【課題】ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。
【解決手段】実施形態のテンプレート１０は、第１凹凸パターンに硬化剤を充填して硬化させることにより第１凹凸パターンを硬化剤に転写して硬化剤からなる第２凹凸パターンを被加工層上に形成するインプリントに用いるテンプレートである。このテンプレート１０は、基板の一面側に第１凹凸パターンを備える。第１凹凸パターンは、凹部の底面の高さ位置が略同一であり、凹部の底面からの高さが異なる２種類以上の凸部１１ｐａ、１１ｐｂを有する。 （もっと読む）

【課題】十分な排気を確保できる排気機構を必要な場所に容易に形成できるタイヤ加硫用モールドの製造方法およびこの方法で得られるタイヤ加流用モールドを提供する。
【解決手段】金属薄板をその両端部を重ね合わせて筒状に形成して重ね合わせた部分にスリット５を設けたパイプ体４の内部に、易崩壊性耐火材料Ｐを詰めた状態にして、スリット５に石膏鋳型１０の表面１０ａに突設されたシム８を挿入してパイプ体４を表面１０ａに配置した後、その表面１０ａに溶融金属Ｍを流し込んで固化させて、パイプ体４が、そのパイプ軸方向両端開口部が固化した溶融金属Ｍで塞がれた状態で鋳込まれるとともにシム８が表面から突設されたモールドを鋳造し、その後、鋳込まれたパイプ体４に連通する排気孔をモールドに形成して、この排気孔を通じてパイプ体４に詰めた易崩壊性耐火材料Ｐを除去するとともに、シム８をスリット５から引き抜く。 （もっと読む）

【課題】非対称の形状をしたレンズを有するマイクロレンズシートの製造に用いられる成形型を製造する方法を提供する。
【解決手段】
母材５１にレジストを塗布して、マスク６５を形成する（ステップＳ２）。マスク６５に形成される開口６６の形状を設定する形状設定工程が行われる（ステップＳ３）。レーザが、設定された形状に基づいてマスク６５に照射され、複数の開口６６がマスク６５に形成される（ステップＳ４，Ｓ５）。ステップＳ３において設定される開口６６は、仮想分割線６６ｙにより分割される第１領域６６Ｒ及び第２領域６６Ｌを有する。仮想分割線６６ｙは、開口６６を線対称に分割する仮想二等分線６６ｘに直交する。第１領域６６Ｒの面積は、第２領域６６Ｌの面積よりも小さい。第１領域６６Ｒにおけるエッチング速度が、第２領域６６Ｌにおけるエッチング速度よりも小さくなるため、左右非対称の凹部６２が、銅めっき層６４に形成される。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク記録媒体の磁気情報の記録および再生の精度が低下しないスタンパまたは磁気転写マスターの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）表面にレジスト膜を有する円環状基板を提供する工程と、（ｂ）電子線リソグラフィー法を用いて前記レジスト膜中にダミーパターンを有する凹凸パターンを形成する工程と、（ｃ）前記レジスト膜を現像して、前記描画パターンとダミーパターンを有するレジスト原盤を形成する工程と、（ｄ）前記レジスト原盤に電鋳を行い、ダミーパターンを有する電鋳マスターを形成する工程と、（ｅ）前記電鋳マスターからダミーパターンを除去して、円環状磁気ディスク記録媒体製造用のインプリントスタンパを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学素子の材料によらず優れた反射防止特性を有し、かつ耐摩耗性及び耐久性に優れた光学素子及びそれを少ない工程で簡単に製造する方法を提供する。
【解決手段】二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、細孔構造を基材10の表面に転写してなり、細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部12aからなる二次元周期構造体12が基材10の表面に設けられており、円柱状凸部12aの周期が使用する光の波長以下である光学素子。 （もっと読む）

