【課題】バッキングプレートを用いないでレーザが照射された場合でも、クラックが入り難く、且つ、適用可能な酸化物超電導焼結体の組成範囲が広いレーザ蒸着用ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化物超電導焼結体を含むレーザ蒸着用のターゲットであって、当該ターゲット使用面に垂直な向きにおける線熱膨張率の値が、当該ターゲット使用面に平行な向きにおける線熱膨張率の値より１０％以上大きいことを特徴とするレーザ蒸着用ターゲットを提供する。 （もっと読む）

多孔質セラミック基質は、第１の相のマイクロクラックのあるコーディエライトセラミック材料と、コーディエライトセラミックに分散した第２の相の非コーディエライト金属酸化物粒子とを含み、第１と第２の相の間の界面の少なくとも一部がガラスにより濡れており、第２の相の粒子が、約０．０１〜約１０μｍの範囲のサイズを有する。多孔質マイクロクラックのあるコーディエライトセラミックを強化する方法は、コーディエライトバッチ組成物を提供する工程と、コーディエライトバッチ組成物を、少なくとも１つの非コーディエライト形成金属酸化物または金属酸化物前駆体に添加する工程と、バッチ組成物を、ポア形成剤、バインダーおよび水と混合してペーストにする工程と、ペーストをグリーン体へと成形する工程と、グリーン体を焼成する工程と、焼成したグリーン体を焼成温度より低い温度でアニールして、コーディエライトセラミック内に分散された第２の相の結晶化非コーディエライト粒子を有し、第１と第２の相の間の界面の少なくとも一部がガラスにより濡れている、強化コーディエライトセラミックハニカムを形成する工程とを含む。
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【課題】レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、高レーザー出力および高温雰囲気によるターゲットの割れの伸展を防いで、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。
【解決手段】ターゲットにレーザー光を照射してターゲット表面から酸化物の微粒子を発生させ、該微粒子を基材表面に堆積させ、基材表面に酸化物膜を成膜するレーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、希土類酸化物粉末、炭酸バリウム粉末及び酸化銅粉末を一定比率で混合し、この混合粉末を圧粉成型し、さらに部分溶融成型して得られたターゲット本体に銀網が埋設されたことを特徴とするレーザー蒸着用酸化物超電導ターゲット。 （もっと読む）

【課題】ガス拡散性能が高く且つ高い機械的強度を実現したマグネシアを主体とする酸素分離膜用多孔質支持体を提供すること。
【解決手段】酸素イオン伝導体から成る緻密な酸素分離膜２０を支持するための多孔質支持体１０であって、相対的に粒径の大きい電融マグネシア粉末および電融ジルコニア粉末と、上記電融ジルコニア粉末よりも相対的に粒径の小さい微粒ジルコニア粉末とから成る原料粉末を所定形状に成形した成形体を焼成して得られる。 （もっと読む）

【課題】高い酸素透過性能と高い還元耐久性とが両立し得る酸素分離材とその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明により提供される酸素分離材製造方法は、酸素イオン伝導体であるペロブスカイト構造の複合酸化物セラミックスから成る酸素分離材１を製造する方法であって、複合酸化物から成る原料粉末を用意する工程と、当該原料粉末を用いて所定形状の成形体を加圧成形する工程と、空気若しくは不活性ガスに酸素を供給して調製された高濃度酸素含有混合ガスの雰囲気中または酸素ガス雰囲気中において上記成形体を焼成する工程とを包含する。 （もっと読む）

【課題】 低温域における電気伝導性が良好なｎ型熱電素子を得ることができるｎ型熱電素子用組成物を提供する。
【解決手段】 ｎ型熱電素子３の材料となるｎ型熱電素子用組成物は、金属元素比率で
ＣａとＭｎとの合計が１００ｍｏｌ％になるようにＣａ：４０〜６０ｍｏｌ％、Ｍｎ：４０〜６０ｍｏｌ％を含有したＣａＭｎＯ３に、Ｙを元素換算で２０〜５０ｍｏｌ％添加するか、あるいは、Ｎｄ，Ｐｒ，Ｓｍの少なくとも一種を元素換算で合計１０〜５０ｍｏｌ％の金属物質を添加してなるものである。これにより、低温域における比抵抗ρを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕなどの電気伝導度が高い導体を同時焼成できる低温焼結が可能な、比誘電率が低く高周波帯域での損失が小さく、かつ温度依存性の小さい低誘電率磁器基板およびその製造方法の提供。
【解決手段】酸化物として表示される成分がモル％にて、Ａｌ_２Ｏ_３：４０〜６５％、Ｂ_２Ｏ_３：１５〜３５％、ＣａＯ：１０〜２０％、ＺｎＯ：０．１〜１４％、ＭｎＯ：０〜２％、およびＲ_２Ｏ（ＲはＬｉ、ＮａおよびＫの一種以上）：０〜２％、およびＬｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＹ、Ｌａ、およびＮｄの希土類元素の一種以上）：０．１〜２％を含む原料を焼成して得られ、少なくともＬｎＢＯ_３結晶を有する、ことを特徴とする高周波部品用低誘電率磁器基板である。 （もっと読む）

