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Fターム[4F202CD03]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型の製造 (4,718) | 型の製造の主要手段 (2,034) | 転写による(←鋳造) (1,017) | 原型又はモデルに特色 (152)

Fターム[4F202CD03]に分類される特許

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【課題】簡単な加工によって石膏鋳型の破損防止と石膏鋳型からのサイプ用ブレードの抜けを防止することができ、この破損防止および抜け防止に用いる部材を繰り返し使用することが可能なタイヤ加硫用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】石膏鋳型を製造する工程で、サイプ用ブレード1に設けた貫通孔2aに挿通した金属線材3を、捩じり合わせることにより取り付けた金属線材付きサイプ用ブレード1を、この金属線材3の全体をゴム型4の表面に露出させて、ゴム型4の表面の所定位置に植設した状態にして、このゴム型4の表面に石膏Pを流し込んで石膏鋳型を製造し、次いで石膏鋳型の表面に溶融金属を流し込んで石膏鋳型の表面形状を転写したモールドを鋳造した後で、金属線材3を、その捩じり合わせを解いてサイプ用ブレード1から除去する。 (もっと読む)


【課題】正確な形状のレンズ成形用型を得ることができるレンズ成形用型の製造方法を提供する。
【解決手段】液体状の感光性材料11を原型13の凹部15に供給して凹部15の表面を覆い、感光性材料11を硬化し、この硬化した感光性材料21の凹部17に液体状の感光性材料23を供給して基板7を被せ、凹部17に供給された感光性材料23を硬化し、基板7と硬化した感光性材料21,27とを原版としてレンズ成形用の型1を生成する型生成工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】ディヒューザ及びそれらに関連したディヒューザ−マスタの縁部境界である「干渉」パターンと関係する種々の問題を解決する。
【解決手段】予め選択された長さ及び幅のシームレスのディヒューザのシートを作製するための中空の円筒形のシームレスの金属マスタ(604)。本発明の追加の様相は、中空の円筒形のシームレスの反転可能なエラストマー系マスタ(402)及びそれを作る方法並びに感光媒体に可変のディヒューザの記録をもたらす装置及びプロセスを有する。 (もっと読む)


【課題】インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。
【解決手段】基材上に設けられたマスクにインプリントプロセスにより凹凸パターンを形成し、形成された凹凸パターンの凹部に対応した基材位置に、電気化学的な手法により細孔形成を行うことを特徴とする、細孔配列が制御された多孔質構造材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにて有機材料層に離間して転写される凹部の深さを異ならせる。
【解決手段】互いに高さの異なる凸部T1、T2がメサ領域に設けられたテンプレート1をマスク材3に押し当てることにより、互いに深さの異なる凹部H1、H2をマスク材3に形成し、互いに深さの異なる凹部H1、H2が形成されたマスク材3をマスクとして基板2のエッチングを行うことで、開口部K1、K2を形成する。 (もっと読む)


【課題】石膏鋳造法による鋳造製品は、石膏鋳型の勘合の僅かなずれ及び鋳造時の押湯高さの違いにより、後加工となる機械加工原点のばらつきを生じ製品寸法がばらつくという問題があった。
【解決手段】製品寸法に収縮率を付与したマスターモデルにさらに加工代を追加した上で、加工代に冷却促進作用を有する加工基準部材15a〜15dを挿入したマスターモデル1を元に石膏鋳型3を作成する。この石膏鋳型を用いて鋳造製品4を製作した場合、加工基準部材が鋳造後の鋳物の収縮状態を把握する点と点をなし一連の加工基準となり、精密な構造の製品が製造可能となる。 (もっと読む)


【課題】反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイを得る。
【解決手段】光学面に反射防止構造体14を有する複数のレンズを共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、光学面形成面12が形成されたマスター型10を準備する工程(S1)と、マスター型10の光学面形成面12に反射防止構造体14を形成する工程(S2)と、光学面転写予定面24を有するレンズアレイ基材23を準備する工程(S3)と、レンズアレイ基材23の光学面転写予定面24にマスター型10を用いて反射防止構造体14を転写する工程(S7)とを含む。 (もっと読む)


