【課題】容易且つ安価に多層構造（多段形状）の凸部の表面を平滑化することができるインプリントモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に、第１の凹部を有する第１の樹脂層３を形成する工程と、第１の樹脂層３上に第１の凹部を埋めるように第２の樹脂層４を形成する工程と、第２の樹脂層４の第１の樹脂層３上の一部を選択的に除去して第２の凹部４ａ〜４ｅを形成するとともに、第１の凹部を埋めた第２の樹脂層４の少なくとも一部を選択的に除去して第２の凹部４ａ，４ｄ，４ｅに連通し、基板１の表面を露出しないように第３の凹部４ｆ〜４ｈを形成する工程と、第２の凹部４ａ〜４ｅ及び第３の凹部４ｆ〜４ｈに金属材料を充填する工程と、第１の樹脂層３、第２の樹脂層４及び基板１を除去する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置にグローバルアライメント方式を適用した場合において、生産性の低下の防止に有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上の複数のショット領域のそれぞれに形成されたマークを検出する検出部と、処理部と、を有し、前記処理部は、前記検出部によってサンプルショット領域に形成されたマークを検出し、統計処理して配列を表す第１統計量を求める第１処理と、前記第１統計量に基づいて前記サンプルショット領域を除くショット領域に前記インプリント処理を行う第２処理と、前記第２処理の後に、前記サンプルショット領域に形成されたマークを検出し、統計処理して第２統計量を求める第３処理と、前記第１統計量と前記第２統計量との差分が許容値以下である場合には、前記第２統計量に基づいて前記サンプルショット領域に前記インプリント処理を行い、差分が前記許容値以下でない場合にはエラー処理を行う第４処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】所望のパターン形状を再現性良く得ることができるインプリント装置を提供する。
【解決手段】凸部１２を有するモールド１０を載置可能な第１ステージ１と、第１ステージ１と対向し、凸部１２が圧入される樹脂層２０を載置可能な第２ステージ２と、第１及び第２ステージ１，２の少なくともいずれか一方に配置され、モールド１０の凸部１２を樹脂層２０に圧入したときに樹脂層２０のパターン転写領域の外周に位置し、モールド１０から樹脂層２０にかかる圧力により樹脂層２０の余分な一部を外部へ押し出す空隙部４を有するガイド３とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布膜を効率よく形成し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置において、ウェハＷの表面Ｗ_１に紫外線を照射し、当該表面Ｗ_１を洗浄する（図１８（ａ））。その後、ウェハＷの表面Ｗ_１全面に密着剤Ｂを塗布し（図１８（ｂ））、当該密着剤Ｂを焼成した後（図１８（ｃ））、密着剤Ｂをリンスして、ウェハＷ上に密着膜Ｂ_Ｆを成膜する（図１８（ｄ））。その後、ウェハＷの密着膜Ｂ_Ｆ上に光重合開始剤を有するレジスト液Ｒを塗布する（図１８（ｅ））。その後、ウェハＷ上のレジスト液Ｒに所定の光量の紫外線を照射し、当該レジスト液Ｒを、ウェハＷ上で拡散せず、且つ凝集しないような流動性を有する半硬化状態にする。そして、ウェハＷ上に半硬化状態のレジスト膜Ｒ_Ｆを成膜する（図１８（ｆ））。 （もっと読む）

【課題】気体の残留やモールドと基材との未接触部（未密着部）の発生に起因する未転写やパターン形状不良を抑制できるシート状デバイスの製造装置を提供する。
【解決手段】本発明のシート状デバイスの製造装置は、パターンが形成されたパターン形成面を有するモールド４と、モールド４に対向配置された弾性体９とで基材８を挟み、その基材８上の樹脂にパターン形成面を押し当てて加圧した後、パターン形成面に接触している樹脂を硬化させるものであって、モールド４に対向する弾性体９の表面が、モールド４側へ凸状の曲面であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高解像度インプリントを可能にするリソグラフィの提供。
【解決手段】インプリント方法が開示されており、一例では、基板上のインプリント可能媒体から成る離隔した第一および第二ターゲット領域を、第一および第二テンプレートにそれぞれ接触させて、インプリント可能媒体に第一および第二インプリントをそれぞれ形成し、かつ、第一および第二テンプレートをインプリント済み媒体から分離する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるアルコキシシラン化合物又は下記一般式（２）で示されるシラザン化合物からなるナノインプリントモールド用離型剤。


