【課題】本発明は、ナノインプリントのレジスト及びナノインプリントの方法に関する。
【解決手段】本発明のナノインプリントのレジストは、超分岐ポリウレタンオリゴマーと、ペルフルオロポリエーテルと、メタクリル酸メチル樹脂と、有機希釈剤とを含む。また、本発明は、前記ナノインプリントのレジストを利用して、ナノインプリントを行う方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】単官能モノマーのみで硬化させると、膜の硬化性が悪く、一方、官能数を増やすと硬化するが、硬化収縮性が大きくなりやすかったので良好なパターン転写を行うパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を提供する。
【解決手段】イソボルニルアクリレートが８０ないし９５重量％、３官能アクリレートが１ないし２０重量％、及び重合開始剤が０．５ないし６重量％含まれるパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料６を使用する。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン転写を行っても良好なパターン形成性、および基板加工用途に用いた際にエッチング後のラインエッジラフネスが良好であるインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体を少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、
前記（Ａ）重合性単量体が、フロロアルキル基およびフロロアルキルエーテル基から選ばれる含フッ素基を少なくとも２つ含有し、かつ、該含フッ素基の少なくとも２つは、炭素数２以上の連結基により隔てられている化合物であることを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 化粧板表面のレザータッチのような触感があり、指紋が目立たないメラミン化粧板を得る。
【解決手段】 フッ素樹脂又はアクリル樹脂と、シロキサンとが複合化されたシロキサングラフト型ポリマーにプラスチックビーズを分散させた樹脂液を、プラスチックフィルムに塗布、乾燥して転写シートを得る。次いで、樹脂含浸コア紙、樹脂含浸化粧パターン紙、必要に応じて樹脂含浸オーバーレイ紙、転写シート、賦型板を順次積層し、熱圧成形する。プラスチックビーズとして、平均粒子径が６〜１４μｍのウレタンビーズを用い、シロキサングラフト型ポリマー１００重量部に対して１０〜５０重量部配合する。転写シートに塗布する際は、乾燥膜厚が５〜１０μｍとなるように塗布する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの表面凹凸模様を有する、光起電装置のためのポリマカバープレートを製造する方法に関し、前記少なくとも１つの表面凹凸模様の構造が、それぞれの構造が少なくとも０．５ｍｍの高さを有するような構造から形成されており、前記方法は、以下のステップ、すなわち：ポリマを熱によって軟化させるステップと、軟化したポリマを、所望の表面凹凸模様の反転した模様を有する金型に、圧力を介して接触させるステップと、ポリマと金型との間の圧力を維持しながら、前記軟化したポリマを硬化させるステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成
物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する光ナノインプリン
トリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）光重合開始剤が、第一の活性光
線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記（Ａ）光重合性化合物が、２以上
の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断さ
れる結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】シリコンエッチングマスタを用いることによる微細パターン形状の自由度の高さを活かしつつ、インプリント等の方法で樹脂複製版を作製するのが困難な場合に、樹脂層にパターンを複製して金属モールドを形成するナノインプリント用モールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】シリコン基板表面に所望の形状を有するシリコン微細パターンを形成した、シリコンエッチングマスタを製造し、シリコンエッチングマスタの表面に樹脂層を形成し、樹脂層の表面を部分的に除去することによって、シリコンエッチングマスタの微細パターンの表面を露出し、露出したシリコン微細パターンをエッチングすることによって、シリコン基板上の樹脂層に所望の形状の樹脂層微細パターンを形成した複製版を製造し、複製版を用いて電鋳を行い、金属製のモールドを製造することを特徴とするナノインプリント用モールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポリマー表面に微細パターンを形成する際に必要なエネルギーを少なくし、凹凸パターンを有するポリマーシートをより簡単に低コストで作製する方法を提供する。
