【課題】ナノインプリントプロセス法において、中間スタンパを用いて光硬化性樹脂に微細な凹凸パターンを形成する方法であって、その中間スタンパと、微細な凹凸パターンが転写された光硬化性樹脂との離型性が向上された方法及びそれに用いる装置を提供する。
【解決手段】加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層３１を有する光硬化性転写シート３０の転写層３１に、表面に微細な凹凸パターンを有する金型３４の当該凹凸パターンを転写し、転写層３１に微細な反転凹凸パターンを形成する工程、及び前記反転凹凸パターンを基板４０上に形成された光硬化性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂層４１に転写し、光硬化性樹脂層４１に金型３４と同一の凹凸パターンを形成する工程、を含む凹凸パターンの形成方法において、前記反転凹凸パターンが形成された転写層３１ｃに対してＵＶオゾン処理を行うことを特徴とする凹凸パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】インプリント法によるパターン形成後の被膜の、モールドへの付着を抑制する。
【解決手段】炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を含む成分、及び重合開始剤を含み、炭素−炭素不飽和結合を有する化合物として、炭素−炭素不飽和結合のほか、アルコキシ基が結合しないケイ素原子を有するケイ素化合物を含む被膜形成材料２が提供される。このような被膜形成材料２を基板１上に形成し、モールド３を押し当て、モールド３の反転パターン３ｂを転写した被膜２ａを形成し、モールド３を被膜２ａから引き離す（離型）。上記ケイ素化合物を含む被膜形成材料２を用いることで、離型の際、モールド３への被膜２ａの付着が抑制される。 （もっと読む）

【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第１のパターンと、前記第１のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第２のパターンとを具備し、かつ、前記第１のパターンは第１の材料を含み、前記第２のパターンは前記第１の材料とは異なる第２の材料を含むテンプレート１を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第１および第２の材料とは異なる第３の材料を含む被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆する。次に、被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆した状態で、テンプレート１を洗浄する。次に、被覆部材１１を除去して前記第２のパターンを露出させる。 （もっと読む）

【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ１６を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台１２を有し、該載置台１２は複数に分割され、該分割されてなる複数の分割載置部１２−１〜１２−９の少なくとも一部は、前記樹脂スタンパの前記反対側の面側から前記樹脂スタンパを固定する固定機構と、前記載置台の載置面の平面方向に移動する移動機構と、を有することを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ１０。 （もっと読む）

【課題】樹脂スタンパの変形が生じた場合であっても、樹脂スタンパと基板との位置合わせを精確に行うことができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ１６の該微細な凹凸パターンを基板１８上に形成された光硬化性樹脂層２０に転写する際に、前記樹脂スタンパ１６と前記基板１８とを位置合わせするアライメント方法であって、以下の工程：前記基板１８に対向するように配置されたステージ１２に、前記凹凸パターン形成面１６ａとは反対側の面が接するように前記樹脂スタンパ１６を載置し、該樹脂スタンパ１６を前記反対側の面側から固定する固定工程；前記樹脂スタンパ１６の変形部位を検出する検出工程；及び前記変形部位の検出結果に基づいて、前記固定した状態で前記樹脂スタンパ１６をその平面方向に伸縮する伸縮工程；を含むことを特徴とするアライメント方法。 （もっと読む）

【課題】熱や周囲環境の変化により伸縮して形状変化が生じた樹脂スタンパの形状を調整することができる樹脂スタンパ用ステージを提供すること。
【解決手段】一方の表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂スタンパ１６を、その凹凸パターン形成面とは反対側の面が接するように載置するための載置台１２を有し、該載置台１２は、前記樹脂スタンパの反対側の面を吸引する複数の吸引孔１５を有する吸引機構１４と、前記複数の吸引孔１５を、前記樹脂スタンパが載置される載置面１２ａの平面方向にそれぞれ独立して移動させる移動機構と、を備えていることを特徴とする樹脂スタンパ用形状調整ステージ。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置にて、型と樹脂とを引き離す際の離型性と、使用可能期間の長期化の点で有利な型を提供する。
【解決手段】型１は、石英からなり、被処理体としての樹脂を成形するパターン部３を有する。この型１は、樹脂と接触するパターン部３の表面上に形成された、フッ化水素を含む液体に対して不溶である材料からなる第１層４と、第１層４の表面上に積層する形で形成された、シランカップリング剤を含む化学吸着膜としての第２層５とを有する。 （もっと読む）

