【課題】２つの連続するチップ間の距離を最小化する、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドを設計する。
【解決手段】本発明は、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドに関する。このモールドは、第１材料製の層を備え、この層は、第１面上に第２の剛体材料製の層を含み、第１面と反対側の面上に第３の剛体材料製の層を含み、第２の剛体材料製の層は、層内にマイクロメートルオーダー又はナノメートルオーダーのパターンを有するｎ個の構造ゾーン（ｎ≧１）が形成され、第３の剛体材料製の層は、層内に、ｎ個の構造ゾーンに対向するｎ個のくぼみが形成され、ｎ個のくぼみは第４材料で充填され、これによりｎ個の部分領域が形成され、所定波長λ_detにおける第３材料の層の透過率は、ｎ個の部分領域いずれの透過率よりも低く、第１、第２、及び第３材料の層の所定波長λ_detにおける透過率は、これらの層を通る所定波長λ_detの光の透過率が、ｎ個の部分領域の任意の１つ、第１材料製の層、及び第２材料製の層を通る光の透過率よりも小さいような透過率である。
本発明は、こうしたモールドを製造する２つの方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】石膏鋳造法による鋳造製品は、石膏鋳型の勘合の僅かなずれ及び鋳造時の押湯高さの違いにより、後加工となる機械加工原点のばらつきを生じ製品寸法がばらつくという問題があった。
【解決手段】製品寸法に収縮率を付与したマスターモデルにさらに加工代を追加した上で、加工代に冷却促進作用を有する加工基準部材１５ａ〜１５ｄを挿入したマスターモデル１を元に石膏鋳型３を作成する。この石膏鋳型を用いて鋳造製品４を製作した場合、加工基準部材が鋳造後の鋳物の収縮状態を把握する点と点をなし一連の加工基準となり、精密な構造の製品が製造可能となる。 （もっと読む）

【課題】比較的簡易に、緻密な微細パターンを有するサブマスターモールドを提供する。
【解決手段】微細パターンに対応する溝が設けられたインプリント用の元型モールド３０からサブマスターモールド２０を製造する方法において、前記サブマスターモールド用の基板１上にはハードマスク層が形成され、前記ハードマスク層上に形成され且つ元型モールドの微細パターンが転写されたレジスト層４に対して、酸素ガスを用いたドライエッチングを行う微細パターン寸法変動工程を有する。 （もっと読む）

パターン化されたマスク層を有する基板を製造する方法が開示され、そのマスク層は、反復する縞などの微細な形体を備えたものである。その方法は、基板の第１の主表面上に所定のパターンを備えた転写層を有する基板を形成する工程と、第１の主表面上に転写層を有する基板を用意する工程と、本体と複数の接触部分とを有する構造化成形型を用意する工程であって、接触部分は、約０．５Ｇｐａ〜約３０Ｇｐａのヤング率を有する、工程と、構造化成形型か又は基板のいずれかを加熱する工程と、転写層を構造化成形型と接触させる工程と、転写層を冷却する工程と、転写層の各部分が、構造化成形型と共に分離するように、構造化成形型を転写層から引き離し、転写層を完全に貫いて基板まで延びる開口部を転写層内に開口部を残し、所定のパターンを備えた転写層を形成する工程とを含む。
（もっと読む）

【課題】精密転写性と離型性と離型時の強度と紫外光の透過性及びリサイクル性に優れた、ＵＶナノインプリントに好適な、樹脂スタンパを提供する。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂からなる樹脂スタンパであって、特定の芳香族ポリカーボネートおよび２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン成分からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、その割合が、全芳香族ヒドロキシ化合物のモル数を基準として２０ｍｏｌ％以上で、比粘度が０．２〜０．４、蒸留水との接触角が８５〜９５°と言う条件を同時に具備する硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパ。 （もっと読む）