【解決手段】水系のポリマーラテックスを基材上に塗工する塗工工程、塗工したポリマーラテックスを乾燥させてポリマーシートを形成する乾燥工程、およびポリマーシートに凹凸型のパターンを有するモールドを押し当てる転写工程を含む、凹凸パターンを有するポリマーシートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】記録ヘッドなどの形状に応じてトラック幅などを最適に設計し得るパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に、ジブロックコポリマーを含有する組成物膜を形成する工程と、前記ジブロックコポリマーを含有する組成物膜を第１の方向にシリンダー状またはラメラ状に相分離させて、第１の方向に延びる第１の相の成分を含む易エッチング領域を形成する工程と、前記相分離したジブロックコポリマーを含有する組成物膜の上に、レジスト膜を形成する工程と、電子線描画または光露光により、前記レジスト膜に、前記第１の方向に交差する第２の方向に延びるパターンを形成する工程と、電子線または光露光によりパターン形成したレジスト膜と前記第２の相の成分を含む耐エッチングパターンとをマスクとして前記基板をエッチングする工程とを具備することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポリマーフィルム表面相互作用を改良する。
【解決手段】本プロセスにおいて、ポリマーキャリア目的物は、光重合性化合物、重合を開始する性能を有する光開始剤又は触媒、及び半フッ素化分子を含む化学組成物で被覆される。そのように形成されるポリマー型は半フッ素化部分を有し、これは表面上及びパターン形成された表面の近傍領域に多く存在する。このポリマー型はナノインプリントリソグラフィープロセスにおける改良された性質を有するテンプレートとして適する。 （もっと読む）

【課題】常温（０℃〜５０℃）での圧力の付与により良好に成形可能であり、かつ成形エネルギーを低減でき、高解像のパターンを再現性よく得ることができるインプリント材料及び該インプリント材料を用いたインプリント方法の提供。
【解決手段】インプリントによりモールドの凹凸パターンを転写するのに用いられるインプリント材料であって、圧力の付与により流動性を示し、成形可能な圧力可塑性ポリマーを含有インプリント材料である。該圧力の付与が、０℃〜５０℃の温度で行われる態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】二酸化炭素気体の高圧を維持しながら駆動させるための複雑な駆動装置を用いずに、短時間で、樹脂成形体表面に微細な凹凸パターンが形成された金型転写面を高精度に転写できる樹脂成形品を製造する製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】減圧弁１２を開放することによって、密閉容器４内の圧力を大気圧まで減圧させる。この時、樹脂成形体１０１中に含浸された二酸化炭素気体Ｇが金型２を透過して樹脂成形体１０１中から吸引、排出されると共に、この吸引力によって二酸化炭素気体で可塑化された樹脂成形体１０１の表層部が、金型２の方向に吸引されて、金型２の転写面３に形成されたマイクロレンズアレイのパターン形状が高精度で樹脂成形体１０１の表面に転写される。樹脂成形体１０１から二酸化炭素気体Ｇが放出されるため、マイクロレンズアレイのパターン形状が転写された状態で樹脂成形体１０１が固化する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光の照射領域の樹脂成形品の表面とレーザー光を照射しない部分とで色目が異なる、意匠性に富んだレーザーエッチング品の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー光照射によりレーザー光３が照射された領域が変色する樹脂成形品１の上に加飾層２が積層された加飾成形品６に対し、表面に加飾層２が積層された側から加飾成形品６の一部にレーザー光３を照射して、レーザー光３が照射された領域の加飾層２を除去し、さらにレーザー光３の照射を継続してその領域の樹脂成形品表面を変色させることにより変色部４を形成する。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性に優れ良好なパターンが形成でき、且つエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンを提供する。
【解決手段】重合性単量体と、光重合開始剤と、トリフロロメチル基を有する繰り返し単位を含む（メタ）アクリレート系ポリマーとを含有し、前記（メタ）アクリレート系ポリマーを前記重合性単量体に対し０．０１〜２０質量％含むことを特徴とするナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】真空成形工程などの後工程において、表面の艶変化が極めて小さいエンボス加工の施された加飾シートの製造方法を提供する。
