【課題】微粒子分散液をモールドのパターン形成面に均一に塗布することができ、被転写基板に精度よくパターン転写をすることが可能となるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸パターンを有するモールドを準備する工程と、
前記モールドに、微粒子分散液を塗布する工程と、
前記微粒子分散液を乾燥させる工程と、
前記微粒子分散液を塗布乾燥させたモールドのパターンを被転写基板に転写する工程と、を有するパターン形成方法であって、
前記微粒子分散液の微粒子の平均直径をＤ（ｎｍ）、該微粒子の直径の標準偏差をσ（ｎｍ）とし、前記モールドの凹部深さをｈとするとき、
前記モールドとして、モールドの凸部幅および凹部幅が１０μｍ以下で、前記凹部深さｈが以下の式（１）及び式（２）を満たすモールドを用いる。
（Ｄ＋２σ）≦ｈ≦１．０μｍ…………（１）
１ｎｍ≦Ｄ≦１００ｎｍ…………（２） （もっと読む）

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンを正確に形成することができる微細構造シート製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】基材シートＷの表面に紫外線硬化樹脂Ｒを塗布し、パターンローラ３０に密着させて、紫外線を照射することにより、基材シートＷの表面に微細凹凸パターンを転写形成する場合において、ニップ点における紫外線硬化樹脂の粘度を１０mPa・s以上、１００mPa・s以下にするとともに、パターンローラ３０に対する紫外線硬化樹脂の接触角を４０°以下にする。これにより、ニップ時にパターンローラ３０の各凹部に空気が入り込むのを防止でき、パターンローラ３０の表面に形成された凹凸の形状を正確に基材シートに転写することができる。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）等の画像表示装置に用いられる防眩性フィルムについて、鋳型の型押しによる透明フィルム基材の表面への凹凸模様の周期をほゞ無くす。該透明フィルム基材を用いて作製した防眩性フィルムを具備する液晶ディスプレイに濃淡ムラの発現をなくす。均一な防眩性及び膜厚を有する防眩性フィルム、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 流延支持体から剥離されたフィルムを鋳型でバックロールに押し当てて、透明フィルム基材の表面に凹凸を形成するにあたり、１つのバックロールに対して複数の鋳型を使用し、複数の鋳型をバックロールの周囲に、隣り合う鋳型同士、均等な配置角度で位置するように配置する。複数の鋳型の直径を、鋳型による型押しによって透明フィルム基材の表面に生じる凹凸模様の周期が２ｍを超えるものとするのが、好ましい。 （もっと読む）

【課題】成形精度が良い、微細な凹凸形状を有したシート状成形体を提供する。
【解決手段】支持体１１と、支持体の一方の主面側に配置され、支持体側の面の反対面が凹凸形状を有した樹脂層１２とを備えたシート状成形体の製造方法であって、放射線硬化性樹脂を含んだ放射線硬化性樹脂組成物を含む塗料層と支持体とが重なった状態で、塗料層を凹凸表面を有する成形型に当接させて成形型の凹凸面の凹凸形状を塗料層に転写した後、塗料層に含まれる放射線硬化性樹脂を硬化させる。未硬化状態の放射線硬化性樹脂は、単官能ビニルモノマーまたは単官能（メタ）アクリルモノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマーＡと、多官能（メタ）アクリルモノマーおよび多官能（メタ）アクリルオリゴマーとからなる群から選ばれる少なくとも１種とを含み、２５℃における放射線硬化性樹脂組成物の粘度が、３〜１００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チッピングによるクラックの寸法を低減し、基板表面への異物の付着を抑制することが可能な加工方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に保護膜５０を選択的に形成し、加工領域１８として基板１０の表面の一部を露出する工程と、加工領域１８の基板１０の上部を４００ｎｍ以上、かつ１０００ｎｍ以下の深さで除去して、算術平均粗さＲａが３０ｎｍ以上、かつ５００ｎｍ以下の範囲となるように粗化加工する工程と、加工領域１８において切削工具５２を用いて粗化加工された表面の一部を切削する工程とを含む加工方法である。 （もっと読む）

