】 帯電防止コーティング剤組成物は、エチレン基を複数含有したモノマーとエチレン基を複数含有したプレポリマーとから選ばれる少なくとも一方を含有するハードコートベース１００重量部、イオン対とベタインとから選ばれる少なくとも一方の極性構造を含有する単量体、または該単量体の繰返し単位を有するマクロモノマーとフルオロカーボン基を含有する単量体の繰返し単位を含有するマクロモノマーとの共重合物からなる極性高分子化合物０．５〜５０重量部、アミノ基を含有する高分子化合物０．０５〜１０重量部、および水酸基を含有する高分子化合物０．０５〜１０重量部が含まれている。 （もっと読む）

【課題】透明性と物理強度と反射防止性とを兼ね備え、反射光による着色等の無い硬化膜を生産性よく形成することのできるプラスチック被覆用組成物、及びそれを用いた反射防止塗膜付きプラスチック部品並びに反射防止塗膜付きプラスチック部品の製造方法を提供する。
【解決手段】中空状シリカと、（メタ）アクリロイル基を有する化合物と、活性エネルギー線重合開始剤と、溶媒と、を含む活性エネルギー線硬化性組成物であって、該組成物中の固形分１００質量部中の中空状シリカの割合が３０〜４５質量部であるプラスチック被覆用組成物を、プラスチック基材の表面に塗布し、溶媒を除去した後、活性エネルギー線を照射して厚さ１〜２０μｍの硬化膜を形成して反射防止塗膜付きプラスチック部品とする。 （もっと読む）

【課題】めっき処理により樹脂絶縁層の表面に導体層を形成する際に、樹脂絶縁層との密着強度が高い導体層の形成を可能とする熱硬化性樹脂組成物、該熱硬化性樹脂組成物からなる樹脂シート、並びにこれらを用いて樹脂絶縁層が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】樹脂絶縁層の表面に紫外線を照射した後、めっき処理により導体層を形成するプリント配線板の製造において、上記樹脂絶縁層の形成に用いられる熱硬化性樹脂組成物は、（Ａ）１分子中に２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂（Ａ−１）及び１分子中に３個以上のエポキシ基を有し、エポキシ当量が２５０ｇ／ｅｑ以上であるエポキシ樹脂（Ａ−２）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の、ナフタレン骨格を含有しないエポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂、（Ｃ）フィラー、及び（Ｄ）ポリヒドロキシカルボン酸もしくはその誘導体を含有する。 （もっと読む）

【課題】触媒活性の高い均一な酸化チタン系光触媒薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】基材上にペルオキソチタンを含有する酸化チタン系薄膜を形成させ、次いで該酸化チタン系薄膜を熱処理することを特徴とする酸化チタン系光触媒薄膜の製造法。好ましい実施形態において、酸化チタン系薄膜の熱処理は加熱ロールによる連続熱処理である。別の好ましい実施形態において、前記基材上に酸化チタン系薄膜を形成させる前に、該基材は表面活性化処理される。さらに別の好ましい実施形態において、前記酸化チタン系薄膜は、インクジェット法により又はロールと該ロールに巻いた微小径ワイヤーとを備えるワイヤーバーにより形成されたものである。さらに別の好ましい実施形態において、前記基材は有機材料からなる。 （もっと読む）

【課題】被覆されたが、硬化されていないフィルムをロール上に巻き付けることができ、硬化後の被覆物が高い摩耗性とフィルムに対する良好な接着性を示す放射線硬化性被覆物フィルムを提供する。
【解決手段】放射線硬化性被覆物が、(a)ポリイソシアネートと(b1)(メタ)アクリレート基を含み、イソシアネートに対して反応性である化合物とを含む反応混合物の反応により得ることができる(メタ)アクリレート基を含有するポリウレタンポリマーを含み、および≧1nm〜≦200nmの平均粒度を有する無機ナノ粒子をさらに含む放射線硬化性被覆物をさらに含む、フィルムに関する。このような被覆フィルムの製造方法、成形品の製造のための、このようなフィルムの使用、放射線硬化被覆物を有する成形品の製造方法およびこの方法により製造され得る成形品に関する。 （もっと読む）

