【課題】レジストを塗布し、露光後に現像処理を行った基板のレジスト表面に残渣が付着したまま残る残渣欠陥の発生を抑えること。
【解決手段】基板の表面にレジストを塗布してする塗布モジュールと、レジスト塗布後、露光処理された基板の表面に現像液を供給し、前記レジストを現像処理してレジストにパターンを形成する現像モジュールと、レジストを変質させずにレジストの表面の親水性を高めて、前記現像処理後に当該レジストに付着した残渣を除去するための薬液を前記基板に供給する薬液ノズルと、を備えるように塗布、現像装置を構成する。前記薬液としては例えばアルコールや酸を含んだアルコールが用いられる。 （もっと読む）

【課題】スピン塗布法を用いてレジスト液をウェハに塗布する場合において、レジスト液の塗布量を減らしつつ、レジスト液を基板面内に均一に塗布する。
【解決手段】レジスト液の塗布工程Ｓ３において、開始前に第１の速度Ｖ１であったウェハＷの回転を、開始後にその速度が連続的に変動するように次第に加速させ、終了時には、ウェハＷの回転の加速度を次第に減少させて、ウェハＷの回転を第１の速度Ｖ１より速い第２の速度Ｖ２に収束させる。 （もっと読む）

【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】中心開口部を有する被処理基板の両面に、中心開口部に塗液が侵入するのを防止しつつ、簡易な工程で均一に塗液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明の塗布装置１は、中心開口部２ａを有する被処理基板２の両主面に塗液を塗布する塗布装置であって、被処理基板２を、その中心開口部２ａを閉塞して保持するチャッキング部１１を有する回転駆動機構３と、被処理基板２の一方の主面に塗液を噴出する第１の塗液用ノズル１８と、これを被処理基板２の一方の主面に沿って走査するように移動操作する第１の旋回駆動機構１７と、被処理基板２の他方の主面に塗液を噴出する第２の塗液用ノズル２８と、これを被処理基板３の他方の主面に沿って走査するように移動操作する第２の旋回駆動機構３１と、第１の塗液噴出口２３における塗液の噴出量と、第２の塗液噴出口２９における塗液の噴出量を独立に制御する機能を有する。 （もっと読む）

【課題】 ノズルアセンブリー、これを有する処理液供給装置、及びこれを用いる処理液供給方法が開示される。
【解決手段】 ノズルアセンブリーはハウジング、前記ハウジング内部に収納され、異種の処理液が流れる複数の流路を形成する処理液供給ライン、及び処理液供給ラインと各々接続され、いずれかの１つの端部が基板に向かう際、他の端部は基板から離れるように前記ハウジングの一端部から延長される噴射ノズル含む。従って、ノズルアセンブリーは単純化された構造を有する一方、基板から離れた方向に配置された噴射ノズルの汚染が抑制される。 （もっと読む）

【課題】角形基板でもその角部分の先端までほぼ均一な薬液層を形成する事の出来る薬液塗布装置を開発する事にある。
【解決手段】(1) 角形基板(1)が嵌め込まれる角形凹所(16)が形成され、該角形凹所(16)の外接円(G)外に面一にて平坦縁部(10b)が形成され、角形基板(1)が前記角形凹所(16)に面一に嵌め込まれた状態で回転する回転チャック(10)と、(2) 角形基板(1)上に薬液(2)を供給するための薬液供給部(11)と、(3) 回転チャック(10)に載置された角形基板(1)を覆うためのものであって、回転チャック(10)の直上に気体流入孔(12)が穿設されており、気体流入孔(12)から角形基板(1)側に導入された気体にて角形基板(1)の中心(P)側から周縁(S)方向に流れる気流(4)を作り出す円錐台状のフード(13)とを有する薬液塗布装置(A)であって、(a) フード(13)の気体流入孔(12)が角形基板(1)の内接円(N)に等しく、且つ、(b) フード(13)の裾縁(14a)が回転チャック(10)の外周縁(10c)に等しく形成されている事を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】捕捉貯留部の開口部の上方を閉塞しても吸引排出ノズルによる余剰塗布液の吸引排出を確実にかつ効率よく行う。
【解決手段】蓋７が回転テーブル４の外周に設けられた捕捉貯留部５の第１貯留部５ａの開口部５ｃを覆うとともに、捕捉貯留部５の上面との間に隙間１１を形成している。第１および第２吸引排出ノズル９ａ,９ｂがこの隙間１１を通して捕捉貯留部５内に進入している。このとき、第１および第２吸引排出ノズル９ａ,９ｂはそれぞれ捕捉貯留部５の径方向に移動可能であるとともに、第１部分９ａ₁,９ｂ₁を中心に回動可能とされている。これにより、第１吸引排出ノズル９ａの吸込み口９′が捕捉貯留部５の第２貯留部５ｂ内に設定可能となる。 （もっと読む）

