【課題】 表示装置に用いても表示ムラの発生しない微細パターンを提供可能なナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、硬化後の鉛筆硬度が２Ｈ以上である、ナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】硬化性が良好であり、経時保存安定性に優れ、特に硬化後のパターン精度低下抑制の観点で経時保存安定性に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）光重合開始剤、および（Ｃ）重合禁止剤を含み、かつ、該重合禁止剤の添加量が該重合性単量体に対して重量で３００ｐｐｍ〜５％であることを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】モールド構造体の複製を１回のインプリントで高精度に行え、欠陥の発生が少なく、微細パターンを効率よく形成することができるパターン形成方法、基板加工方法、モールド構造体の複製方法、及びモールド構造体の提供。
【解決手段】被パターン形成体、及び表面に凹凸部を有するモールド構造体の少なくともいずれかに活性種供給源を付与する活性種供給源付与工程と、前記モールド構造体の凹凸部を前記被パターン形成体に押圧して、前記活性種供給源を前記モールド構造体の凹部に封入する押圧工程と、前記モールド構造体及び前記被パターン形成体のいずれかを通して励起光を照射し、前記凹部に対応する被パターン形成体を酸化分解する酸化分解工程と、を少なくとも含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

（a）第一の面上に規定のインプリント表面パターンおよび第一の面と反対側の第二の面上に規定のインプリント表面パターンを有するインプリント基板金型を提供する段階;（b）ポリマー構造をインプリント基板金型の第一の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階;ならびに（c）別のポリマー構造をインプリント基板金型の第二の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階を含む、ポリマー構造上にインプリントを作製する方法が開示される。

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【課題】不可逆的な接着や欠陥が発生することなく、基板から容易かつ反復的に離型され、他の樹脂層にサブミクロンのパターンを形成するのに十分高いモジュラス、優れた化学安定性および寸法安定性を有する多層構造の有機モールドを実現できるようにする。
【解決手段】他の樹脂層に微細パターンを形成するための多層構造の有機モールドは、シート状の支持体層と、支持体の上に形成され、活性エネルギー硬化型の樹脂組成物からなり、微細パターンを有する有機モールド層とを備えている。 （もっと読む）

【課題】簡易な手法により成形面に凹凸構造が形成された光学素子成形用の金型を製造する方法等を提供する。
【解決手段】母材１１にマスク膜１２を成膜する工程と、ブロックポリマーにより形成され二相よりなる自己組織化膜１３をマスク膜１２上に形成する工程と、自己組織化膜１３のうち分散相１５を除去する第１エッチング工程と、第１エッチング工程により除去した分散相１５に対応する部分のマスク膜１２を除去する第２エッチング工程と、第２エッチング工程により除去したマスク膜１２に対応する部分の母材１１の表面部分を除去することで母材１１に凹凸構造を形成する第３エッチング工程と、を有することを特徴とする光学素子成形用の金型１０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた光の反射防止性能や優れた光の透過性能を有する反射防止膜に要求される表面形状と物性を見出し、かかる特定の表面形状と物性を有する反射防止膜とその反射防止膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られ、その表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在し、かつヘイズが１５％以下であることを特徴とする反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】高温の曲げ加工条件においても、接着層の劣化または分解による気泡、白化、剥離を生じず、屋外や車中の厳しい条件下でも使用出来る、透明性、接着力、耐熱性、耐湿性および曲げ加工性に優れたポリカーボネート樹脂積層体を提供する。
【解決手段】２層以上のポリカーボネート樹脂フィルムおよび／またはシートを、（Ａ）（メタ）アクリレートモノマー、（Ｂ）（メタ）アクリレートオリゴマーおよび（Ｃ）アクリルアミド誘導体と、（Ｄ）シラン化合物および／または（Ｅ）有機リン化合物とを含有する曲げ加工性に優れた(メタ)アクリレート系接着剤組成物を用いて積層してなる厚さ０．１ｍｍ〜３０ｍｍの積層体において、該積層体を１３０℃〜１８５℃、積層体の上下表面温度差２０℃以内で加熱した後、該積層体を曲率半径１０ｍｍ以上の曲面に曲げ加工することを特徴とするポリカーボネート樹脂積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】成形時の幅方向の厚さ分布が大きい樹脂シートを製造した際に、反りや歪みのない樹脂シートの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】溶融した樹脂をダイ１２からシート状に押し出す押出工程１１２と、押し出した樹脂シート１４を型ローラ１６とニップローラ１８とでニップして偏肉成形しながら冷却して固化する成形冷却工程と、型ローラ１６から剥離した樹脂シートを徐冷する徐冷工程１１６と、を備え、成形冷却工程１１２及び徐冷工程１１６前の少なくとも一方において、樹脂シート１４の幅方向の温度分布が均一となるように、噴霧ノズル３０が設けられた液体噴霧手段で液体を吹き付けて樹脂シートを冷却する噴霧冷却工程を有するようにする。 （もっと読む）