【課題】簡単な方法で所定のおよび均一な層厚を有するポリマー層の製造を可能にする支持部上のポリマー層の製造方法を提供すること。
【解決手段】透明の支持部上のポリマー層の製造方法であって、（ａ）支持部の配設工程と、（ｂ）支持部上に光重合可能の液状組成物の塗布工程と、（ｃ）前記液状組成物が部分的に重合し、所定の厚さを有するポリマー層が支持部上に形成されるように、支持部を通して光重合可能な液状組成物を照射工程する、（ｄ）ポリマー層から残留する液状組成物の除去工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】艶消し性を有しつつ、遮光性、摺動性等の遮光膜の物性を保持した光学機器用遮光部材を提供する。
【解決手段】本発明の光学機器用遮光部材１は、合成樹脂フィルムからなる基材２と、当該基材２の少なくとも片面に形成された遮光膜３とから構成されてなる。当該遮光膜３は、バインダー樹脂及びカーボンブラック３１、粒子状の滑剤３２、及び微粒子３３を含有し、滑剤３２の平均粒径が微粒子３３の平均粒径よりも大きいものとする。遮光膜３中のカーボンブラックと滑剤の含有率がともに５〜２０重量％である。 （もっと読む）

【課題】太陽光等が照射されたときに青白色に変色する現象（ブルーヘイズ）を抑制できる赤外線遮蔽材料微粒子分散液と赤外線遮蔽膜等を提供する。
【解決手段】一般式ＸＢｍで表されるホウ化物微粒子により構成される赤外線遮蔽材料微粒子が溶媒中に含まれる赤外線遮蔽材料微粒子分散液であって、動的光散乱法で測定した赤外線遮蔽材料微粒子の粒度分布で、５０％径が１０ｎｍ〜３０ｎｍ、９５％径が２０ｎｍ〜５０ｎｍおよび平均粒径が１０ｎｍ〜４０ｎｍであることを特徴とする。また、赤外線遮蔽膜は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等の媒体が添加された赤外線遮蔽材料微粒子分散液を基材表面に塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜から溶媒を蒸発させて得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】樹脂体表面に強固に接着した透明性の高い導電性樹脂層が均一に形成され、かつ導電体レベルに近い表面比抵抗値を有する樹脂積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリエチレンジオキシチオフェン系樹脂の水分散ディスパージョンと、該ディスパージョン中の水分量に対して１０〜３０重量％のアルコールとの混合物を樹脂体表面に塗布し、塗布された該混合物を４０〜８０℃で乾燥することを特徴とする積層体の製造方法及びこの製造方法で得られた表面比抵抗値が１０²〜１０^８Ω／□の樹脂積層体。 （もっと読む）

【課題】樹脂表層に銅などのめっきと樹脂がナノメートルオーダーで混在する層を持ち、平滑樹脂上で非常に高いめっき密着性を有するに用いられる樹脂基板であって、平滑樹脂上に高密着強度のめっきを実施できるため、微細配線基板や高周波特性に優れたプリント配線基板を作製する。
【解決手段】シアネート系ビルトアップ樹脂を熱処理し樹脂中にトリアジン環を生成させる工程と、オゾン水により樹脂基体の表層を改質すると共に、貴金属錯イオンを含むキャタリスト液に浸漬し、樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層を一体的に形成し、貴金属をトリアジン環によって固定させる工程とによって樹脂基板を製造し、該貴金属を核として樹脂基板の表面に無電解めっきにより金属被膜を形成し、その後に該金属被膜を除去することを特徴とする回路基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 近赤外線の透過を抑制するとともに表面の硬度が高く、少量生産に向いた透明樹脂板を提供すること。
【解決手段】 ポリカーボネイト基板１の表面にタングステン酸セシウム化合物の微粒子を分散したメタクリル酸メチル樹脂を塗布硬化させてアクリル系プライマー層２を成膜し、アクリル系プライマー層２の硬化表面にシロキサン系塗料を塗布硬化させてシリコン系ハードコート膜３を成膜する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板の一方の面に画像の質が低下するのを抑制することができる硬化被膜が形成された耐擦傷性樹脂板、およびそれを用いた携帯型情報端末の表示窓保護板を提供することである。
【解決手段】本発明の耐擦傷性樹脂板は、樹脂基板と、その一方の面に形成された硬化被膜とからなり、前記硬化被膜に、表面凹凸を体積平均して得られる中心面からの高さが０．００５μｍ以上０．１μｍ未満である微細な突起が、１０００個／ｍｍ²以上２００００個／ｍｍ²以下の密度で形成されており、かつ前記高さが０．１μｍ以上である突起が、０個／ｍｍ²以上２×１０^-4個／ｍｍ²未満の密度で形成されている。本発明の携帯型情報端末の表示窓保護板は、前記した耐擦傷性樹脂板からなる。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性に優れた硬化塗膜を得ることができる放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】放射線硬化型モノマー及び／又は放射線硬化型オリゴマー（Ａ）と、アミジニウム塩型界面活性剤（Ｂ）とを含んでなることを特徴とする放射線硬化性樹脂組成物を用いる。アミジニウム塩型界面活性剤（Ｂ）はイミダゾリウム及び／又はイミダゾリニウムとアニオンとから構成される塩であることが好ましい。アニオンは有機酸アニオン、ＰＦ_６⁻、ＡｓＦ_６⁻、ＳｂＦ_６⁻、ＢＦ_４⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３⁻、Ｃ（ＣＦ_３ＳＯ_２）^３−、ＣｌＯ_４⁻、Ｎ（ＣＦ_３ＳＯ_２）^２−、ＲｆＳＯ_３⁻、Ｃ（ＲｆＳＯ_３）^３−及びＮ（ＲｆＳＯ_３）^２−｛Ｒｆは炭素数１〜１２のフルオロアルキル基｝からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。 （もっと読む）

