【課題】 微細成型技術を用いて、転写された面への投影が、二次元形状を複数の方向へ連続して構成した構造である微細構造物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 加工対象物の成型面に対して型を押圧することにより、型のパターンを転写する微細構造物の製造方法であって、パターンの成型面への投影が、線幅１μｍ以下の二次元形状を連続して構成した形状となるパターンを有する型を、加工対象物に対し押圧することにより、型のパターンを転写する。これにより、転写されたパターンの成型面への投影が、線幅（線２０２の幅）が１μｍ以下の二次元形状２０１を連続して構成した形状となる構造を有する微細構造物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】安価な方法で、凹凸パターンがモールド表面全体に、且つ、高密度に規則的に配列した磁気記録媒体用のナノインプリントモールドを提供すること。
【解決手段】モールド基板全面に自己組織化可能な微粒子を規則的に配列させる手段を作製し、該基板に自己組織化可能な微粒子を滴下して、基板全面に前記微粒子を規則的に配列させることにより、安価な方法で、凹凸パターンがモールド表面全体に、且つ、高密度に規則的に配列した磁気記録媒体用のナノインプリントモールドが提供される。 （もっと読む）

【課題】優れた撥水機能と光の反射防止機能とを兼ね備えた撥水性反射防止構造と共に、このような構造を備えた撥水性反射防止構造体及びその製造方法、さらには、上記撥水性反射防止構造を備えた自動車用部品、例えばディスプレイやウインドウパネルを提供すること。
【解決手段】円形又は多角形底面を有し、円形底面の径又は底面を形成する多角形に外接する円の直径が５０〜３８０ｎｍである無数の錐体状突起２を、５０〜３８０ｎｍのピッチで配置し、これら錐体状突起のアスペクト比を１．５以上とすると共に、その表面を水との接触角が９０°以上である材料によって形成する。 （もっと読む）

【課題】インプリント時にレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに記録再生特性を向上させた磁気記録媒体、及びその製造方法の提供。
【解決手段】円板状の基板と、円周方向に沿って複数の凸部が同心円状に形成されたデータ領域の凹凸部と、前記基板の略中心部から前記基板の周縁部に向かって弧状に複数の凸部が配列されることによって形成され、少なくともプリアンブル部、アドレス部、及びバースト部で構成されたサーボ領域の凹凸部とを有し、前記サーボ領域の凹凸部における凸部の配列方向が、前記基板の半径方向に対してなす角度をθＡ（°）としたとき、少なくとも前記プリアンブル部の凸部が、｜θＡ｜≦２０を満たすことを特徴とするインプリント用モールド構造体等である。 （もっと読む）