【課題】剥離性、耐久性に優れたスタンパーを提供する。
【解決手段】基板、触媒活性をもつ導電性下地層、及び触媒活性をもたない凸状パターンが順に形成され、かつ触媒活性を有する導電性下地層が露出した領域を有する原盤を用い、凸部パターン間及び導電性下地層が露出した領域に無電解めっきにより非晶質導電層を堆積させてスタンパー凸部を形成し、非晶質導電層及び導電性下地層を電極として凸状パターン及び非晶質導電層からなるスタンパー凸部上に電気めっきを行い、結晶性金属からなるスタンパー本体を形成し、及び原盤からスタンパー凸部及びスタンパー本体からなるスタンパーを剥離するスタンパーの形成方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント耐性を十分に備えながらも、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定のパターンを被転写物に転写するための元型モールド３０に離型層が設けられる離型層付きモールドにおいて、前記離型層に含まれる化合物の分子鎖における主鎖にはフルオロカーボンが含まれ、前記化合物の分子鎖は、元型モールドに対して吸着している吸着官能基を少なくとも２個以上有し、前記吸着官能基において、前記吸着官能基と元型モールドとの吸着の元となる結合エネルギーが、前記化合物の分子鎖における吸着官能基同士の結合エネルギーよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】十分な排気を確保できる排気機構を、少ない加工工程で形成できるタイヤ加硫用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】空洞内部７ａを外部に連通させるスリット８を有し、溶融金属Ｍと同じ金属で形成された筒状体７を、その空洞内部７ａに易崩壊性耐火材料Ｐを充填した状態にして、スリット８が石膏鋳型１１の表面１１ａに接するように配置した後、石膏鋳型１１の表面１１ａに溶融金属Ｍを流し込んで固化させることにより、筒状体７を製造されるモールドに埋設するとともに、スリット８をモールドのタイヤ成形面に露出させ、溶融金属Ｍが固化した後に易崩壊性耐火材料Ｐを除去して、石膏鋳型１１の表面１１ａを転写したモールドを製造する。 （もっと読む）

【課題】表面に小面積の微細凹凸構造を有する金型を用いたモールドの製造方法において、バッチ式での賦型・転写により表面平坦性が高い大面積モールドを製造可能なモールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】金型３２の微細凹凸部３３に光硬化性樹脂を充填した後に、微細凹凸部の領域よりも相似的に縮小した開口部３７ａを有するマスク３７を用い、微細凹凸部３２の中心と開口部３７ａの中心とを概略一致させて、露光・硬化して微細凹凸構造部３６を形成する第１転写工程と、前工程で形成した微細凹凸構造部３６の端部に微細凹凸部３２の境界３３ａが隣接するように金型３２を配置した後に、微細凹凸部３３の領域よりも相似的に縮小した開口部４２ａを有するマスク４２を用い、微細凹凸部３３の中心と開口部４２ａの中心とを概略一致させて、露光・硬化して微細凹凸構造部４３を形成する第２転写工程と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形用の成形金型において、成形金型を再生して繰り返し成形できるようにすること。
【解決手段】離型膜２５と共有結合する中間膜２４と、金型母材を構成する転写面加工層２２や本体部分２１との間に、エッチング液に対する耐性を有し１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の膜厚を有する保護膜２３を設けるので、離型膜２５を中間膜２４とともにエッチング液によって除去する際に、転写面加工層２２等をエッチング液から保護することができる。これにより、離型膜２５の付着性を下地の中間膜２４によって高めたタイプの成形金型４０においても、中間膜２４と離型膜２５とを一旦除去して再度形成する成形金型の再生が可能になる。ここで、保護膜２３が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下と、比較的薄いので、転写面加工層２２等における母材転写面２２ａの形状が保たれ転写精度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板２上にハードマスク層３を有するマスクブランクス１において、前記ハードマスク層１は、前記基板２の側から第一層５と第二層６とが配される積層構造を有する。前記第一層５は、前記基板２に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層６は、前記第一層５に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層３上に形成されるレジストパターン４をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント方法において、光硬化性組成物の揮発を抑制しつつ、残留気体を低減する。
【解決手段】凹凸を有するモールドと、基板上に形成した光硬化性組成物層とを密着させて凹凸の形状を光硬化性組成物層に転写するナノインプリント方法において、モールドおよび基板のいずれか一方または両方が石英からなり、モールドと光硬化性組成物とを、それらの間に、１０ｋＰａ以上９０ｋＰａ以下の気圧を有し、かつ、少なくとも７０体積％がＨｅからなる気体を介在させた状態で密着させる。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる金型製造方法およびその方法により形成された金型を提供する。
【解決手段】微細構造を有した無機薄膜１上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤から構成された自己組織化膜２を形成するステップと、前記自己組織化膜２上に通電層３を形成する通電層形成ステップと、前記通電層３上に電解めっきにより金属膜４を形成するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。
【解決手段】パターン１７の角隅部にマイクロトレンチ１８を有するインプリントモールド１６を用いて、壁状の突起２６（微小突起）を有するパターン転写体２０を形成し、該壁状の突起２６を有するパターン転写体２０をエッチングマスクとして基材２１をエッチングすることによって、基材２１に微細なパターン２７を好適に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線を透過するガラス基板２とその一表面上に形成された透明導電膜３、貫通孔６の底部に形成された金属膜４と傾斜部を有する硬化した厚膜フォトレジスト５から構成されており、電鋳時に透明導電膜３により導通がとれるようになっている （もっと読む）