【課題】 隙間を液シールで気密化することにより、カップ内の排気効率を高めて基板を清浄度高く処理することができる。
【解決手段】 液盛り後、所定時間が経過すると、上部カップ３５を「処理位置」に移動させると、下部かぎ状片４３の凹部４３ｂに、上部かぎ状片３１の垂下部材２９が僅かな隙間をおいてはまり込む。しかし、凹部４３ｂには純水が貯留して液シールを構成しているので、上部カップ３５の側方から外気が侵入するのを防止することができる。また、純水は凹部４３ｂに溜まるように構成してあるので、純水が容易に漏れ出すことがなく、長時間にわたり液シールを維持することができる。 （もっと読む）

【課題】レジスト液などの塗布液をスピンコーティングにより塗布するにあたって、塗布液の消費量を抑え、かつ塗布膜の膜厚について高い面内均一性を得る。
【解決手段】先ずウェハＷの中心部に溶剤Ｓ１を供給し、ウェハＷの表面をプリウェットする。続いて第１の工程において、ウェハＷを第１の回転数まで加速回転させ、回転中のウェハＷの中心部へレジスト液Ｒを供給する。その後第２の工程において、ウェハＷを第２の回転数まで減速回転させ、回転中のウェハＷの周辺部に溶剤Ｓ２を供給する。そして第２の工程でレジスト液ＲをウェハＷの端まで拡散させる。その後第３の工程において、ウェハＷを第２の回転数よりも高い第３の回転数まで加速させ、ウェハＷ上のレジスト液Ｒを乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】ウェハ面内に均一にレジスト液を塗布する。
【解決手段】先ず、塗布工程Ｓ３において、高速でウェハＷを回転し、その状態でウェハＷの中心部に第１のノズル１４３からレジスト液を吐出して、ウェハＷ上にレジスト液を塗布する。次に、平坦化工程Ｓ４において、ウェハＷの回転を減速し、低速でウェハＷを回転させ、ウェハＷ上のレジスト液を平坦化する。このとき、塗布工程Ｓ３における第１のノズル１４３によるレジスト液の吐出は、平坦化工程Ｓ４の途中まで継続して行い、その平坦化工程Ｓ４においてレジスト液の吐出を終了させる際には、第１のノズル１４３を移動させてレジスト液の吐出位置をウェハＷの中心部からずらす。その後、乾燥工程Ｓ５において、ウェハＷの回転を加速して、ウェハＷ上のレジスト液を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】回転する板体に流体を供給して処理を行なおうとした場合、処理ムラが起き難いものとする技術を提供することである。
【解決手段】回転する板体にノズルから流体を供給して処理する処理方法において、
前記板体の回転中心から半径方向に距離ｒの位置に在る前記ノズルからの流体供給量Ｑと、該位置に在るノズルの半径方向における移動速度Ｖと、前記板体の角速度Ｎとで定義される物理量｛Ｑ／（ｒ・Ｖ・Ｎ）｝が一定であるよう、流体供給量Ｑの変動量を検出し、該変動量を考慮してノズルの半径方向における移動速度Ｖを制御することを特徴とする処理方法。 （もっと読む）

【課題】外周部にエッジビートを形成することなく、略円形の基板表面に均一な厚みのレジスト膜を形成するレジストの塗布方法とそれに用いる塗布装置を提供する。
【解決手段】水平に吸着保持した基板１を回転させて、前記基板１の略中央から外周部へその直径に沿ってノズル１３を移動させるとともに、このノズル１３からレジストを吐出させて前記基板１の表面に渦巻状の軌跡でレジストを塗布する塗布方法であって、前記渦巻状の軌跡に沿って予め基板１表面の凹凸を測定した後、この測定結果を基に前記基板１とノズル１３の間隔を一定に保ちながらレジストを塗布する。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布液を供給するために移動中の塗布液ノズルから塗布液が滴下しそうな液だれ状態となっていること、あるいは滴下したことを撮像して適切な処置動作を実行することが可能な液処理装置等を提供する。
【解決手段】周囲をカップ体５に囲まれた基板保持部４１に略水平に保持された半導体ウエハＷ等の基板の表面に、塗布液ノズル１０からレジスト液等の塗布液を供給して、基板の表面を液処理する液処理装置１において、塗布液ノズル１０は基板保持部４１に保持された基板の上方と、載置して待機させるノズルバス１４との間をノズル搬送機構１０ａにより移動する。そして塗布液ノズル１０の先端部の状態を撮像手段（カメラ１７）により光学的に撮像し、液だれまたは滴下の発生状況に応じて所定の対処動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に対して、レジスト等の薬液を所望の膜質で全面に確実に塗布する。
【解決手段】塗布膜形成装置は、シリコン基板１を載置するためのスピンチャック２が回転可能に設けられ、第１の滴下ノズル９によりレジストを滴下してシリコン基板１を回転させて第１の塗布膜を形成する。シリコン基板１のノッチ部分などで発生する塗布不良領域に対して第２の滴下ノズル１０からレジストを滴下して第２の塗布膜を形成し、全面に確実にレジストの塗布膜を形成する。その後、吸引ノズル１１により第２の塗布膜の表面を吸引して乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】処理対象へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理時間を短縮することができる二流体ノズル、およびそれを用いた基板処理装置を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、下端が開放した断面櫛状のノズル本体１６を含む。ノズル本体１６の内部には、複数のＤＩＷ流路１９および窒素ガス流路２０が形成されており、各ＤＩＷ流路１９および窒素ガス流路２０は、ノズル本体１６の下端で、それぞれ二流体ノズル３の長手方向Ｘ１に延びるスリット状のＤＩＷ吐出口２１および窒素ガス吐出口２２として開口している。ＤＩＷ吐出口２１および窒素ガス吐出口２２は、それぞれ平行となるように短手方向Ｙ１に交互に並んで配置されている。ＤＩＷ吐出口２１から吐出されたＤＩＷは、窒素ガスと混合されて液滴となり、長手方向Ｘ１および短手方向Ｙ１に広がる帯状の液滴群となってウエハＷの表面に供給される。 （もっと読む）