【課題】フィルムにナノスケールの特徴を生成し、かつ、当該フィルムの厚みの全体または一部にわたって１つの特定の系に応じたミクロ構造を付与する方法を提供する。
【解決手段】この方法は、以下の工程を含む：特定の系および少なくとも１つの所定の厚みに応じて所定の温度でミクロ構造化され得る少なくとも１つのブロック共重合体を選択する工程であって、該所定の厚みが、その全部または一部について前記特定の系に応じたミクロ構造化が所望されるフィルムの厚みに対応する厚みである、工程；該ブロック共重合体を含むフィルムへの押圧により、該所定の厚みおよび該ナノスケールの特徴を付与し得る少なくとも１つの型を選択する工程（ａ）；および、該型を該所定の温度に加熱しながら、該ブロック共重合体を含むフィルムを押圧し（ｂ）、これにより、物品として規定される該フィルムが得られる、工程（ｃ）。 （もっと読む）

【課題】反射率が低く、かつ反射率の波長依存性が少ないインサート成形用フィルム、加飾層や着色基材の本来の色が十分に再現された意匠性の高いインサート成形品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細凹凸構造を有するインサート成形用フィルム１０であって、前記微細凹凸構造が、複数の凸部を有し、該凸部間の平均間隔が４００ｎｍ以下であるインサート成形用フィルム１０；樹脂材料からなる基材と、前記微細凹凸構造が形成された側とは反対側の表面が前記基材と接するインサート成形用フィルム１０とを有するインサート成形品。 （もっと読む）

【課題】被転写体表面の凸形状に追従して薄膜層の厚さを均一に形成し、かつスタンパと被転写体を高精度にアライメントすることができる微細構造転写装置および微細構造転写スタンパを提供する。
【解決手段】微細な凹凸が形成されたスタンパを被転写体に接触させて、前記被転写体の表面に前記スタンパの微細な凹凸を転写する微細構造転写スタンパにおいて、微細な凹凸が形成されたパターン層２とそれを保持する基材３で構成され、基材のパターン層と接する面が、平面と曲面で構成される。基材の曲面にパターン層を保持し、平面に被転写体と位置合わせを行うアライメントマークを有する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程を用いないで、規則化されたブロックコポリマーの相分離構造を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にブロックコポリマー層を形成する工程と、加熱した前記ブロックコポリマー層の表面に凸部を有するモールドの前記凸部を押し当て、前記ブロックポリマーを構成する複数のセグメントを規則的に配列させて前記ブロックコポリマー層にパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。前記ブロックコポリマー層をブロックコポリマーのガラス転移点以上の温度に加熱する。前記モールドの凸部を押し当てて形成されたブロックコポリマー層の凹部の間に、ブロックコポリマー層のパターンを形成される。 （もっと読む）

【課題】超疎水性ポリマー加工物を提供すること。
【解決手段】超疎水性ポリマー加工物を作製するための一方法により、超疎水性ポリマー加工物を迅速かつ容易に製造することができ、超疎水性表面はテンプレートを用いて繰り返しインプリントすることができ、ゆえに、大きな面積にわたる超疎水性ポリマー加工物の大量生産を経済的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂中への二酸化炭素溶解による可塑化効果を利用して、金型を高温に上げることなく樹脂表面に微細な凹凸や光学鏡面などが形成された金型転写面を高精度に転写できるとともに、気泡の発生を抑制し、射出成形並のサイクルタイム短縮を実現することのできる樹脂成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】樹脂成形体に二酸化炭素を含浸させ、金型の転写面を樹脂成形体表面に押し付けて、転写面のパターンを樹脂成形体表面に転写する樹脂成形品の製造方法において、少なくとも２層以上の積層構造から構成されるとともに、積層構造を構成する樹脂部材が少なくとも温度、圧力が同条件の場合における二酸化炭素の拡散速度が異なる２種類以上の樹脂部材で構成されている樹脂成形体を使用する。 （もっと読む）

