【課題】シール材の供給量が調整され、シール材を被塗布部材に適切に塗布することが可能なシールガン吐出口速度通知装置、シールガンシール吐出量調整装置及びシールガンを提供することを目的とする。
【解決手段】シールガン２は、シール材を被塗布部材に吐出する吐出口を備え、更に、吐出口に隣接して設けられ被塗布部材と接触しながら回転する回転体２４と、回転体２４の回転速度に基づいて吐出口の移動速度を通知する表示部３１とを有するシールガン吐出口速度通知装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】基材の一方の主面に塗布膜が形成されている場合において、他方の主面に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、および、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システムを提供する。
【解決手段】塗布処理部１０は、活物質の第１塗布膜６が形成された状態で、基材５の第２主面５ｂに活物質の塗布液を塗布する。塗布処理部１０は、主として、ノズル１１と、位置検出部１３と、駆動部１５と、を備えている。ノズル１１は、バックアップローラ１２と対向する位置に配置されている。位置検出部１３は、いわゆる２次元レーザ変位計により構成されたセンサである。位置検出部１３は、長手方向に沿った基材５の搬送経路８において、ノズル１１の吐出位置ＰＤより上流側の検出位置ＰＳに配置されている。駆動部１５は、ノズル１１を前後左右上下に移動させることによって、バックアップローラ１２に対する吐出口１１ａの位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】スリット状の吐出口から被処理基板に対して処理液を吐出し、塗布膜を形成する塗布膜形成方法において、ノズル吐出口のビード量およびノズル吐出口からの吐出圧力の変化に拘わらず、現場オペレータの熟練度に依存することなく、安定した膜厚形成を行うことができ、基板に形成される塗布膜の有効面積を広範囲なものとする。
【解決手段】経過時間Ｔｓにおける推定膜厚Ｔｈは、式（１）により規定され、前記式（１）の推定膜厚Ｔｈに目標膜厚を代入し、基板Ｇの相対的移動速度Ｖを変数とすることにより、時間Ｔｓごとに前記基板の相対的移動速度Ｖを求めるステップと、前記時間Ｔｓごとに求められた前記基板の相対的移動速度Ｖに従い、ノズル吐出口に対する前記基板の相対的移動速度を制御するステップとを含む。
Ｔｈ＝（ΔＢ＋Ｑ）・β／（Ｔｓ・Ｖ・Ｌ） ・・・（１） （もっと読む）

【課題】スリットノズルにおける塗布液の漏れを防止する性能を高める。
【解決手段】吐出幅変更手段９は、スリットノズル１０に形成されている幅方向に長い孔１５及びスリット１６に設けられ、幅方向に移動することによりスリット１６からの塗布液の吐出幅Ｄを変更する。吐出幅変更手段９は、孔１５の内壁面１５ａに接触するＯ形の弾性部材４１を有し孔１５を塗布液側とその幅方向外側とに区画するシール本体部１８と、スリット１６内で塗布液が幅方向外側へ流れ出るのを規制すると共に、弾性部材４１よりも硬質であって当該弾性部材４１の外周の一部に端縁部５７が食い込んでいる薄板状のスペーサ１７とを有している。 （もっと読む）

【課題】コータヘッドと液体が塗布される被塗布体との距離を迅速かつ高精度に測定する。
【解決手段】コータヘッド１１は、保持部２に面し第１の開口１２と同一面上に位置する第２の開口２０を備えた少なくとも１つの内側空間部２１を有している。距離測定器２２は、被塗布体３または保持部２、及び第２の開口の位置２０に設けられレーザ光を反射する遮へい体２３ａを測定位置として、内側空間部２１を通してレーザ光を出射することにより、被塗布体３または保持部２と距離測定器２２との距離である第１の距離Ｄ１、及び遮へい体２３ａと距離測定器２２との距離である第２の距離Ｄ２を、同時にまたは別々に測定する。距離算出器２２は、第１の距離Ｄ１と第２の距離Ｄ２との差分に基づき、コータヘッド１１の第１の開口１２と被塗布体３または保持部２との距離である第３の距離Ｄ３を算出する。 （もっと読む）