【課題】パターン幅と下地の残膜厚の関係に依存することなく、適正なアスペクト比のパターン形成が可能なパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】パターンの形成方法であって、
基板上に、モールドの凹凸によるインプリントパターンが転写されている樹脂層を形成する工程と、
樹脂層上に、反転層を形成する反転層形成工程と、
樹脂層の凹部に反転層が埋め込まれた状態で、樹脂層を露出させるように反転層の一部を除去する除去工程と、
凹部に埋め込まれた反転層をマスクとし、樹脂層をエッチングして反転パターンを形成するエッチング工程と、を備え、
反転層形成工程から、エッチング工程に至るまでの一連の工程を、ｎ回（ｎは２以上の自然数である。）繰り返し、
ｎ回目におけるエッチング工程で、ｎ−１回目までの前記エッチング工程において反転パターンの凹部と基板との間に残された樹脂層を除去し、基板の表面に至る貫通部を樹脂層に形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】 溶剤中に粒子が分散した分散液を水槽内の液面に滴下する滴下工程と、前記溶剤を揮発させることにより前記粒子からなる単粒子膜を形成する単粒子膜形成工程と、前記単粒子膜を曲面や段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に移し取る移行工程とを有することを特徴とする非平面上単粒子膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】スタンパの塑性変形を可及的に防止し、スタンパの寿命の長いインプリント方法を提供することを可能にする。
【解決手段】基板上に粘性係数が２ポアズ以上４０ポアズ未満のレジストを塗布する工程と、表面に凹凸を有するスタンパを前記レジストに押圧することによって、前記スタンパの凹凸を前記レジストに転写する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比のパターンを大面積で容易に成形でき、且つ機械的強度に優れた微細加工用二軸延伸積層フィルム、および製法、成形加工シート、並びに成形方法を提供する。
【解決手段】本微細加工用二軸延伸積層フィルムは、成形層と支持層を含む２層以上の積層フィルムであって、該積層フィルムの少なくとも一方の最外層に成形層が積層されており、かつ、成形層の面配向係数が０．００以上０．１０以下であり、かつ、支持層の該面配向係数が０．１０以上０．１８未満の範囲である。また、該成形加工シートは、かかる微細加工用二軸延伸積層フィルムの表面に凹凸形状を賦形したものである。また、本微細加工用二軸延伸積層フィルムの製造方法は、二軸延伸後に成形層を構成する樹脂の融解吸熱ピーク温度Ｔｍ１以上で、かつ、支持層を構成する樹脂の融解吸熱ピーク温度Ｔｍ２未満の温度で熱処理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高いコントラストを有する模様を転写し得る離型紙を高い生産効率で製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、原反２０に凹凸模様１２を形成して離型紙１０を製造する方法である。製造方法は、ドライアイス粒を前記原反の表面に吹きつけるブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸１６を前記原反の表面２０ａに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】その表面が超硬材料からなり、高温でも変形しにくいため寿命の長いナノインプリント用スタンパとその製造方法を提供する。
【解決手段】微細パターンが形成されたそのスタンプ面が、ダイヤモンドにより構成されているナノインプリント用スタンパ。とくにスタンプ面のダイヤモンドが、平均結晶粒径１μｍ以下の微細結晶からなる上記のスタンパ。また、基板上にリソグラフィーによりマザーモールドとなる微細パターンを形成するステップと、該微細パターンの表面に化学的気相成長法によりダイヤモンド膜を形成するステップと、このダイヤモンド膜が形成されたマザーモールドからダイヤモンド膜を分離するステップとを具備するナノインプリント用スタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】接着作業性を向上させ得るホットメルト接着シートならびにその製造方法を提供することを課題としている。
【解決手段】シート状に形成され、少なくとも表面に熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物が用いられており、前記表面を被着体に接着させて用いられるホットメルト接着シートであって、前記表面に凹凸形状が形成されていることを特徴とするホットメルト接着シートならびにホットメルト接着シートの製造方法を提供する。 （もっと読む）

画定された表面パターンをポリマー構造の１次インプリント表面に押圧することで、該１次インプリント表面上に２次インプリントを形成する工程を有する、ポリマー構造上へのインプリント作製方法が開示されている。
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【課題】 ポリイミド樹脂をガラス転移温度以上に加熱しなくても熱転写でき、ボイドやピンホールの発生を抑制できるポリイミド樹脂への熱転写方法を提供する。
【解決手段】 金属薄板上に凹凸形状を有するポリイミド樹脂を被覆した、凹凸付金属基板の製造方法であって、金属薄板にポリアミック酸を塗布する工程と、該ポリアミック酸を加熱処理してイミド化率３０〜９６％のポリイミド樹脂とする工程と、該ポリイミド樹脂に、２００℃以下で転写用金型を押圧し、剥離して転写用金型の凹凸形状を転写する工程と、再度加熱処理によりポリイミド樹脂を硬化する工程を有する凹凸付金属基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】モールドの繰り返し使用と量産及び低コストが可能な粘着性を有する微細構造を製造する方法を提供する。
【解決手段】底面にナノメートルオーダーの凹槽２２を有するモールド２１及び基板１１を用意する工程と、基板１１の上に液体状のインプリント層３１を被せる工程と、基板１１にモールド２１を押印する工程であって、インプリント層３１は、モールド２１と基板１１との間に基材３２を形成し、各凹槽２２の所定の深さまで進入して基材３２の上にナノ突起３４を形成し、各凹槽２２内の空気が圧縮される工程と、インプリント層３１を固化させる工程と、モールド２１を基板１１から上向きに離型させる工程であって、各凹槽２２内の圧縮された空気の反発力によって、各凹槽２２内に形成されたナノ突起を各凹槽２２からスムーズに出すことが可能で、基材３２はナノ突起３４と共に粘着性を有する微細構造３０を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 型と加工対象物（樹脂等）とがくっつき難く、加工対象物に転写されたパターンの型崩れの発生し難い微細加工方法および微細加工装置を提供すること。
【解決手段】 所定のパターンを有する型１００と加工対象物２００とを押圧して、パターンを加工対象物２００の被成型面に転写する微細加工方法において、型１００と加工対象物２００をそれぞれ所定温度に加熱する加熱工程と、加熱工程の後、型１００と前記加工対象物２００とを１ＭＰａ以下の圧力で押圧する押圧工程と、を有する微細加工方法およびこれを実現するための微細加工装置１ （もっと読む）