【課題】新規な保護膜が形成されたレジストパターン形成用部材を提供する。
【解決手段】保護膜付きレジストパターン形成用部材は、酸化物を含む表面を有し、レジストパターン形成のためレジスト膜に密着して用いられるレジストパターン形成用部材と、レジストパターン形成用部材上に形成され、直鎖状で主鎖がパーフルオロポリエーテルを含み末端基に水酸基を含む両親媒性分子を含む保護膜とを有する （もっと読む）

オブジェクトと別のオブジェクトとの相互アライメントに用いる特定のアライメント構成を備えたオブジェクトが開示される。アライメント構成は、実質的に規則的な格子の形態の第１の微細アライメントマークと、第１のアライメントマークと同じエリア内に位置する第２の粗アライメントマークとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノインプリントモールドを光硬化樹脂からなる樹脂層から離型する時の樹脂層やモールドの破損を防止するパターン形成方法等を提供する。
【解決手段】本発明に係るナノインプリントによるパターン形成方法は、基材上に光硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、凹凸パターン部を有するモールドを前記樹脂層に押し当て、前記モールドの外周に向かって光の照射量が大きくなるように、前記樹脂層に光を照射し、前記樹脂層に光を照射した後、前記樹脂層から前記モールドを離型することを特徴とするナノインプリントによるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】インプリントテンプレートアライメントマークを改善する。
【解決手段】アライメントマークを備えたインプリントリソグラフィテンプレートが提供される。アライメントマークは、インプリントリソグラフィテンプレートの屈折率とは異なる屈折率を有する誘電体材料から形成され、誘電体材料は、誘電体材料を通過したアライメント放射と誘電体材料を通過しなかったアライメント放射との間に位相差を生じるような厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】セグメント素材25に対し機械加工を行うとき、該セグメント素材15の芯出しを容易かつ高精度で行う。
【解決手段】セグメント素材25の型付け面12よりタイヤ幅方向両外側の内周面11、即ち両側の側方面27に少なくとも合計３個（ここでは４個）の基準部位としての突起28を成形したので、該突起28を用いれば（突起28を加工台に接触させれば）、機械加工時におけるセグメント素材25の姿勢を容易に決定すること、即ち、セグメント素材25の芯出し作業を容易に行うことができ、作業能率が向上するとともに、芯出し精度を高精度とすることができる。 （もっと読む）

【課題】微細な格子状突起パターンあるいはそれに類似の突起パターンを表面に有する微細構造体を簡便かつ安価に、しかも高い寸法精度で歩留まりよく製造できるとともに、高い寸法精度及び良好な寸法安定性、特に湿度変化に対する良好な寸法安定性を同時に満足させ得るような可とう性成形型を提供すること。
【解決手段】可とう性成形型が、ポリマー材料及び強化材の複合材料からなる支持体と、前記支持体によって支持された、微細構造表面をその表面に備えた賦形層とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】小さな型に形成されている微細な転写パターンを用いて複数回の転写を行い、多数個型を製造する多数個型の製造方法において、多数個型に形成されている微細な転写パターンの間隔を小さくする。
【解決手段】スピンオンガラスＷ２を、基材Ｗ１の面に膜状に設けるスピンオンガラス設置工程と、スピンオンガラス設置面よりも面積が小さい平面状の部位に微細な転写パターンが形成されている型Ｍ１で、スピンオンガラス設置面を押圧する動作を複数回繰り返して行い、スピンオンガラスＷ２の複数箇所に、型Ｍ１に形成されている微細な転写パターンを転写する転写工程と、スピンオンガラスＷ２に微細な転写パターンが転写された基材を用い、電鋳により、インプリント用型Ｍを生成するインプリント用型生成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ハードマスク層に対するドライエッチングの進行をスムーズに行うことができ、高いパターン精度で微細パターンを形成するインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１への溝形成部分以外の部分のハードマスク層を除去する残存ハードマスク層除去工程を有し、前記残存ハードマスク層除去工程は、基板の一部に一次レジスト層５１を形成する工程と、前記一次レジスト層形成部分以外の部分のハードマスク層に対してドライエッチングを行い除去する工程と、前記一次レジスト層を除去する工程と、前記基板上における、前記一次レジスト層が形成されていた部分以外の少なくとも一部に二次レジスト層５２を形成する工程と、前記一次レジスト層が形成されていた部分のハードマスク層に対してドライエッチングを行い除去する工程と、前記二次レジスト層を除去する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レンズアレイに成形される光硬化性の成形材料の各部を均一に硬化させる。
【解決手段】光硬化性の成形材料Ｍで複数のレンズ部６が配列されたレンズアレイ１０を形成するレンズアレイ用成形型２０であって、光を透過するガラス又は樹脂材料で形成されている。レンズアレイ１０は、光硬化性の成形材料Ｍに成形型２０を押し付けて成形型２０の形状を転写し、その状態で成形型２０を通して光Ｌを照射されて硬化され、製造される。 （もっと読む）

