【課題】Ｎｉ ｔｏ Ｎｉ電鋳において、再現性よく凹凸パターンの良好なＮｉ複盤の形成を可能とし、かつ１００ｎｍを切るスケールにおいても適用可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤１２において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層１４を備える。フッ素化合物はパーフルオロポリエーテルが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
工業的な規模で、表面にシームレスの凹凸模様を有するロールを安価に簡便に製造することを課題とする。
【解決手段】
円柱支持体に連続繊維を隙間なくスパイラル巻きにし、固定した後に、該スパイラル巻きした表面形状を内面に転写したシームレス凹凸模様を有する中空鋳型を作成し、該中空鋳型の内面形状を表面に転写することを特徴とするシームレス凹凸模様付きロールの製造方法。連続繊維は撚糸またはモノフィラメントのいずれでも良い。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、基板１１に酸化膜１２を形成する第１の工程と、第１の工程後に、感光性樹脂１４を基板１１に形成し、感光性樹脂１４は酸化膜１２を被覆する第２の工程と、感光性樹脂１４をマスクにして基板１１を選択的に除去して、基板１１に第１凹部パターン１５を形成する第３の工程と、感光性樹脂を除去した後、酸化膜１２をマスクにして基板１１を選択的に除去して、基板１１に第２凹部パターン１６を形成する第４の工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、第１基板１１を選択的に除去して第１凹部パターン１４を形成する工程と、この工程で第１凹部パターン１４が形成された第１基板１１に、第２基板１５を貼り合わせる工程と、第２基板１５を選択的に除去して第２凹部パターン１６を形成する工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外観の秀麗なデザインを具現すると共に反射防止機能を持つ反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法、及び、反射防止用ディスプレーウインドウパネルを提供する。
【解決手段】ガラスまたはシリコーンウエハー基板上に光を照射して微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階（Ｓ１０）と、マスターに電解メッキ工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレート製作段階（Ｓ２０）と、ニッケルコアプレートを下部金型コアに附着させ微細ナノパターンが形成された一面が露出する金型の準備段階（Ｓ３０）と、上部金型と下部金型との間に溶融樹脂を入れ込み急加熱及び急冷させて微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルを成型する射出成型段階（Ｓ５０）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】多数のインプリント用型を容易に得ることができる型の製造方法を提供する。
【解決手段】微細な転写パターンＭＡが形成されたマスター型Ｍ０を用い、微細な転写パターンＭＢが形成されている一次型Ｍ１を金属で生成する一次型生成工程Ｓ１と、基材３にスピンオンガラス５を設けてスピンオンガラス設置済基材７を生成するスピンオンガラス基材生成工程Ｓ３と、スピンオンガラス設置済基材を、一次型で押圧して、スピンオンガラス設置済基材に設けられているスピンオンガラスに、一次型に形成されている微細な転写パターンを転写するスピンオンガラス転写工程Ｓ５と、微細な転写パターンが転写されたスピンオンガラス設置済基材を用い、微細な転写パターンＭＣが形成されている二次型Ｍ２を生成する二次型生成工程Ｓ７とを有する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク記録媒体の磁気情報の記録および再生の精度が低下しないスタンパまたは磁気転写マスターの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）表面にレジスト膜を有する円環状基板を提供する工程と、（ｂ）電子線リソグラフィー法を用いて前記レジスト膜中にダミーパターンを有する凹凸パターンを形成する工程と、（ｃ）前記レジスト膜を現像して、前記描画パターンとダミーパターンを有するレジスト原盤を形成する工程と、（ｄ）前記レジスト原盤に電鋳を行い、ダミーパターンを有する電鋳マスターを形成する工程と、（ｅ）前記電鋳マスターからダミーパターンを除去して、円環状磁気ディスク記録媒体製造用のインプリントスタンパを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】スキンレスフォームローラの表面に良好な開口性を付与し開口性を持続して与えるに足る複合皮膜層を有した成形金型、ならびにその成形金型を用いた画像不良の発生を長期に抑制できるスキンレスフォームローラおよび効率の良いその製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくともウレタンフォーム原料と接触する表面にＮｉを含むメッキマトリックスとフッ素樹脂との分散共析物である複合皮膜層を有し、該複合皮膜層を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で照射イオンＧａ＋で測定した際に分子量１８５０以下の正イオンのトータルイオン強度に対するニッケル（Ｎｉ）および炭化フッ素（ＣＦ）の正イオン強度の百分率がそれぞれ明細書中に定義される範囲のスキンレスフォームローラ成形金型。この成形金型を用いたスキンレスフォームローラおよびスキンレスフォームローラの製造方法。 （もっと読む）

【課題】光学素子の材料によらず優れた反射防止特性を有し、かつ耐摩耗性及び耐久性に優れた光学素子及びそれを少ない工程で簡単に製造する方法を提供する。
【解決手段】二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、細孔構造を基材10の表面に転写してなり、細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部12aからなる二次元周期構造体12が基材10の表面に設けられており、円柱状凸部12aの周期が使用する光の波長以下である光学素子。 （もっと読む）