【課題】インプリント法の条件出しを効率よく行う転写性評価用のインプリントモールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に凹凸パターンの形成されたインプリントモールドであって、深さ、幅又は形状の異なる凹凸パターンが形成されていることを特徴とするインプリントモールド。また、基板上にレジストを形成し、レジストに深さを異ならせた複数の凹凸パターンを形成し、複数の凹凸パターンを形成した前記レジストの表面から基板に向かってドライエッチング処理を行うことを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンを有する成形体を精度良く効率的に作製する。
【解決手段】連続搬送される可撓性支持体の一面に活性エネルギー線硬化型樹脂を含む樹脂層を形成し、前記樹脂層が形成された可撓性支持体を、前記樹脂層がエンボスロールと当接するように、前記エンボスロールと、複数の支持ロールに捲回されたベルトを有するニップ手段との間に供給し、前記エンボスロールと前記ベルトとの間で前記可撓性支持体を押圧することにより前記樹脂層に凹凸パターンを成型し、前記凹凸パターンが成型された樹脂層に活性エネルギー線を照射することにより前記樹脂層を硬化する成形体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 アスペクト比の高い微細な凹凸を転写成形するために微細成形モールドの離型性を向上させる。
【解決手段】 微細成形モールドは、ネガ型感光性成形対象膜を成形するための微細成形モールドであって、凸部１６１を有する成形面と、前記成形面の裏面から前記成形面に至る透光部と、前記凸部の先端を内包し前記凸部の先端からはみ出す投影領域を前記ネガ型感光性成形対象膜に形成する遮光部と、を備える。前記凸部は、テーパー形状である。前記凸部の基端の輪郭は、前記遮光部の輪郭に重なる。 （もっと読む）

【課題】時間経過にともなう硬度の劣化が抑制された凹凸面を有するシート状成形体を提供する。
【解決手段】支持体と、前記支持体の一方の主面側に配置され、放射線硬化性樹脂を含み、前記支持体側の面の反対面が凹凸形状を有した樹脂層とを備え、前記樹脂層のイオンクロマトグフラフィー法により測定される含有塩素イオン濃度が１０ｐｐｍ以下であることを特徴とするシート状成形体。 （もっと読む）

【課題】反射防止性を有しかつ汚染物質の付着による反射防止性の低下が抑制された反射防止膜、ならびにこの反射防止膜を容易かつ低コストで量産する。
【解決手段】算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍ〜３０μｍの凹凸を有する反射防止膜。凹状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凹状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均深さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。凸状の二次表面形状：相互に連結されていてもよい凸状の基本形状からなり、前記基本形状が、平均高さ３０ｎｍ〜２００ｎｍかつ平均直径８０ｎｍ〜４００ｎｍであり、前記基本形状の前記反射防止面における配置が実質的に不規則である表面形状。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント技術を用いて、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアに高品質なパターンを効率よく転写形成することができるモールド構造体の提供。
【解決手段】基板の一方の表面上に、所定間隔を有して複数の凸部が同心円状に形成されたモールド構造体であって、前記同心円の半径方向における前記凸部の断面形状は、該凸部の高さ方向の半値幅Ｍが、前記同心円の半径方向における前記凸部の頂部の幅Ｔよりも大である形状である。 （もっと読む）

【課題】インプリント法において、モールドパターン破壊を低減するインプリントモールドおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント用モールドは、凹凸状パターンの少なくとも凹部の角をラウンド形状にしたことを特徴とすることにより、インプリントにおけるモールド離型時に、モールド材料中の応力集中を緩和することが出来る。このため、モールドパターンの破壊を低減することが可能となる。特に、高アスペクト比のパターン転写であってもモールドパターン破壊を低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】
表面に交差溝からなる凹凸形状を有するフィルムの製造方法及びその装置と転写成形用のロール金型の交差溝部を高精度かつ高効率に形成する加工方法を提供する。
【解決手段】
交差する溝部の交差角度と同じ角度に２つの工具を対面するように取付け、かつ双方の工具刃先の先端部は切削するロール金型の中心軸に対してオフセットして取付けた２つの工具を用いて、ロール金型表面の交差溝部を一端より他方へ交互に切削することで、高精度かつ効率よく表面に交差した溝部を形成したロール金型でフィルムを製造する。 （もっと読む）

【課題】削り加工を施すことによって樹脂板の表面に凹凸形状部を形成する製造方法であって、削り加工により形成した凹凸形状を変形させることなく、凹凸形状部の削り加工面を十分に平滑化することのできる製造方法を提供する。
【解決手段】この発明に係る表面に凹凸形状部を有する樹脂板１０の製造方法は、樹脂板の表面に削り加工を施すことによって樹脂板の表面に凹凸形状部２を形成する工程と、樹脂板における前記凹凸形状部２が形成された表面２ａに、溶媒１００質量部に対して樹脂を０．５〜３質量部含有してなる処理液をドリップコーティング法により塗布した後、乾燥させる工程と、を包含することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロオーダの微細構造とナノオーダーの微細構造とが混在したスタンパーを低コストで効率よく製造する。
【解決手段】マイクロオーダー用のマスクパターン１ａとナノオーダー用のマスクパターン１ｂとが混在して設けられたマスク１を用いたフォトリソグラフィー工程（ステップｓ１〜ｓ５）と、該フォトリソグラフィー工程によりパターン（３ａ、３ｂ）形成がなされた基板１０のドライエッチング加工工程（ステップｓ６）と、該ドライエッチングによってマイクロ・ナノ微細凹凸が形成された基板表面上に反転層６を設ける工程（ステップｓ７〜ｓ９）と、該基板から前記反転層を取り出してスタンパー７を得る工程（ステップｓ１０〜ｓ１２）を有する。表面にマイクロ・ナノ微細凹凸８ａ、８ｂが形成されたスタンパー７を一括で作製でき、製作時間の短縮とコスト低減に効果がある。 （もっと読む）