【課題】ベントホールの単位面積当たりのすき間の割合を容易に増大させて、排気効率を向上させるとともに、安定した排気を確保できる加硫用モールドを提供する。
【解決手段】蛇腹状に折り畳んだ金属プレート５を、蛇腹状に屈曲した一方側面をベントホール４の開口側に向けてベントホール４に埋設することで、蛇腹状に屈曲して隣り合う金属プレート５どうしの間にすき間Ｓを形成し、このすき間Ｓを通じて排気を行なう。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、視認性の低下が防止された防眩フィルムを製造するための金型を製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材１の表面２にめっき３を施すめっき工程と、金型用基材の表面に施された合金めっきを切削加工および／または研磨加工することによって表面粗さが０．１μｍ以下の鏡面を形成する鏡面４加工工程と、形成された鏡面に複数の微細凹部５を切削加工によって形成する微細凹部形成工程とを含み、上記微細凹部形成工程における複数の微細凹部の切削加工が、切削工具によって行なわれ、切削される微細凹部間の平均最隣接距離をａ（μｍ）とし、切削深さをｄ（μｍ）とした時に特定の条件を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法、ならびに得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、転写を効率よく行う。
【解決手段】微細な転写パターンＭ１が形成されている平板状のシート状モールドＭＡを移送位置決めするシート状モールド移送位置決め装置３と、シート状モールドＭＡの移送方向で上流側に設けられ、微細な転写パターンＭ１を被成型品Ｗに転写する転写装置５と、シート状モールドＭＡの移送方向で下流側に設けられ、転写装置５による転写がされシート状モールド移送位置決め装置３による移送がされた後、お互いが貼り付いているシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを引き剥がす引き剥がし装置７とを有する転写システム１である。 （もっと読む）

【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】スタンパ製造時における微細パターンの局所的な変形を防止することであって、最終的に得られる成形品における微細パターンを当初の狙い通りに形成すること。
【解決手段】（ｉ）スタンパの微細パターンＡの反転形状に相当する微細パターンＢが形成されたレジストマスタを用意する工程、および、（ｉｉ）レジストマスタを母型とした電鋳を実施することによって、微細パターンＡが形成されたスタンパを得る工程
を含んで成り、工程（ｉ）で用意されるレジストマスタの微細パターン形成面においては、微細パターンＢを中心とした放射線に沿うように凹部パターンを形成しておき、工程（ｉｉ）においては、電鋳に際して生じ得る応力を凹部パターンにより緩和することを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）