【課題】優れた光学的機能を発揮し得るとともに安定して製造され得る光学シートを提供する。
【解決手段】光学シート40は、シート状の本体部45と、本体部の一方の面46上に配列された複数の第1単位形状要素50と、本体部の一方の面上に配列され、本体部のシート面上の一方向と平行に延びる複数の第2単位形状要素55と、一つの第1単位形状要素および当該一つの第1単位形状要素に前記一方向から接続する一つの第2単位形状要素の接続箇所の少なくとも一部分を覆う接続部42と、を備える。複数の第1単位形状要素の各々は、複数の第2単位形状要素の各々および接続部よりも高い位置まで本体部の一方の面から突出している。 (もっと読む)


【課題】インプリントリソグラフィに使用するモールドの凹部の深さを均一にしつつ、モールド面内の任意位置の一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化し、製造コストを低減した上で、優れたモールド特性を実現する。
【解決手段】インプリントリソグラフィに使用するモールドを、マスクを用いたエッチングにより製作するモールド製作方法において、モールド面上に所望のパターンを形成するための第1マスクと、第1マスクを覆う第2マスクとを用いてエッチングを行い、第2マスクは、一定の面積内において、モールド面上に形成するパターンの開口率が高いほど、第1マスク開口部を覆う第2マスクの厚みが大きくなるよう設定され、エッチング時、第1マスクによるモールドのエッチングが開始時期を遅延することにより、パターンの開口率が高いほど、エッチングにより形成されるモールド凹部を一定領域内で均一に浅くし、前記一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化する。 (もっと読む)


【課題】光学素子を成形する成形型のマスタ作成の際に、材料のはみ出しを防止でき、高い精度で転写できるマスタ型及びその作成方法を提供する。
【解決手段】基板部1の表面に光学素子の形状を有する成形部が成形された成形体を作成するため、成形体の形状に一致するマスタ型であって、この型は、マスタを構成する基板31の表面に、樹脂からなる造形材料を変形させて成形部に対応する造形部の形状を形成する型面を備え、該型面は、光学素子の光学面に相当する形状を転写する転写部21と、基板31に対面する平面からなる平面部20aと、転写部21と平面部20aの間で転写部21を囲んで形成される凹部であって、転写部21と基板31の表面との間の空間に収納しきれない造形材料を収納する空間を構成する樹脂収納凹部22とからなり、転写部21の表面の樹脂10Rに対する濡れ性が、樹脂収納凹部22の表面の樹脂10Rに対する濡れ性より高い。 (もっと読む)


【課題】物品の表面にしっとりとした触感を持たせる。
【解決手段】内装品1は複数の凸曲面2を備え、この凸曲面2の表面に微細な突起3を複数均一に設ける。この突起3は、以下の(1)〜(3)の条件を満たしている。
(1) 突起3の高さHが5μm以上、32μm以下
(2) 突起3の高さHと突起3相互の間隔Pとの比H/Pが1/5から1/2の範囲、または突起3の高さHと突起3相互間に形成される凹部3相互の間隔Wとの比H/Wが1/5から1/2の範囲
(3) 突起3相互の間隔Pと凹部5相互の間隔Wとが同一(P=W) (もっと読む)


【課題】簡易な装置構成で比較的短時間に製造することのできるレンズアレイのマスターモデル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のレンズ部6が配列されたレンズアレイ10のマスターモデル40は、レンズ部6のレンズ面と同じ形状に成形された曲面をそれぞれ有する複数のレンズ相当部材42が、レンズアレイ10における複数のレンズ部6と同じ並びで配列され、一体的に連結されてなる。 (もっと読む)