（式中、Ｒ_f及びＲ_f’は炭素数１〜１０のフルオロアルキル基であり、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜６の脂肪族１価炭化水素基である。Ｒ²及びＲ³はメチル基又はエチル基であり、各々同一又は異なっていてもよい。Ｘ及びＹはエーテル結合又はエステル結合であり、各々同一又は異なっていてもよい。ａ及びｂは各々０又は１であり、ｍ、ｎ及びｐは各々０〜６の整数、ｑは１〜６の整数、ｒは０〜２の整数である。）
【効果】本発明によれば、離型性のよい離型層を持つため、パターン寸法に影響をほとんど与えず、離型時の親和力によるパターン欠損を低減し、高精度なインプリント形成が可能なナノインプリントモールド用離型剤を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】被転写材料にパターン転写して得られる製品（デバイス）の性能を安定化させることができるパターン転写装置を提供する。
【解決手段】本発明のパターン転写装置１Ａは、微細な凹凸パターンのパターン転写前にモールド２又は被転写材料３に所定の表面処理を施す前処理機構（離型剤供給機構７）と、前記前処理機構によって施された前記表面処理に関する情報を、前記被転写材料３のパターン転写された領域と関連付けした位置に記録する情報記録機構１２と、記録された前記情報を読み出す判読機構１３と、前記判読機構１３によって判読した前記情報に基づいて、前記パターン転写された領域の前記被転写材料３に所定の後処理を施す後処理機構１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式を用いて高粘度の機能性液を高周波で連続吐出させる際のロバスト性が維持された好ましい液体吐出が実現される、機能性液体吐出装置及び機能性液体吐出方法並びにインプリントシステムを提供する。
【解決手段】５mPa・s以上２０mPa・s以下の粘度の光硬化性樹脂液体を基板上に吐出させるノズル(23)を具備し、圧力室(32)内部の液体を加圧する圧電素子(38)が設けられたヘッド(24)と、基板を搬送させる搬送部と、を備え、圧力室を静定状態から膨張させる引き波形及び膨張させた圧力室を収縮させる押し波形を有し、光硬化性樹脂液体の粘度ηとヘッドの共振周期Ｔ_ｃとの関係が、（２／Ｔ_ｃ）≦γ_１≦（η／１０）、γ_２≦γ_１を満たす引き波形の傾きγ_１、押し波形の傾きγ_２を有する駆動電圧を生成し、該駆動電圧を用いてヘッドから基板上に光硬化性樹脂液体を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】同一又は異なる分子中に芳香環及びフッ素原子を含み、フッ素原子に対する芳香環のモル比が６．０以下であるナノインプリント用感放射線性組成物である。上記ナノインプリント用感放射線性組成物は、［Ａ］下記式（１）で表される重合性化合物を含有することが好ましく、また、［Ｂ］フッ素化アルキル基を有する特定の構造のアルコールのアクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物をさらに含有することが好ましい。
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【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、凸状部分の高さバラツキが抑制されたレジストパターンを形成できるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、化学的成膜処理により保護膜を形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備え、前記保護膜生成工程（Ｓ５）では、前記凹凸パターンの隣り合う凸状部分に形成される前記保護膜同士が接触して連続膜となるように当該保護膜を成長させるとともに、前記連続膜の膜表面側における段差の高さが前記凸状部分の高さバラツキの高低差より小さくなるように当該保護膜の成長を行う。 （もっと読む）

【課題】温度変化によりマスクとローラーモールドの相対位置にズレが生じたとしても当該ローラーモールドのレジスト上での描画位置のズレを最小化できるようにする。
【解決手段】温度変化による影響を受けない系として扱うことができる絶対系を規準としてローラーモールド１００の位置を測定し、さらに、電子ビーム照射装置２から照射された電子ビームの一部を透過させるマスク３の位置を測定し、ローラーモールド１００と、該ローラーモールド１００を支持するローラー支持治具２０と、マスク３と、該マスク３を支持するマスク架台３０とのうちの少なくとも一つにおいて相対的位置ズレが生じた場合に、ローラーモールド１００およびマスク３の位置の絶対系との差分に基づく相対的ズレ量を検出し、ローラーモールド１００およびマスク３の少なくとも一方を動かし、電子ビームによるローラーモールド１００のレジスト上での描画位置のズレを最小化する。 （もっと読む）

【課題】離型剤を用いることなく、離型力を大幅に低減させて、被成形物からモールドを容易に離型させる。
【解決手段】モールド３０に形成された所望のパターンを被成形材料に転写することで被成形物を成形するインプリント装置１において、少なくともモールド３０と被成形物とを含む空間内の圧力を調整する。具体的には、被成形物からモールド３０を引き離す離型時において、モールド３０と被成形物とを含む空間内の圧力を、モールド３０と被成形物との間の圧力に近付くよう減圧制御することで実現する。 （もっと読む）