【課題】表面積が広く薄肉の窒化アルミニウム成形体、あるいは複雑形状の窒化アルミニウム成形体を製造する場合であっても、流動性が高く、脱脂性に優れ、グリーン成形体を作製した場合に保形性が良好である射出成形用窒化アルミニウム組成物を提供すること。
【解決手段】下記条件（１）および（２）を満たす窒化アルミニウム粉末１００重量部、エチレン・酢酸ビニル共重合体３〜１５重量部、ワックス３〜１２重量部、および高級脂肪酸０．５〜５重量部を含有することを特徴とする射出成形用窒化アルミニウム組成物。
（１）Ｄ₉₀／Ｄ₁₀≦３．５
（２）Ｄ₅₀≦１．０μｍ
〔Ｄ₉₀は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積％が９０％のときの粒子径であり、Ｄ₁₀は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積％が１０％のときの粒子径であり、Ｄ₅₀は、窒化アルミニウム粒子の粒度分布における累積体積％が５０％のときの粒子径である。〕。 （もっと読む）

【課題】安定した一定量の酸素欠陥を導入することができ、光透過率が良好であり、低い電気抵抗及び良好な導電性を有する透明導電膜を形成するスパッタリング複合ターゲット及びこれを用いた透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング複合ターゲット１は、酸化亜鉛を含む酸化物系成分２と、炭素系成分３ａ〜３ｄとを有し、酸化物系成分２と炭素系成分３ａ〜３ｄが各々別体の場合は、酸化物系成分２の表面の少なくとも一部に炭素系成分３ａ〜３ｄを積層して用いる。
透明導電膜の製造方法は、酸化亜鉛を含む酸化物系成分と、炭素系成分とを有するスパッタリング複合ターゲットを用いて、基板上に透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基体上での抵抗率分布を大幅に改善するスパッタリングターゲットの作製方法及びそれを用いる透明導電膜形成方法を提供する。
【解決手段】亜鉛、および、Ａｌ、Ｉｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｓｃ、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＭｏおよびＶからなる群より選ばれた２種以上の元素をそれぞれ０．１から８原子％、および、Ｃを０．１〜１０原子％含有されてなる複合物、もしくは、Ａｌ、Ｉｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｓｃ、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＭｏおよびＶからなる群より選ばれた１種以上の元素をそれぞれ０．１から８原子％含有してなるＺｎＯ系複合酸化物に、炭化珪素、炭化硼素、炭化バナジウム、炭化モリブデン、炭化ハフニウムおよび炭化チタンからなる群より選ばれた１種もしくは２種以上の炭化物を０．１〜５重量％添加されてなる複合物焼結体を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の表面における可視光領域の光の反射率が高く、低抵抗性金属から成る導電体層をポストファイヤ法により形成することのできる高反射性セラミックス焼結体を用いた発光素子搭載用基板を提供する。
【解決手段】原料粉体と、有機質バインダーとを混合したものを成形した後、焼成して成るセラミックス焼結体から成る基体を有する発光素子搭載用基板であって、原料粉体は、セラミックス原料と、セラミックス焼結体の内部において可視光領域の光の散乱を促進する散乱体とを含有し、セラミックス原料は、ホウ珪酸ガラス原料と、アルミナとを含有し、散乱体は、五酸化ニオビウム，酸化ジルコニウム，五酸化タンタル，酸化亜鉛から選択される少なくとも１種であり、発光素子搭載用基板は、その表面にセラミックス焼結体を焼成した後に形成した導電体層を備えることを特徴とする発光素子搭載用基板による。 （もっと読む）

【課題】ガラス、結晶質セラミックおよびガラス−セラミックからなるガラスビーズ、物品、繊維、研磨粒子および研磨製品ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３と、Ｙ_２Ｏ_３と、ＺｒＯ_２またはＨｆＯ_２のうちの少なくとも一方とを含むガラスであって、該ガラスの総重量に対して、前記ガラスの少なくとも８０重量パーセントが、Ａｌ２Ｏ３と、Ｙ２Ｏ３と、ＺｒＯ２またはＨｆＯ２のうちの少なくとも一方とを合わせたソースを溶融して溶湯を提供し、前記溶湯を冷却するガラス、結晶質セラミックおよびガラス−セラミックの製造方法。 （もっと読む）