【課題】剥離性、耐久性に優れたスタンパーを提供する。
【解決手段】基板、触媒活性をもつ導電性下地層、及び触媒活性をもたない凸状パターンが順に形成され、かつ触媒活性を有する導電性下地層が露出した領域を有する原盤を用い、凸部パターン間及び導電性下地層が露出した領域に無電解めっきにより非晶質導電層を堆積させてスタンパー凸部を形成し、非晶質導電層及び導電性下地層を電極として凸状パターン及び非晶質導電層からなるスタンパー凸部上に電気めっきを行い、結晶性金属からなるスタンパー本体を形成し、及び原盤からスタンパー凸部及びスタンパー本体からなるスタンパーを剥離するスタンパーの形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、正確なドットパターンを有したインプリントモールドの製造方法、およびそれを利用した、正確なドットパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、第１の壁面および第２の壁面を有するガイドであって、少なくとも一方の前記壁面と前記基板の露出した表面とによって規定される角度が１３１°以下であるガイドを複数形成し、前記第１の壁面、前記第２の壁面および前記基板表面によって規定されるガイド溝領域に、スフェアを形成して相分離する自己組織化材料を塗布し、前記自己組織化材料を自己組織化させてドットパターンを形成し、前記ドットパターンをマスクとして、前記基板をエッチングして前記ドットパターンを転写し、前記ドットパターンが転写された前記基板を型としてインプリントモールドを形成することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 光源から離れた位置において光出射率を増大させる必要が生じ、ブラスト粒子の吹付け圧力を増大させても、レンズ頂部の形状変化を起こさず、導光体からの出射光の視野角の広がりと輝度低下を抑制し、高品位の面光源装置用導光体成形型を製造する。
【解決方法】 互いに平行に配列された複数の第１の凹溝に相当する形状を型部材を形成する工程と、電鋳法により前記複数の第１の凹溝を転写させて複数の第１の凸構造を有する第1の電鋳型を形成する工程と、第1の電鋳型にブラスト処理を施し、表面に複数の微小な凹シボが形成された凸構造を形成する工程と、電鋳法により複数の第２の凸構造を転写させて、複数の第２の凹溝を有する第２の電鋳型を形成する工程と、第２の電鋳型の複数の第２の凹溝を転写し、導光体を製造する。 （もっと読む）

【課題】生産効率を向上できるマスタの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の成形部が配列された成形体を成形する成形型を作製するのに使用されるマスタの製造方法であって、マスタ基板上に、樹脂を供給する樹脂供給工程と、供給された樹脂を一括で、成形時の圧力で変形可能で且つ変形後の樹脂の形状を保持可能な硬化状態である準硬化状態になるまで硬化させる第１硬化工程と、第１硬化工程の後で、マスタ成形型を用いて成形部の成形面と同一の形状の面を樹脂に転写する成形工程と、成形工程の後で、樹脂を更に硬化させる第２硬化工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板２上にハードマスク層３を有するマスクブランクス１において、前記ハードマスク層１は、前記基板２の側から第一層５と第二層６とが配される積層構造を有する。前記第一層５は、前記基板２に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層６は、前記第一層５に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層３上に形成されるレジストパターン４をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】鋼材を素材に用いた高強度の樹脂成形用積層金型を効率的に低コストで生産する。
【解決手段】片面当たり２.５〜５０.０μｍ厚さの銅めっき層を両面に持つ銅めっき鋼板を素材として、冷媒流路の配置に基づいて設計されたカットパターンを形成してなる複数の金属シート部材を、それぞれの銅めっき層同士が密着するように重ね合わせて積層体とする工程（積層工程）、
前記積層体を１.５〜６.０ＭＰａの積層方向圧力が付与された状態として、１０Ｐａ以下の減圧雰囲気下で７８０〜９５０℃に加熱保持することにより、各銅めっき層密着部分で拡散接合させる工程（拡散接合工程）、
を有する樹脂成形用積層金型の製造法。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を効率的に製造することができる金型製造装置を提供する。
【解決手段】前記無機薄膜５上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜４０を形成する自己組織化膜形成部２と、前記自己組織化膜４０の表面を洗浄する洗浄部３と、前記自己組織化膜４０上に通電層４１を形成する通電層形成部４とを備え、前記自己組織化膜形成部２、洗浄部３、および通電層形成部４は不活性ガス雰囲気に保持されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線に対して透過性を有する基板２と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜３と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第１のフォトレジスト層４の上面に向かって傾斜する第１の貫通孔を有する第１のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線を透過するガラス基板２とその一表面上に形成された透明導電膜３、貫通孔６の底部に形成された金属膜４と傾斜部を有する硬化した厚膜フォトレジスト５から構成されており、電鋳時に透明導電膜３により導通がとれるようになっている （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる金型製造方法およびその方法により形成された金型を提供する。
【解決手段】微細構造を有した無機薄膜１上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤から構成された自己組織化膜２を形成するステップと、前記自己組織化膜２上に通電層３を形成する通電層形成ステップと、前記通電層３上に電解めっきにより金属膜４を形成するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止しうる防眩フィルムを製造するための金型を製造する。
【解決手段】防眩フィルム製造用金型の製造方法であって、第１めっき工程と、研磨工程と、感光性樹脂膜形成工程と、露光工程と、現像工程と、第１エッチング工程と、感光性樹脂膜剥離工程と、第２めっき工程とを含み、前記感光性樹脂膜形成工程において、感光性樹脂膜の膜厚の変動係数が１０％未満になるように感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜が形成されることを特徴とする。 （もっと読む）