【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 （Ａ）重合性化合物と、（Ｂ）２５℃、１ａｔｍの条件下においてＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき１〜１５の範囲内にある有機溶媒とを含有し、（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｂ）成分を０．０１〜１０重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 パターンの転写が容易にでき、該パターンの基板との密着性、及び金型からの離型性が良く、エッチング耐性に優れ、分散性のよい組成物で生産性に優れた光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】 光硬化性ナノインプリント用組成物は、（Ａ）フッ素化有機シラン化合物、メタ）アクリル基含有珪素化合物を含む混合物を加水分解した加水分解物、（Ｂ）（メタ）アクリル基を有する重合性単量体、並びに（Ｃ）光重合開始剤を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】面荒れの影響を低減でき離型性を向上するとともに形状の精度低下の防止を図る。
【解決手段】基板１１と、基板の表面に形成された段差を有する多段凸部１２とを有し、多段凸部の段差面１２ｂが基板表面１１ａと略平行状態とされ、この段差面より先端側の多段凸部先端部１２ｃが金属箔１０１から形成され、前記段差面より基板側の多段凸部基端部１２ｄがめっきにより形成されてなるインプリントモールド１０。 （もっと読む）

【課題】濡れ広がりに異方性を生じせしめるパターン形成面に複数の液滴が接している場合であっても、その濡れ広がりおよび合一を容易に予測することを可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターン１により規定されるパターン形成面Ｐであって液滴６の濡れ広がりに異方性を生じせしめるパターン形成面Ｐに配置された複数の液滴６の濡れ広がりおよび合一を予測するためのシミュレーション方法において、解析対象であるパターン形成面Ｐを規定する凹凸パターン１が液滴６の濡れ広がりに与える影響を解析面Ａにおける濡れ性として取り扱って、この濡れ性を表す濡れ性パラメータが組み込まれた気液二相流解析により、解析面Ａ上での複数の液滴６の濡れ広がりおよび合一を解析する。 （もっと読む）

【課題】パターン微細化が進展する状況下においても、所望形状のレジストパターンの形成を確実に行えるようにする。
【解決手段】レジスト膜に凹凸パターンを形成するパターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）と、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凹状部分の底部に対してエッチングを行う除去工程（Ｓ６）と、を備えるレジストパターン形成方法において、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）の後で前記除去工程（Ｓ６）の前に、前記パターン形成工程（Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４）で形成した前記凹凸パターンの凸状部分の頂部を含む当該頂部の近傍領域に、前記除去工程（Ｓ６）での前記エッチングによる前記凹凸パターンのパターン消失を抑制する形状の保護膜を、化学的成膜処理により形成する保護膜形成工程（Ｓ５）を備える。 （もっと読む）

【課題】インプリントプロセスにおけるアライメントに関する制御条件を工夫し、より好適なアライメント制御が可能となるインプリント方法を提供する。
【解決手段】モールドと基板の位置合わせの制御を行って、基板上のパターン形成層にモールドに形成されたパターンを転写するインプリント方法であって、
位置合わせの制御を開始した後、位置合わせの制御を行いながらモールドと基板を近づけることにより、モールドとパターン形成層を接触させる工程と、
モールドとパターン形成層とが接触した後に位置合わせの制御を停止する工程と、
位置合わせの制御を停止した状態でパターン形成層に接触したモールドと基板を更に近づける工程と、
モールドと基板が更に近づいた状態で、パターン形成層を硬化させる工程と、
パターン形成層が硬化した後に、モールドと基板の間隔を広げる工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 小さな剥離力で被転写材料層からモールドを引き離すことができ、被転写物である被転写材料がモールドに付着するという不都合の発生を回避できるインプリント方法とインプリント装置とを提供する。
【解決手段】 本発明のインプリント方法は、モールドの凹凸構造領域を有する面とインプリント用の基板との間に、被転写物である被転写材料を介在させて、凹凸構造パターンを有する被転写材料層を形成する被転写材料層形成工程と、被転写材料層形成工程におけるインプリント用の基板とモールドとの間隙距離を広げるように引き剥がし力を作用させて被転写材料層からモールドを引き離す剥離工程と、を有し、引き剥がし力は、少なくとも２種類以上の異なる弾性の部分、または少なくとも２以上の異なる剛性の部分を介して、モールドと被転写材料層とが接触している領域に不均一に伝えられるように構成される。 （もっと読む）