【課題】型と基板上の樹脂との重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント方法は、基板を保持面上に保持する保持工程と、パターンが形成されている前記基板上の基板側パターン領域の形状を変形させる変形工程と、変形させた基板側パターン領域上の樹脂と、型とを接触させる接触工程と、樹脂を硬化させる硬化工程と、接触している樹脂と型とを離す離型工程とを備える。変形工程において、基板側パターン領域に対応した基板の裏面と保持面との間に働く最大静止摩擦力よりも大きな変形力を基板の表面に沿う方向に作用させる。 （もっと読む）

【課題】１つの検出器で２つの物体間の２方向における相対位置を高精度で検出する。
【解決手段】第１マーク及び第２マークの一方は、ｙ方向にＰ_１の格子ピッチとｘ方向にＰ_２の格子ピッチとを有する格子パターンを含み、第１マーク及び第２マークの他方は、ｘ方向にＰ_３の格子ピッチを有する格子パターンを含む。照明光学系は、その瞳面において、ｙ方向に第１の極ＩＬ１とｘ方向に第２の極ＩＬ３、ＩＬ４とを含む光強度分布を形成し、第１の極から照明される光が第１マーク及び第２マークで回折した回折光は瞳面において検出光学系の開口に入射し、第２の極から照明される光が第１マーク及び第２マークで回折した回折光は瞳面において検出光学系の開口とは異なる場所に入射する。 （もっと読む）

【課題】基板上に予め存在するパターン領域に形成されるパターンと、新たに形成する樹脂のパターンとの重ね合わせに有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置１は、型８に形成されているパターンを基板１０上の樹脂１４に転写する。このインプリント装置１は、型８に力を加え、型８に形成されているパターン領域を変形させるモールド形状補正機構２０１と、基板１０上に形成されている基板側パターン領域２０を加熱し、基板側パターン領域２０を変形させるウエハ加熱機構６と、型８に形成されているパターン領域８ａと、基板側パターン領域２０との形状の差に関する情報を得、得られた情報に基づいて、型８に形成されているパターン領域８ａと基板側パターン領域２０との形状の差を低減するように、モールド形状補正機構２０１およびウエハ加熱機構６を制御する制御部７とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の上のインプリント材から型を離型するのに有利な技術を提供する。
【解決手段】基板の上のインプリント材を型で成形して硬化させ、硬化したインプリント材と前記型とを離すことで前記基板にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記型を保持して移動する保持部と、前記基板を保持して移動するステージと、前記インプリント処理を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記基板のショット領域のうち外周ショット領域に前記インプリント処理を行う際には、前記外周ショット領域に対して供給されたインプリント材のうち前記基板の半径方向に沿って最も外側の部分の少なくとも一部が前記型と最後に離れるように、前記保持部及び前記ステージの少なくとも一方を制御することを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン化磁気記録ディスクをナノインプリントするための放射状非データマークを有するマスタディスクを作製するためのブロック共重合体を使用する方法を提供する。
【解決手段】 パターン化メディア磁気記録ディスクをナノインプリントするためのマスタディスクを作製する方法は、データアイランドと非データ領域の両方のパターンを有する。本方法は、ブロック共重合体（ＢＣＰ）成分の１つの隙間領域のパターンだけでなくほぼ放射状の線のパターンおよび／またはほぼ同心のリングを形成するためにブロック共重合体（ＢＣＰ）の誘導自己組織化を利用する。線および／またはリングのパターンは基板に垂直なラメラとして位置合わせされたＢＣＰ成分を有し、一方、隙間領域のパターンは基板に平行なラメラとして位置合わせされたＢＣＰ成分を有する。ＢＣＰ成分の１つは除去され、他のＢＣＰ成分をエッチマスクとして残す。 （もっと読む）

【課題】１次コイル及び２次コイルを有する絶縁層であるコイル層の製造工程を単純化し、コイル部品の製造工程性を向上させることができる、導体ライン製造用兼ビア製造用スタンプ及びこれを用いるコイル部品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導体ライン製造用兼ビア製造用スタンプは、プレート形態のインプリント本体部１０１と、インプリント本体部１０１の一面から突設され、インプリント本体部１０１の外郭側から中心側へ螺旋形態に連続したラインインプリント部１０２と、インプリント本体部１０１の一面から突設され、インプリント本体部１０１の中心側に位置したラインインプリント部１０２の端部から突設されるビアインプリント部１０３とを含む。 （もっと読む）