基体上に可塑性ハードコートをもたらす方法であって、ＵＶ硬化性基および熱硬化性シラン基を有する二重硬化性シランの使用を含む。加水分解される二重硬化性シランとシラノール基部分は、シリカと縮合し、基体へと塗布される液体コート剤組成物をもたらす。ＵＶ照射による第一の硬化はコート剤を可塑性ハードコートへと硬化し、コート剤を傷つけることなく基体を熱成形したりエンボス加工したりできるようにする。その後、基体は熱硬化のために加熱され、完全に硬化した、硬くて耐摩耗性のハードコートをもたらす。 （もっと読む）

【課題】効率的に光損失を低減させ、反射光の光照射野の分布を制御し、それによって、バックライトモジュールのブライトネスと均一性を増進させることができる反射性フィルムを提供すること。
【解決手段】反射基板と、その基板の表面上に凸凹構造を有する樹脂コーティングを含む反射性フィルムであって、上記樹脂コーティングが有機粒子および結合剤を含み、その有機粒子の粒子径分布がその平均粒子径の約±5%の範囲であり、その有機粒子が100重量部の結合剤固形分当たり約180〜約320重量部の量である反射性フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】多層シート成形時の剥離性向上とロール付着物を低減させたアクリル樹脂組成物、およびそれを用いた生産性が良く耐環境性のよいアクリル／ポリカーボネート多層シートを提供する。
【解決手段】アクリル樹脂に下記一般式（１）（Ｒ₁はアルキレン基、Ｒ₂〜Ｒ₈は水素、アルキル基、アリール基等を表す。ａは１〜１０００の整数）で表される末端基を有する末端変性ポリカーボネート樹脂を０．１〜１０重量％配合してアクリル樹脂組成物とし、これをポリカーボネート樹脂とともに共押出成形などによって多層シートに成形する。
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【課題】物性を低下させることなく、有機高分子製品に対して簡易且つ低コストで自己消火性を付与することができ、有害ガスが発生の原因とならない、有機高分子製品の改質剤、その使用方法、およびその製品の提供。
【解決手段】吸水性ポリマーの存在下でケイ素アルコキシドを加水分解重縮合したシロキサン化合物を含む溶液であって、該シロキサン化合物が、その^２９Si-NMR測定スペクトルの帰属において、Q_ｎ（ｎ＝０〜４）構造を示すシグナルにおけるQ_４構造を示すシグナルの面積と、Q_１、Q_２、Q_３構造を示すシグナルの面積の和との比S_Q４/（S_Q１＋S_Q２＋S_Q３）が１．２０以下である有機高分子製品に自己消火性を付与する改質剤。
ここでQ_ｎ構造とは、シリカの構成単位であるSiO₄四面体単位の酸素原子のうちの架橋酸素原子（2つのSiと結合している酸素原子）の数に応じて決まる化学的構造をいい、QnのnはSiO_４単位の結合度であり、架橋酸素原子の数である。 （もっと読む）