【課題】分散性が良好なセラミックスラリーの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも副成分粉末を含む混合物に、第１の分散処理を施して、副成分スラリーを調整する工程と、前記副成分スラリーに、主成分粉末を添加してから、第２の分散処理を施して、前記セラミックスラリーを調製する工程と、を備えており、前記副成分粉末は、Ｍｇ、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｖ、Ｄｙ、Ｙ、Ｈｏ、又は、Ｙｂのいずれか１種の元素を含む化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物からなるものであり、前記副成分スラリー中の前記副成分粉末の平均粒径は、０．１μｍ以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】主成分粉末及び副成分粉末が均一に分散された誘電体セラミックス材料の製造方法を提供する。
【解決手段】複数種の副成分粉末の混合物を仮焼成する仮焼成工程と、仮焼成された前記副成分粉末を粉砕する粉砕工程と、粉砕された前記副成分粉末をプラズマにより微粒化するプラズマ処理工程と、プラズマにより微粒化された前記副成分粉末を、主成分粉末に添加する工程と、を備えており、前記粉砕工程において粉砕された後の前記副成分粉末の粒度分布は、Ｄ９０／Ｄ５０＜３．０であるようにした。 （もっと読む）

キャリアフィルムと、該キャリアフィルムに施工された少なくとも１つの障壁コーティング組成物とを含むテープであって、該障壁コーティング組成物は、環境障壁コーティング組成物又は熱障壁コーティング組成物である。キャリアフィルムは、シリコーンコートの２軸配向ポリエチレンテレフタレートポリマーフィルムを含むことができる。障壁コーティング組成物は、環境障壁コーティング組成物又は熱障壁コーティング組成物の少なくとも１つを含むことができる。障壁コーティング組成物は、ＢＳＡＳ、希土類モノシリケート、希土類ジシリケート、ムライト、シリコン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された環境障壁コーティング組成物を含むことができる。 （もっと読む）

テープキャスト障壁コーティングを製造する方法であって、少なくとも溶剤及び障壁コーティング組成物を含むスラリーを作る段階と、テープキャスティング機械においてキャリアフィルム上にスラリーを堆積させてキャストスラリーを生成する段階と、キャストスラリーから溶剤を蒸発させて、キャリアフィルム及び障壁コーティング組成物を含むテープを生成する段階と、テープからキャリアフィルムを取り除き、テープキャスト障壁コーティングを生成する段階と、を含む。 （もっと読む）

配合物であって、ａ）２〜１００ｎｍの平均粒径及び少なくとも３０ｍ^２/ｇのＢＥＴ表面積を有する１種又は複数種の非常に微細化した二酸化ケイ素粉末、ｂ）それぞれの場合に０．５μｍから３０ｍｍまでの平均粒径を有する、酸化物、炭化物及び窒化物からなる群から選択された１種又は複数種の粒状成分、ｃ）１種又は複数種のバインダーとしての合成樹脂及びｄ）０．５μｍから２５０μｍまでの平均粒径を有する１種又は複数種の金属酸化防止剤を含む配合物。成形品の製造方法において、配合物を金型中に導入し、適切な場合に圧縮し、且つ合成樹脂が熱により架橋する温度に加熱する、成形品の製造方法。それから得られる成形品。成形品が炭化される耐火性の成形品の製造方法。それから得られる耐火性の成形品。 （もっと読む）

【課題】焼結密度が高く、高電圧下でも異常放電を生じ難く、広い範囲に蒸着膜を形成するスパッタリングターゲット材に適するＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法などを提供する。
【解決手段】ＺｎＯを主成分とし、希土類酸化物を含有する焼結体ペレットからなり、焼結体の相対密度が９７.５％以上であることを特徴とし、好ましくは、希土類酸化物の含有量が０.０５〜１０質量％であり、一次粒子の平均粒径が０.１〜５.０μmのＺｎＯ粉末と、一次粒子の平均粒径が該ＺｎＯ粉末の平均粒径の１/５〜１/２である希土類酸化物粉末とを、希土類酸化物の含有量が上記範囲になるように混合し、バインダーを加え、加圧成形し、脱型後、１０００℃以上で焼成してなるＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法。 （もっと読む）

射出成形体は、含まれる金属不純物が１０ｐｐｍ未満であり、正の温度係数を有するセラミック材料を含む。射出成形体を生産する方法は、含まれる金属不純物が１０ｐｐｍ未満である、射出成形のための原料を供給することと、原料を型に射出することと、結合材を取り除くことと、成形体を焼結することと、成形体を冷却することと、からなる。 （もっと読む）

原料、および原料を調製する方法が示され、該原料は射出成形が可能であり、金属不純物の含有量が１０ｐｐｍ以下である。 （もっと読む）