攪拌ミル中において未加工粉末粒子懸濁液を均質化し、次いでそれら懸濁液粒子を少なくとも１種の官能基を含むコーティング剤と反応させることにより、官能基で均質にコーティングされた粉末粒子を製造する。
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本発明は、主要面の少なくとも１つが活性化されている湾曲ガラス板に関する。活性化は、例えば、このガラスの表面の直接の摩擦的研磨によって実施することができる。本発明の方法は好ましくは、ガラスの表面を横断する閉鎖ループ研磨剤ストリップの使用を含む。活性化後、疎水性層は、例えばフッ素化シランから付着させることができる。疎水性層でコーティングされたガラスは、自動車用のガラスとして用いることができる。
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本発明は有機物汚れで汚染された物品用の清浄液に関し、次のものから構成される：
−（Ａ）重量で５０％以上、好ましくは重量で６０％以上、より好ましくは重量で７０％以上および最も好ましくは重量で８０％以上の少なくとも１つのラクトン；
−（Ｂ）８から１５の範囲のＨＬＢを持つ少なくとも１つの界面活性化合物。 （もっと読む）

本発明は二酸化チタン（ＴｉＯ_２）をベースとし、そしてＵＶ範囲、特に長波長ＵＶＡ範囲の光子を吸収可能である光触媒特性及び汚れ防止特性を有する層の改質に関係し、可視スペクトルの光子も吸収する特性を提供するために、前記ＴｉＯ_２系の層は基材に直接的に適用されるかまたは少なくとも一の機能副層の挿入を伴って適用される。本発明は、望ましい可視光の光子吸収特性を得るために、ＴｉＯ_２系の層は窒素又は少なくとも一の還元ガスと窒素を含む雰囲気中で十分な時間熱処理にさらされることを特徴としており、前記基材及び必要であれば前記副層はこの熱処理に耐える能力のために選択されている。 （もっと読む）

【課題】酸化アルミニウム被膜をCVD法によりガラス基板上に形成する過程において、被膜形成を高速かつ均一に行うことができる製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム前駆体とカルボン酸エステルを含む流体混合物を高温の基板の表面上に接触させることにより、酸化アルミニウム被膜を基板に蒸着する。 （もっと読む）

基板とコーティングとの間の引っ張り力を発生させる素子であって、基板は第１軸に対して第１面と第２面で画定される厚さを有し、コーティングは基板第１面に対して成膜され、その際、コーティング及び基板が、コーティング／基板界面を形成するように第１軸に沿って互いに近接するように設けられる。装置は基板の第２面上に設けられたガラス素子を有し、第１軸に沿って設置されている。
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下記の工程を含むことを特徴とする、少なくとも0.1m²の面積を有する無機材料製の表面の微生物による汚染性を低下させる方法：
a) 処理すべき前記表面上に、親水性高分子物質の溶液または水性懸濁液の層を適用する工程；および、
b) 工程a)で処理した表面を乾燥させて、前記親水性高分子物質の層で被覆した前記表面を得る工程。 （もっと読む）

プレート状製品を構成するように意図されたガラスプレートであって、その面の少なくとも１つの少なくとも１部分に金属被覆を備えているガラスプレートであって、製品が製造および／または使用される条件下でガラスの表面からガラス中へ移動しやすく、次いで着色の原因であるＭ⁰種へ還元されやすい、前記金属被覆の少なくとも１種の金属種Ｍⁿ⁺による着色に耐性があるガラスプレートであって、少なくとも表面および着色しやすい少なくとも１つの面に、１種または複数のＭⁿ⁺種の前記移動および／または前記還元を制限または防止することのできる組成物を含むことを特徴とするガラスプレート。 （もっと読む）

基板を連続的に真空洗浄する方法であって、
-汚染の点から、スパッタリング効率が低く、化学的に活性な種を選択すること、
-少なくとも１つのリニアイオンソースを用いて、スパッタリング効率の低い種を主に含むガス混合物、特に酸素をベースとしたもの、からプラズマを発生させること、
-該基板の少なくとも一の表面部を該プラズマの照射対象とし、該イオン種が、該表面部に吸着または付着した汚染を、化学反応により、少なくとも部分的に除去することを特徴とする方法に関する発明である。 （もっと読む）

本発明はオリゴマーフルオロシランおよび界面活性剤を含む水性組成物に関する。本発明は更に、前記水性組成物で光学エレメントを処理する方法およびこうして処理された光学エレメントに関する。本発明は更に、処理された光学エレメントを含む物品に関する。 （もっと読む）