【課題】患部に直接薬剤を打ち込む治療を行うための生体内適合性針状体を再現性良く高精度に製造する方法を提供する。
【解決手段】
複数のエッチング工程によって形成したマスターモールドを反転転写して形成したマスターモールドの針状体の形状を反転転写した微細孔21aを備えた針状体成型用モールド21に溶融した生体内適合性材料を充填する。生体内適合性材料が固化した後、針状体成型用モールド21取り外すことによって、先端に向かって細径化したテーパ状をなす先端部と該先端部に連なる長手方向にわたって同一径、あるいは径が小さくなる支柱部を有する生体溶解性針状体22bを製造する。
マスターモールドのエッチングにおいて、ボッシュプロセスによって任意の微細形状の支柱部を形成し、酸化シリコン膜の形成の除去を繰り返しによって、先端部の鋭角化を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】レンズアレイに成形される光硬化性の成形材料の各部を均一に硬化させる。
【解決手段】光硬化性の成形材料Mで複数のレンズ部6が配列されたレンズアレイ10を形成するレンズアレイ用成形型20であって、光を透過するガラス又は樹脂材料で形成されている。レンズアレイ10は、光硬化性の成形材料Mに成形型20を押し付けて成形型20の形状を転写し、その状態で成形型20を通して光Lを照射されて硬化され、製造される。 (もっと読む)


【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。
【解決手段】(A)樹脂、(B)酸の作用により樹脂(A)を架橋する架橋剤及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 (もっと読む)


【課題】指輪や腕輪など、中空部分のある造形物、特に略環状の造形物を、ソフトビニールで製造するための安価な金型とその製造方法、並びにその金型を用いて製造されるソフトビニール製の中空造形物とその製造方法を提供すること。
【解決手段】目的模倣物を型取りして型枠を得る型取工程と、その型枠に熱可塑性樹脂を注入して中間成形物を得る中間成形工程と、その中間成形物に電鋳を施して電鋳物を得る電鋳工程と、その電鋳物を加熱して熱可塑性樹脂を溶融させて除去し、電鋳部から成る金型を得る金型取得工程とを有し、内周部に溶融ソフトビニールを被覆可能である金型を製造する。その金型の内周部に溶融ソフトビニールを被覆して、中空のソフトビニール品を製造する。 (もっと読む)


【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下を防止でき、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムの製造方法、ならびに、当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】2種以上のセグメントからなるブロック共重合体をモデルとして、計算機シミュレーションによりブロック共重合体のミクロ相分離構造を計算する工程と、該ミクロ相分離構造に基づいて、エネルギースペクトルが空間周波数0.025〜0.125μm-1の範囲内において極大値を示すミクロ相分離パターンを作成する工程と、該ミクロ相分離パターンを用いて、透明基材上に凹凸表面を形成する工程とを含む防眩フィルムの製造方法、および当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】ナノ構造のインプリントで使用される金属製
スタンプの製造方法を提供する。
【解決手段】電解析出されたニッケルスタンプは、導電性マスタ、例えば、パターンが形成されたフォトレジストマスタの代わりのチタン金属製マスタから複製される。導電層2は、後で行われるニッケル金属の電解析出において作用電極として機能する。電気めっき後、ニッケルスタンプは、金属製マスタの導電層2からニッケル金属シートを剥離することで得られる。金属製マスタとニッケルスタンプとの間の弱い接着は、欠陥を生じることなく、ニッケルスタンプを剥離することを可能にする。 (もっと読む)


【課題】電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】厚さが4mm以下の透明な基材の裏面側あるいは内部に、基材の表面側から入射した光が基材の裏面で反射して表面側に出射するのを防止する反射防止部を形成し、基材の表面上にレジスト膜を形成して電子線描画装置内のステージ上に基材裏面がステージと対向するように配置し、基材に対して高さ検出光を照射し基材表面で反射された反射光を検出して基材の高さを検出し、検出した基材の表面位置に適するように電子線のフォーカス位置を制御しながらレジスト膜に対して電子線を照射して所望のパターン潜像を形成し、このレジスト膜を現像して得たレジストパターンをマスクとして基材に凹凸パターンを形成する。 (もっと読む)


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