【課題】ノズルからの塗布液の吐出開始および終了を明確に区切りつつも、簡素な構造の塗布装置および該塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システムを提供する。
【解決手段】閉止バルブ２０の弁体４０の移動方向と垂直なシリンダ３０の流路端面に入側開口３３を形成するとともに、その移動方向と平行なシリンダ３０の側面に出側開口３６を形成する。閉止バルブ２０の閉止時には出側開口３６が形成された流路端面に弁体４０が接触するとともに、閉止時以外ではシリンダ３０の流路端面および側面のいずれとも弁体４０が非接触である。塗布ノズルからの塗布液の吐出を停止すべく弁体４０がシリンダ３０内にて前進すると、弁体４０が流路端面に当接して入側開口３３を閉塞するに至る過程で出側開口３６に負圧が作用する。これにより、シリンダ３０の出側開口３６から塗布ノズルに至るまでの流路に存在している塗布液がシリンダ３０に向けて吸引される。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜の膜厚バラツキを抑制し得る塗布装置を提供する。
【解決手段】 第１の方向に搬送される透明のフィルム（１６）の一方の面（１６a）に接触する第１ローラー（１２）と、前記第１ローラーに対して前記第１の方向に、前記第１ローラーに隣接して配置され、前記一方の面に接触する第２ローラー（１４）と、前記第１ローラーと前記第２ローラーの間に位置する前記フィルムの他方の面に対向するように配置され、前記他方の面に塗布液を塗布する塗布ノズル（２０）と、を有し、前記塗布ノズルにおいて前記塗布液を放出する開口（２２）と、前記第２ローラーの中心軸である第２中心軸（１４ａ）との前記第１の方向に沿う間隔である第２間隔（Ｌ２）は、前記第２ローラーの半径（Ｒ）以上であって５０ｍｍ以下であり、前記開口と、前記第１ローラーの中心軸である前記第１中心軸（１２ａ）との前記第１方向に沿う間隔である第１間隔（Ｌ１）は、前記第２間隔より長い塗布装置。 （もっと読む）

【課題】ウエブの継ぎ目における、塗工の終了と開始を、迅速に行うことができる塗工装置を提供する。
【解決手段】ウエブＷに塗工液を塗工するダイ１２と塗工液を供給するポンプ２８とダイ１２の塗工液入口２４とポンプ２８との間に接続された供給配管３０を有し、塗工液入口２４又は、供給配管３０の途中であって、塗工液入口２４の近傍に給液バルブ３２を設け、塗工液を供給するポンプ２８の運転の開始と同期して給液バルブ３２を開状態に制御し、ポンプ２８の運転終了と同期して給液バルブ３２の閉状態に制御する。 （もっと読む）

【課題】ガード部材と基板とが一定時間近接しても、基板の熱量がガード部材の影響を受けるのを抑えることができ、ひいては塗布膜にムラが発生するのを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、スリットノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、スリットノズルよりも塗布進行方向側にスリットノズルの長手方向に沿って取付けられ、スリットノズルよりも先に衝突対象物と接触させることでスリットノズルを保護するガード部と、を備えており、ガード部は、基板と近接して対向する近接対向部を長手方向に亘って有しており、この近接対向部は、ガード部を形成する材料よりも熱伝導率の低い材料で被覆されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】 洗浄移動ユニットとインクジェットヘッドとの位置関係が不当に厳格とならないようにした上で、両者の接触に起因する耐久性の低下、摩耗粉塵等の異物の発生、印刷不良や配向膜形成不良等を回避する。また、インクジェットヘッドの液状材料噴出口を通じてその内部に洗浄液が浸入して液状材料の濃度が低下するという不具合を回避した上で、負圧吸引による洗浄能力をより高める。
【解決手段】 ライン状に配列された複数の液状材料噴出口３の周辺に負圧による吸引力を発生させる真空ノズル５を有し且つインクジェットヘッド１に対して相対移動可能な洗浄移動ユニット４を備えた構成において、真空ノズル５の先端に存する負圧吸引領域を、液状材料噴出口３の配列方向に短尺に且つその配列方向と直交する方向に長尺になるようにして、真空ノズル５を上記の配列方向に移動させるように構成する。 （もっと読む）