【解決手段】光沢度２０以上の透明樹脂フィルムからなる基材上に少なくとも印刷層と接着剤層を有する加飾シートを加熱し、賦形用凹凸模様が施されたエンボスロール１５と加圧ロール１４との間に挿入し、加圧することで接着剤層側に凹凸模様を賦形するエンボス加飾シートの製造方法であって、凹凸模様が賦形される前の透明樹脂フィルムの光沢度と加圧ロールの光沢度の差を±１０以内とし、かつ加圧ロールを冷却することを特徴とするエンボス加飾シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 電子デバイス、光学部品、記録媒体等の作製に有用なナノインプリントプロセス法であって、このような微細なパターンを有する製品を、安価で、且つ高速に製造することが可能な凹凸パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 微細な凹凸パターンを有するスタンパの該表面を、光硬化性転写シートの転写層に、載置、押圧して、積層体を形成する工程；スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、転写層の表面に微細な反転凹凸パターンを有する中間スタンパを得る工程；中間スタンパの反転凹凸パターンの表面を、光硬化性転写シートの転写層に載置、押圧して、積層体を形成する工程；及び中間スタンパを有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させ、次いで中間スタンパを除去することにより、転写層の表面にスタンパと同一の微細な凹凸パターンを有する光硬化性転写シートを得る工程；を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント性、基板密着性、インプリント性、エッチング適正、基板密着性、耐熱性（着色）に優れたナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性単量体と、（Ｂ）光ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）ウレタン化合物とを含有する組成物であって（但し、（Ａ）光重合性単量体と、（Ｃ）ウレタン化合物は１種類の化合物が兼ねる構成であってもよい）、前記（Ａ）光重合性単量体が有する９８モル％以上の光反応性基の、反応率が５０％以上であり、実質的に溶剤を含まず、かつ、組成物の粘度が３〜１００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする光ナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】転写率および生産性の高いエンボスシートの製造装置およびその方法を提供すること。
【解決手段】エンボスロール３００は、外周表面にエンボスパターンが形成された回転ドラム３１０と、回転ドラム３１０の両側に取り付けられたシールリング３２０と、回転ドラム３１０およびシールリング３２０を支持する長手状の支持部材３３０と、回転ドラム３１０の内部で支持部材３３０に固定された加熱手段としての加熱装置３４０と、回転ドラム３１０の内部に貯められた冷却手段としての冷却オイル３５０と、冷却オイル３５０を循環させる循環装置３６０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】使用する樹脂の種類および／またはその分子量から影響を受けることなく、樹脂にモールドの反転形状を忠実に形成することができる、ナノインプリントを利用した微細凹凸構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１２に、樹脂１４を載置する工程と、上記樹脂に対して、ナノレベルの微細な凹凸を備えるモールド１６を押圧する工程とを含み、上記樹脂のΘ状態での回転半径をＲｇとするとともに、上記樹脂が入り込む上記モールド凹部の最小サイズをＬとした場合に、Ｌ／Ｒｇを３以上とする。 （もっと読む）

【課題】硬化性組成物を経時した際にも安定してパターンが形成できる高い経時安定性を有し、かつ、基板加工用途に求められる高いエッチング耐性を有するインプリントリソグラフィに用いられるインプリント用硬化性組成物の提供。
【解決手段】一種以上の重合性単量体と、光重合開始剤とを含有するインプリント用硬化性組成物であって、前記重合性単量体として少なくとも一種の下記式で表される重合性単量体（Ａｘ）を含有し、（Ａ）下記式で表される重合性単量体（Ａｘ）を全重合性単量体に対し、４５質量％以上含有する及び／又は（Ｂ）２５℃において固体である重合性単量体と２５℃における粘度が７０ｍＰａ・ｓ以上である重合性単量体との合計含有量が、前記インプリント用硬化性組成物に含まれる全重合性単量体の５０質量％未満の条件を満たす。
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