【課題】一般的な樹脂および汎用の成形機を用いて、精度の良好な微細パターンを有する化学マイクロデバイスを大量生産するための方法を提供すること。
【解決手段】本発明の微細パターンを有する樹脂構造物の形成方法は、キャビティに嵌合するようにコアが設置されたインロー構造の金型を用いて、該キャビティ内に樹脂を充填して、該樹脂を加圧下で成形する工程を含む。したがって、インロー構造の金型を作成するだけで、特別な設備を必要とすることなく、種々の樹脂について微細パターンを有する樹脂構造物を大量生産できる。 （もっと読む）

【課題】大面積の基材に対してインプリント可能な装置を提供する。
【解決手段】パターニングされるべき基材２０に対してミクロ又はナノメートルサイズのパターンを転写するために２つの回転可能に取り付けたローラを備える。第１のローラ１０はパターニングされた周面を有しており、このパターン周面は、当該パターン周面を変形可能な基材と接触させることにより第１のローラから基材にパターンを転写する。第２のローラ３０は、第１のローラのパターン周面と対向する円滑な周面を有している。また、第２のローラは、第１と第２のローラを同期回転させるために第１のローラと回転可能に結合される。基材は、これらのローラが互いに対して回転するときにパターン周面が基材と接触し、それにより、このパターンがパターン周面から基材へと転写されるように、第１及び第２のローラ間で移動することができる。 （もっと読む）

【課題】基板に対する転写性、及び剥離性が高く、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアに高品質なパターンを転写形成するモールド構造体等の提供。
【解決手段】厚みが０．３ｍｍ〜２．０ｍｍであり、表面にインプリントレジスト層が形成された基板に対し、凸部、及び凹部が表面に形成され、該凸部、及び凹部を前記インプリントレジスト層に対向させて該インプリントレジストに凹凸パターンを転写するモールド構造体であって、前記凸部の頂部の１０点平均粗さＲｚ_１、及び凹部の底部の１０点平均粗さＲｚ_２が、それぞれ０．５ｎｍ〜２０ｎｍであることを特徴とするモールド構造体等である。 （もっと読む）

【課題】精度良く高さの異なる三次元構造パターンが形成されたインプリントモールド、およびインプリントモールド製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリントモールドは、開口部を設けた基板表面上に積層された樹脂層が、前記開口部の開口密度に応じた三次元構造パターンを形成していることを特徴とする。本発明の構成によれば、樹脂層は開口部の上部に形成される。このとき、樹脂の一部は開口部を埋めることに用いられるため、樹脂層は自己形成的に開口部の開口密度に応じた三次元構造パターンを形成する。よって、基板上の開口部の開口密度を制御することで、高さの異なる階段状形状の三次元構造パターンを形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】金型ないし光学素子の無断複製を円滑に抑制し得る光学素子、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品および金型を提供する。
【解決手段】対象光が透過する面内に前記対象光の波長帯よりも小さなピッチにて微細起伏構造が形成され、微細起伏構造の形成領域の一部に微細起伏構造の形成状態が他の領域に比べ相違する識別パターン領域が配されている。識別パターン領域を物理的に検証することにより、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品ないし金型の製造元を検証することができる。 （もっと読む）