本発明は、原子含有率が０．００１〜０．２０のＢ、原子含有率が０．０５〜０．１５のＰ、原子含有率が０．０２〜０．１８のＮ、原子含有率が０．２０〜０．５０のＬｉおよび原子含有率が０．３５〜０．５０のＯを含み、含有率の合計がほぼ１００に等しい薄層電気化学的電池用のガラス固体電解質に関する。 （もっと読む）

【課題】従来と比較して高度な抗菌作用を特徴とする非水溶性ガラス粉末、特にケイ酸塩ガラス、ガラスセラミック粉末及びそのような粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ酸塩ガラス粉末が酸化物基準の重量％で示した次の組成：ＳｉＯ_２ ２０〜８０、Ｎａ_２Ｏ ５〜３０、Ｋ_２Ｏ ０〜５、Ｐ_２Ｏ_５ ０〜１５、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０、ＣａＯ ４〜３０、ＭｇＯ ０〜８、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜７、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０〜２と、常用の清澄剤の通常量を有するガラス粒子と、を有する非水溶性ケイ酸塩ガラス粉末に関する。本発明は、前記ガラス粒子が次の成分ＺｎＯ、ＡｇＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ_２、ＧｅＯ_２、ＴｅＯ_２の少なくとも１つを含有し、その際、前記成分は前記ガラス粒子の表面付近の領域に高濃度化されていることを特徴とする。 （もっと読む）

感光牲ガラス基板に多数個の一様かつ微細な径の貫通孔を形成する。 基板状の感光性ガラス１に紫外光４を照射して潜像２を形成し、熱処理を行なうことにより潜像部分を結晶化させ、結晶化した部分をエッチング除去して貫通孔５を形成し、次いで、感光性ガラス１の表裏面をＡＡ’及びＢＢ’まで除去することによって貫通孔の孔径の長さ方向における均一性を許容範囲にする。
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約０μｍから約２μｍの深さにおける金属イオン濃度、特にＡｇ濃度が０．６質量％、好ましくは０．８質量％、最も好ましくは１質量％よりも高い抗菌面を有する製品に関する発明が開示されている。 （もっと読む）

乾燥又は焼成し、マトリクス中で相互に結合した、気体を充填した中空のガラス製又はセラミック製のマイクロスフェアから作られた半導体用基板を提供する。マイクロスフェアをガラスコーティングが施されたマイクロスフェアとし、外側のガラス層を相互に焼結することによって、結合させたものとすることも出来る。半導体表面は、グレージングにより滑らかに加工することが出来る。 （もっと読む）

本発明は、積層が、連続的に、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₁および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₁を有する第１層（１）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₂および５〜５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₂を有する第２層（２）、１．８〜２．３の間の範囲にある屈折率ｎ₃および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₃を有する第３層（３）、１．３５〜１．６５の間の範囲にある屈折率ｎ₄および４０〜１５０ｎｍの間の範囲にある幾何学的厚さｅ₄を有する第４層（４）を含むことを特徴とする、薄層の積層（Ａ）からなる、特に垂直入射で少なくともその表面の少なくとも一つの上に反射防止膜を含む透明基板（６）に関する。
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【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Ｂは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽３（３ａ、３ｂ）と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽４（４ａ、４ｂ）とを組み合わせてなる洗浄槽列１（１ａ、１ｂ）が２組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 （もっと読む）

【課題】 ＤＮＡあるいは蛋白質等の生体物質サンプルを基板に共有結合により強固に固定化することにより、従来遺伝子解析のための処理を進める際（例えばハイブリダイスの際）にスポットが抜け落ちるといった問題点を解決すること。
【解決手段】 オリゴヌクレオチドまたはＤＮＡ断片を表面に担持可能なスライドグラスにおいて、炭化ハフニウム、炭化ニオブ、炭化珪素、炭化タンタル、炭化トリウム、炭化チタン、炭化ウラン、炭化タングステンまたは炭化ジルコニウム等の表面処理層が形成されていることを特徴とするスライドグラス。また、表面処理層の被膜上に、オリゴヌクレオチドまたはＤＮＡ断片を担持させたスライドグラス及びスライドグラスの表面に遺伝子を担持させて遺伝子を解析する方法。 （もっと読む）

本発明は、（Ａ）屈折率が２．０以上である被膜、（Ｂ）屈折率が１．８以下である無色被膜、および（Ｃ）屈折率の高い非吸収性被膜、ならびに要すれば（Ｄ）外部保護層を含む少なくとも１つの層配列を有する複被覆小板状基材に基づく干渉顔料に関する。 （もっと読む）