【課題】タンクに収容された液状樹脂をウェーハに被覆する場合において、タンク内に液状樹脂がなくなった場合にも、生産性を低下させずに液状樹脂を被覆する。
【解決手段】液状樹脂供給源５０から液状樹脂ノズル４１に供給された液状樹脂４１ａをウェーハに滴下して保護膜を被覆する装置において、液状樹脂を収容する第一の収容タンク５１及び第二の収容タンク５２のいずれかを選択して液状樹脂ノズル４１に液状樹脂４１ａを供給するタンク選択部５５を備え、タンク選択部５５は、第一の収容タンク５１及び第二の収容タンク５２の液状樹脂が所定の液量を下回ると、液状樹脂ノズル４１に液状樹脂を供給するタンクを切り替える。 （もっと読む）

【課題】混合処理液による処理効率を向上させることができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、外筒２３および内筒２４を含む。内筒２４の下端には、硫酸を吐出する半円状の第１処理液吐出口３０と、過酸化水素水を吐出する半円状の第２処理液吐出口３４とが形成されている。外筒２３の下端と内筒２４の下端との間は、第１および第２処理液吐出口３０，３４を取り囲み、窒素ガスを吐出する円環状の環状気体吐出口３１となっている。第１および第２処理液吐出口３０，３４から吐出された硫酸および過酸化水素水は、環状気体吐出口３１から吐出された窒素ガスと混合されて液滴状態となり、ウエハＷの上空またはウエハＷの表面上で混合されて、活性の高いＳＰＭとしてウエハＷの表面に供給される。 （もっと読む）

【課題】基板へのダメージを抑制しつつ、処理液による処理時間を短縮することができる二流体ノズル、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】二流体ノズル３は、外筒２３、内筒２４および中間筒２５を含む。内筒２４の内部空間は、ＤＩＷが流通する直線状の第１処理液流路２６となっている。内筒２４と中間筒２５との間には、窒素ガスが流通する円筒状の気体流路２７が形成されおり、中間筒２５と外筒２３との間には、ＤＩＷが流通する円筒状の第２処理液流路２８が形成されている。第１処理液流路２６の下端は、ＤＩＷを吐出する円状の第１処理液吐出口３０となっており、気体流路２７の下端は、第１処理液吐出口３０を取り囲み窒素ガスを吐出する円環状の気体吐出口３１となっている。また、第２処理液流路２８の下端は、気体吐出口３１を取り囲みＤＩＷを吐出する円環状の第２処理液吐出口３４となっている。 （もっと読む）

【課題】傾斜角が大きい光学部材に対して、均一な光学膜を再現性良く形成する方法及び装置並びにその光学膜を有する光学物品を提供する。
【解決手段】基板１を回転自在な治具20に取り付け、基板１を回転させながら、基板１に光学膜成分を含有する塗布液をノズル40から噴霧し、得られた塗膜を乾燥させることにより、基板１上に光学膜を形成する方法であって、基板１を8,000 rpm以上のほぼ一定の速度で回転させながら、基板１に塗布液を噴霧した後、治具20の軸ぶれを50μm以下に保持しながら、基板１を上記ほぼ一定の速度で回転させて塗膜を形成する方法。
（もっと読む）

【課題】傾斜角が大きい光学部材に対して、均一な光学膜を再現性良く形成する方法及び装置並びにその光学膜を有する光学物品を提供する。
【解決手段】基板１を回転自在な治具20に取り付け、基板１を回転させながら、基板１に光学膜成分を含有する塗布液をノズル40から滴下し、得られた塗膜を乾燥させることにより、基板１上に光学膜を形成する方法であって、基板１を8,000 rpm以上のほぼ一定の速度で回転させながら、基板１に塗布液を滴下した後、治具20の軸ぶれを50μm以下に保持しながら、基板１を上記ほぼ一定の速度で回転させて塗膜を形成する方法。
（もっと読む）