【課題】微細領域を有する３次元形状物の成形に際して、その成形に用いられる金型中子を効率よく製作する。
【解決手段】３次元形状物の平面投影形状に対応する形状の遮光マスク２を光透過性の基板１に形成し、基板１の一方の面に遮光マスク２を覆ってレジスト層４を形成する。グレースケールマスクを用いてレジスト層４を露光して現像することにより、本体部４ａおよび平板状部４ｂを有する立体形状にレジスト層４を加工する。レジスト層４に対して基板１を通して露光し、レジスト層４を現像することにより、本体部４ａの近傍を除くレジスト層４の平板状部４ｂを除去して、本体部および平板部を有する立体形状のレジスト母型を製作する。このレジスト母型を用いて、レジスト母型の立体形状を反転させた立体形状の凹部を有する電鋳スタンパーを製作する。電鋳スタンパーのパターン面を削ることにより、レジスト母型の平板部に対応する部位を除去する。 （もっと読む）

【課題】モールドをレジスト層から引き剥がす際にかかる応力を抑制することでレジスト層やモールドの損傷を抑制する剥離板、モールド構造体及びインプリント方法を提供。
【解決手段】本発明のインプリント方法は、加熱すると屈曲する剥離板を備えるモールド構造体を、加工対象物の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物からなるレジスト層に押圧して前記モールド構造体に形成された凹凸パターンを転写する転写工程と、剥離板を加熱して第１の金属層を熱膨張させ、前記モールド構造体の端部を押圧方向と反対方向に屈曲させて前記レジスト層と前記モールド構造体とを剥離する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より微細な転写パターンを形成するのに適したインプリント方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリト方法によれば、複数回のインプリントモールドの押圧にあたり、既に凸部を用いて押圧された部位同士に挟まれた位置に対応する部位に、インプリントモールドの凸部を押圧する。これにより、インプリントモールドに形成された凹凸パターンのパターン幅よりも微細な転写パターンを得ることが出来る。よって、用いるインプリントモールドの製造時の加工精度の限界よりも更に微細な転写パターンを得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示し、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された、凹凸表面を有する防眩層とを備え、空間周波数０．０１６μｍ^-1における該防眩フィルムの複素透過関数のエネルギースペクトルＴ₁²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₁²／Ｔ₂²が６０００以下であり、空間周波数０．１０８μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₃²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₃²／Ｔ₂²が３以上２０以下である防眩フィルム、その製造方法および当該防眩フィルムの製造方法に好適に用いられる金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】十分な排気を確保できる排気機構を、少ない加工工程で形成できるタイヤ加硫用モールドの製造方法およびタイヤ加流用モールドを提供する。
【解決手段】石膏鋳型１１の表面１１ａに溶融金属Ｍを流し込んで固化させて石膏鋳型１１の表面１１ａを転写したモールドを製造する際に、空洞内部７ａを外部に連通させるスリット８を有する筒状体７を、スリット８が石膏鋳型１１の表面１１ａに接するように配置した後、石膏鋳型１１の表面１１ａに溶融金属Ｍを流し込んで固化させることにより、筒状体７をモールドに埋設するとともに、スリット８をモールドのタイヤ成形面に露出させる。 （もっと読む）