【課題】エクストルージョン型ノズルを用いて枚葉状の基板の表面に塗布液を塗布する方法において、塗布始端部で塗布液をはみ出すことなく高精度な塗布範囲を実現する塗布方法を提供する。
【解決手段】塗布液３に圧力をかけてスリット６から吐出し基板２上に塗膜を形成する方法であって、塗布始端部においてスリット６先端と基板２の間に充填する塗布液３をスリット幅６ａと実塗布幅の間の２点間で濡れ広がり度合を検知し、濡れ広がり速度から実塗布幅到達時間を算出し、塗布開始のタイミングとノズル１移動速度を制御することで、塗布始端部で塗布液をはみ出すことなく、且つ欠けることなく高精度な塗布範囲を実現する。 （もっと読む）

【課題】基板上、又は、ステージと基板との間に異物が存在している場合に、ガード部材から基板が押圧されることにより基板が損傷するのを抑えることができ、さらに、異物の存在を誤検知するのを抑制する塗布装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ、スリットノズルから塗布液を吐出して基板に塗布膜を形成する塗布ユニットと、スリットノズルよりも塗布進行方向側に取付けられ、スリットノズルを保護するガード部と、ガード部が衝突対象物に接触したことを検知する検知部と、を備えており、ガード部は、衝突対象物を接触させる衝突部と、この衝突部を基板から離れる側に変位させる変形促進部とを有しており、衝突部に衝突対象物が接触した状態から、さらに塗布ユニットが塗布進行方向に移動すると、衝突部が基板から離れる側に変位し、検知部はガード部に衝突対象物が接触したことを検知する構成とする。 （もっと読む）

被塗工物に対する塗工液の塗工幅を精度よく制御することが可能な塗工装置及び塗工液の塗布方法を提供すること。塗工装置１００は、帯状の被塗工物を搬送する複数のローラ２１、２２を有した搬送手段と、搬送手段により搬送される被塗工物３１に塗工液３２を塗布する塗工ダイ１１と、塗工ダイ１１の被塗工物３１に対する位置を、被塗工物３１に塗布された塗工液３２の幅を示す塗工幅に応じて変更する位置決め手段と、を有し、塗工ダイ１１は、被塗工物３１がローラ２１で巻き上げられる位置であり、かつ、ローラ２１の中心部分より下方において、垂直方向から塗工液３２を塗布するものであり、位置決め手段は、塗工ダイ１１を水平方向に移動させることで被塗工物３１に塗られる塗工液の幅を制御する。
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【課題】基板上の異物を検出可能であり、設定の煩雑化を回避することができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板を搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する塗布部とを備えた塗布装置であって、前記塗布部よりも前記基板の搬送方向の上流側に前記塗布部に対して非接続状態で設けられ、前記基板上の異物を検知する異物検知機構を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】両端部のみを支持して保持される基板上にリブを精度よく形成する。
【解決手段】リブ形成装置１では、保持部２０により基板９の両端部が支持されることにより、保持される基板９の両端部の間の部位が非拘束の状態に保たれる。基板９上にリブを形成する際には、基板９の両端部の一方から他方に向かう走査方向における主面上の複数の位置において所定の基準面からの複数の高さが取得され、主面の走査方向における撓み形状を近似する近似曲線が演算部６１にて求められる。そして、吐出部４２の吐出口からリブ形成材料が吐出される間に、吐出側とは反対の走査方向に吐出部４２を基板９に対して相対的に移動しつつ、昇降機構４１により近似曲線に従って吐出部４２が昇降する。これにより、両端部のみを支持して保持される基板９上にリブを精度よく形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 注入ノズルの先端が壁面のどこに向かって近づいているのかわかり易くし、注入ノズルの先端を亀裂の最適位置に容易に位置決めできるようにし、注入ノズルの先端の位置決め作業を容易にし、充填材を確実に亀裂内に充填できるようにする。
【解決手段】 壁の亀裂２に先端１０ａが配置され亀裂２に充填材を注入する注入ノズル１０を備え、壁側に向けてレーザ光を投光するとともに壁の表面と注入ノズル１０のノズル軸Ｘ１とが交差する点を注入ノズル１０の先端１０ａを配置する目標点ｐとして指示する投光部５０を設け、投光部５０を、注入ノズル１０の先端１０ａよりも基端側であって注入ノズル１０のノズル軸Ｘ１の軸上に設け、投光部５０の投光軸Ｘ２と注入ノズル１０のノズル軸Ｘ１とを合わせた。 （もっと読む）