【課題】インプリント処理時の重ね合わせ精度の向上に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】このインプリント装置は、基板上の未硬化樹脂を型により成形して硬化させて、基板上に硬化した樹脂のパターンを形成する。このインプリント装置は、型に外力または変位を与え、型に形成されているパターン部の形状を補正する型変形機構と、パターンを形成すべき基板上のパターン形成領域に予め存在する基板側パターンに温度分布を形成し、基板側パターンの形状を補正する基板変形機構と、基板変形機構により基板側パターンの形状を補正（Ｓ１０６）させた後に、基板側パターン上に塗布された樹脂とパターン部とを押し付けた状態（Ｓ１０８）にて、型変形機構によりパターン部の形状を補正（Ｓ１０９）させることで、パターン部の形状と基板側パターンの形状とを合わせる制御を実行する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高透過率及び高屈折率を有する膜を形成するインプリント材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。（Ａ）成分：特定の式で表されるビフェニル（メタ）アクリレート。（Ｂ）成分：下記式（２）で表されるフルオレン（メタ）アクリレート及び／又は特定の式で表されるビスフェノール（メタ）アクリレート。


（式中、Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立して水素原子又はメチル基を表し、Ａ^１及びＡ^２は互いに独立して炭素原子数２又は３のアルキレン基を表し、ｍ及びｎは互いに独立して０乃至３の整数を表す。）（Ｃ）成分：光重合開始剤。 （もっと読む）

【課題】パターン形成性およびラインエッジラフネスに優れたパターンを提供する。
【解決手段】化合物（Ａ）と溶剤（Ｂ）とを含有し、前記化合物（Ａ）が、基材と共有結合および／または相互作用可能な基（Ｋａ）、ならびに、インプリント用硬化性組成物と共有結合および／または相互作用可能な基（Ｋｂ）の少なくとも一方を有し、かつ、（式１）で算出できる大西パラメータ（Ｚ）が３．８以上であり、かつ、分子量４００以上であることを特徴とするインプリント用下層膜組成物。
（式１） 大西パラメータ＝（全原子数）／（炭素数−酸素数） （もっと読む）

【課題】微細なパターンを有する成形体を、目的の形状を有するものとして効率よく製造することができる成形体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の成形体の製造方法は、成形型を用い、ワークを加熱して、幅が１０ｎｍ以上５００μｍ以下の微細なパターンを有する成形体を製造する方法であって、前記成形型の構成材料と前記ワークの構成材料との貯蔵弾性率Ｅ’の差が１００［ＭＰａ］以上となる温度Ｔ［℃］で成形を行う加熱工程と、前記ワークを加熱・成形することにより得られた成形体を前記成形型から離型する離型工程とを有し、前記温度Ｔ［℃］における前記ワークの構成材料の線膨張係数をα_１［℃^−１］、前記温度Ｔ［℃］における前記成形型の構成材料の線膨張係数をα_２［℃^−１］としたとき、｜α_１−α_２｜≦１００．０×１０^−４の関係を満足することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターンが固化されたインプリント材とモールドとを剥離する際にパターンの破壊や下地基板における膜の剥がれを防止し、歩留まりを向上させる。
【解決手段】パターンが形成されたモールド１０３を、被加工基板１０１の被加工面上のインプリント材１０２に接触させてパターンを転写するパターン形成装置であって、モールドを角度を調整し得る状態で把持する把持部３と、モールドが被加工基板上のインプリント材に接触するように、あるいは離型するように、把持部を移動させる移動部２と、モールドの離型時における移動部の離型速度、モールドと被加工基板との間の離型角度を含む離型条件の少なくとも一つが可変となるように制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】熱サイクルナノインプリント リソグラフィによるパターン形成に要する時間を短縮する。
【解決手段】硬化性を有するケイ素化合物と酸発生剤を含むナノインプリント用組成物３０を基板２０に塗布して膜を形成し、ＵＶ照射により当該膜中に酸を発生させ、当該膜にローラ５０を押圧し、ローラ５０によって膜が押圧されている間に、ケイ素化合物の熱硬化温度以上に膜を加熱し、ローラ５０を剥離し、硬化パターンを得る。 （もっと読む）