【課題】親モールドの破損が抑えられ、微細パターンの転写精度が高く、転写の際の圧力を低くでき、かつ硬化性樹脂の使用量が抑えられる、微細パターンを有する物品の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】親モールド１００の表面に形成された微細パターンを一旦、転写基材１０４に転写して反転パターンを有するレプリカモールドを製造し、ついでレプリカモールドの表面に形成された反転パターンを物品本体１０２の表面に転写して微細パターンを有する物品を製造するに際し、親モールド１００の微細パターンが形成された表面に、第１の供給手段１７から第１の硬化性樹脂を供給し、該第１の硬化性樹脂を、親モールド１００の微細パターンの転写基材１０４への転写に用いる。 （もっと読む）

【課題】転写ロールの表面形状を精度よく、速やかに転写しうる転写樹脂シートの製造方法を提供する。
【解決手段】加熱溶融状態でダイから連続的に押し出された連続樹脂シートを、第一押圧ロールと第二押圧ロールとの間で挟み込んで前記第二押圧ロールに密着させた状態で前記連続樹脂シートを冷却させ、その後に前記第二押圧ロールと該第二押圧ロールに隣接する転写ロールとの間で挟み込むことで、該転写ロールの表面形状を連続樹脂シートに転写する転写樹脂シートの製造方法であって、前記転写ロールと密着する面の連続樹脂シートの表面温度が前記連続樹脂シートの樹脂のビカット軟化点より２０℃〜６０℃高い温度である。 （もっと読む）

【課題】表皮材の表面に形成されている凹凸模様の消滅を防ぎつつ、立体的な形状を有する本革表皮材を成形によって形成する。
【解決手段】本発明は、表皮材２の表面にシボ模様が形成されている本革表皮材１の成形方法であって、表皮材２の裏面に液状のアクリル樹脂４０を塗布する塗布工程と、アクリル樹脂４０が塗布された表皮材２から表皮材２に含まれている水分を除去させる表皮材水分除去工程と、アクリル樹脂４０が塗布された表皮材２をアクリル樹脂４０の軟化温度以上の温度に加熱したプレス機７０に載置し、熱プレスにより表皮材２を立体的な形状に賦形する熱プレス工程と、熱プレス後、プレス機７０による賦形状態を維持して表皮材２を冷却し、プレス機７０から表皮材２を脱型する脱型工程とからなるところに特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】所望とおりに突起の配列を形成することができる成型品の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に球状微粒子３６は配列される。基板の表面で球状微粒子３６を覆い隠す被覆膜３７は成膜される。被覆膜３７の裏面から被覆膜３７および球状微粒子３６にエッチング処理が施される。被覆膜３７の裏面は徐々に削られていく。このとき、被覆膜３７の裏面には球状微粒子３６の働きで窪みが形成される。窪みは球状微粒子３６の外形で象られる。こういった窪みが半球体よりも縮小すると、エッチング処理は終了される。エッチング処理の終了まで窪み内に球状微粒子３６は残存する。窪みの内壁面は浸食から保護される。半球面よりも縮小された部分球面で窪みが区画されれば、成型品の成膜時に確実に窪み内に成型品の材料は入り込む。被覆膜３７の裏面から成型品が剥離される際に成型品の突起は確実に被覆膜３７の窪みから抜け出る。 （もっと読む）

【課題】汚染性が低く、耐振動性、表面欠陥、及び経時安定性が優れたモールド構造体、及び該モールド構造体を用いることによって所定期間を経た後においても、転写精度を維持したインプリント方法の提供。
【解決手段】円板状の基板と、該基板の一の表面上に、該表面を基準として複数の凸部が形成された凹凸パターンと、少なくとも前記一の表面上に粘着層とを有してなり、前記粘着層が、その厚みが０．５μｍ〜１５μｍであり、かつ粘着力が対シリコンで０．３９Ｎ／２０ｍｍ〜３．０Ｎ／２０ｍｍであるモールド構造体とする。 （もっと読む）