【課題】 塗料の無駄な消費なく部分的な塗装を行なうことができ、また衝撃で板材が破損することがないと共に生産性高く塗装を行なうことができる板材の部分塗装装置を提供する。
【解決手段】 塗料１をカーテン状に流下させて供給するフローコーター２の下方を通過するように、水平姿勢で板材３を搬送し、フローコーター２から流下する塗料１を板材３の表面の一部に塗着させて部分的に塗装を行なう板材の部分塗装装置に関する。フローコーター２の側方位置と、フローコーター２の下方位置との間で往復移動され、フローコーター２の下方を一方向に搬送される板材３の塗装を行なわない部分がフローコーター２からの塗料１の流下位置を通過する際に、フローコーター２と板材３との間に移動してフローコーター２から流下する塗料１を受けるシャッター４を備える。 （もっと読む）

【課題】浮上搬送方式において浮上ステージと基板とノズルとの間の高さ位置関係を適確に管理して基板上に処理液の塗布膜を均一な膜厚で形成できるようにした塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】被処理基板を気体の圧力で浮かせる第１の浮上領域を有するステージ７６と、浮上状態の前記基板を所定の搬送方向に搬送して前記第１の浮上領域を通過させる基板搬送部８４と、前記第１の浮上領域の上方に昇降可能に配置されるノズル７８を有し、前記第１の浮上領域を通過する前記基板上に処理液を塗布するために前記ノズルより前記処理液を吐出させる処理液供給部９３と、前記ノズルを昇降移動させるためのノズル昇降部７５と、前記第１の浮上領域で前記処理液を塗布される直前の前記基板について、前記基板の厚みと前記ステージに対する前記基板の浮上高さとを測定する第１の測定部１６２とを有する。 （もっと読む）

【課題】 塗布ノズルへのセンサの取り付け、調整が容易であり、また塗布ノズルと基板との衝突を回避することができる安価な塗布膜形成装置を提供する。
【解決手段】 レジスト膜形成装置１０は、基板Ｇの載置台１１と、レジストノズル１２と、ノズル１２を移動させる水平駆動機構１４および昇降機構１５と、ノズルギャップの変化を検出する光学式のセンサ２１を備えたセンサアレイ２０と、ノズル１２をレジスト液の吐出開始位置に配置したときのセンサ２１の出力信号をセンサ２１ごとに標準出力信号に設定し、その標準出力信号と基板Ｇにレジスト液を吐出してレジスト膜を形成しているときの各センサ２１からの出力信号との差に基づいてギャップの変化を監視する副制御部６０と、副制御部６０からギャップの変化に関する信号を取り込み、ノズル１２と基板Ｇとの接触が回避されるように、ノズル１２の動作を制御する主制御部５０と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 塗布する膜厚をリアルタイムで制御する、スリット式塗布工程の膜厚監視方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 光学センサ１１０により、光学信号１１２ａ、１１２ｂの出射および受信を行い、塗布前における光学センサおよび基材間の距離を測定する。また、光学センサ１１０により、光学信号１１２ａ、１１２ｂの出射および受信を行い、塗布処理を行う間に光学センサと基材表面の塗膜１０６との距離を連続的に測定する。そして、光信号処理回路１２０により、塗布前および塗布処理中の光学信号１１２ａ、１１２ｂを比較して、塗膜の厚みを算出する。そして、塗膜の厚みに関する情報に基づいて、塗膜の厚みをリアルタイムで制御する。 （もっと読む）