【課題】表面に形成した実際の凹凸以上に凹凸を強調して表現できる化粧層構造およびこの化粧層構造を用いた化粧板を提供する。
【解決手段】化粧層構造１Ａは、熱硬化性樹脂３が含浸してなる少なくとも１枚のシート２を含み、表面側に凹凸４１，４２が熱プレス形成されてなり、前記凹凸は、鏡面光沢度がＪＩＳＺ８７４１準拠の指標で、最大値と最小値との差が少なくとも５以上となるように、凸部分４２で高く凹部分４１で低く調整され、または前記凹部分４１で高く前記凸部分４２で低く調整されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プレス成形において、凸部分と凹部分との鏡面光沢度に差にを持たせた特殊な金型を使用することで、鏡面光沢度差により木目や石目の風合いが表現され、幾何学模様の凹凸が際立って視認される装飾層構造の成形方法および装飾板の製造方法を提供する。
【解決手段】２枚の樹脂含浸シートを、凹部分Ｐと凸部分ＱとがＪＩＳＺ８７４１準拠による指標で少なくとも６以上の鏡面光沢度差を持つ金型（上金型１１１，下金型１１２）により熱プレスして装飾層構造を成形する方法であって、プレス成形品４の凸部分と凹部分の鏡面光沢度差が金型１の鏡面光沢度差の８０％以上となるように、プレス成形することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 精密なパターンを転写するための型およびその型製造方法、精密なパターンを有する微細加工品およびその微細加工方法を提供すること。
【解決手段】 直交及び平行するエッジ以外のエッジを少なくとも含むパターンのエッジラフネスが３０ｎｍ以下になるように電子ビームの形状を変化させて描画して、型を製造する。また、このようにエッジラフネスが３０ｎｍ以下に形成された型と加工対象物とを押圧し、型のパターンを加工対象物の被成型面に転写することにより微細加工品を形成する。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂からなる被スタンパー部材中に分散する高架橋有機ポリマー超微細粒子のレオロジー特性が活かされ、優れたインプリント性、転写性を発揮させる熱圧着転写プロセス用被スタンパー部材及び各種の光学素子部材として有用な微細構造転写の機能性樹脂成形体を提供する。
【解決手段】熱ナノインプリント時に形成される厚さ５０ｎｍ〜５００μｍに及ぶ被スタンパー部材の樹脂相の熱可塑性樹脂（Ａ）１００質量部当たり、一次分散性を表す再分散分布指数（ＲＤＮ）値＝ＣＶ（ＩＩ）／ＣＶ（Ｉ）＝１〜３．０で、且つ熱ナノインプリント下にある被スタンパー部材の熱可塑性樹脂（Ａ）中に不溶融状態にある体積基準で表す平均粒子径が５〜８０ｎｍの高架橋有機ポリマー超微細粒子（Ｂ）が０．５〜１５質量部の範囲で含有している。 （もっと読む）

キャリアウェブに取り付けられた構造化ウェブを有する複合ウェブ、及び複合ウェブを製造する方法が開示される。構造化ウェブは、構造化ウェブから突き出る複数個の構造体を包含してもよい。この方法は、溶融ポリマー組成物を、外側表面の中に形成された複数個のくぼみを包含する形成ツールの外側表面上に供給することを伴ってもよい。溶融ポリマーは、形成ツールの外側表面の中のくぼみに入り、その中で固化されて、複数個の構造体がくぼみの形状に形成される。ポリマー組成物の表面薄層はくぼみの間に伸びてもよく、その結果、形成ツール上に形成された構造化ウェブは、構造体に接続する表面薄層を包含する。構造化ウェブは、ポリマー組成物の固化後、キャリアウェブと構造化ウェブとの間に位置する接着剤を使用して、構造化ウェブをキャリアウェブに接着することにより、形成ツールから取り外される。
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