【課題】マスクブランク用基板に表面欠陥が発生した場合でも、簡便にかつ基板の平坦度及び表面粗さに悪影響を及ぼすことなくマスクブランク用基板の表面欠陥を修正することのできる、低コストかつ高い歩留まりのマスクブランク用基板の製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の２つの主表面を研磨する工程と、前記基板の主表面に存在する表面欠陥に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させて前記表面欠陥を修正する工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来よりも搬送によりガラス基板につく傷をなるべく少なくするガラス基板搬送装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程において前記ガラス基板を略水平状態で搬送するガラス基板搬送装置１００であって、回転軸１０１と、駆動部と、リング部材１０２とを備える。回転軸１０１は、ｊ個（ｊは４以上の整数）ある。回転軸１０１は、搬入側から搬出側に向かって第１、第２、・・・、第ｊ回転軸１０１と並ぶ。リング部材１０２は、第１状態となるように配置される。第１状態とは、直線Ｌ１および直線Ｌ２それぞれと第ｍ回転軸１０１（ｍは２より大きく、かつ、ｊより小さい整数）とが直交する点Ｐ１および点Ｐ２上にリング部材１０２が装着されておらず、かつ、第ｍ回転軸１０１上のＰ１およびＰ２の間にリング部材１０２が１つ装着されている状態である。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】煩雑な操作を要することなく、接着強度に優れたポリビニルアルコール系樹脂体とガラス板からなる積層体の製法を提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコール系樹脂体とガラス板からなる積層体の製法であって、上記ポリビニルアルコール系樹脂体として、ビニルアルコール構造単位の含有量が３０〜９０モル％であるポリビニルアルコール系樹脂体を準備し、その樹脂体の表面をプラズマ処理した後、上記プラズマ処理面とガラス板とを圧着させポリビニルアルコール系樹脂体とガラス板との積層体を製造する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気等の気体を遮蔽するガスバリア性や可撓性に優れ、しかも２枚のガラス基板を一定の間隔に保持するスペーサ材としての機能も備えたシール材を提供する。
【解決手段】シール材１は、厚み１〜１００μｍのガラスリボンからなり、その両面２，３と、側面４は、火造り面となっている。ガラスリボンはその偏肉が、その厚みの２０％以内であり得、厚みに対する幅のアスペクト比が２５〜２０００であり得、遷移元素を含有し得る。ガラスリボンの表面は、成膜処理され得る。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材を提供する。
【解決手段】板状のガラス基板１をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、主表面１１，１２及び端面１３を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材１であって、前記主表面１１，１２と前記端面１３とで構成されるエッジ部１４は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されないエッジであり、前記ガラス基材１は、イオン交換処理により化学強化されたガラスとする。 （もっと読む）

【課題】極薄のガラス基板をクラックを進行させることなく製造することができる表示装置製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１１１に、薄膜トランジスタ、有機ＥＬ素子等の薄膜１１２を成膜し、不浸透膜により封止する（ステップＳ１１）。エッチング液の侵入を防ぐためのシール材１１４を薄膜１１２成膜面に形成する（ステップＳ１２）。引き続き、ガラス基板１１１をエッチング液に浸漬し、厚さが０．２ｍｍになるまで、ガラス基板１１１を溶融する（ステップＳ１３）。次に、ガラス基板１１１を、切断線１１３に垂直な断面で見た場合に、薄膜１１２が形成された面が凹面となるように曲げ、切断線１１３に沿って、スクライブホイール１１５を押し当て、ガラス基板１１１を切断する（ステップＳ１４）。切断されたガラス基板１１１の各々は、有機ＥＬ表示パネル１１７として使用される（ステップＳ１５）。 （もっと読む）

【課題】ガラスからなるベース基板２に複数の貫通電極８、９を高位置精度で形成することができるパッケージ１の製造方法を提供する。
【解決手段】板状ガラス３０に複数の貫通孔１３ａを形成し、２枚の基台１ａ、１ｂに複数の貫通孔１３ｂを形成する。次に、２枚の基台１ａ、１ｂの間に板状ガラス３０を挟持し、基台の複数の貫通孔１３ｂと板状ガラス３０の複数の貫通孔１３ａとの位置合わせを行い、導体から成るワイヤーを貫通させて２枚の基台１ａ、１ｂの間にワイヤー２を張る。次に、板状ガラス３０をその軟化点よりも高い温度に加熱して、基台間のワイヤー２をガラスに埋め込み、ガラスを冷却し、ワイヤーが埋め込まれたガラスインゴットを形成する。次に、このインゴットをスライスしてガラス基板１１を形成し、このガラス板１１を研磨し、表面と裏面にワイヤーを露出させて貫通電極１０とする研削工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ母材の外径を常時測定することで、繰り返し行っているエッチング、水洗浄、外径測定が１度で済み、時間短縮を図ることができる光ファイバ母材のフッ酸処理装置を提供する。
【解決手段】線引き前の光ファイバ母材２の表面層を除去すると共に光ファイバ母材２を目標の外径にエッチングするための光ファイバ母材のフッ酸処理装置１において、光ファイバ母材２を収容すると共に光ファイバ母材２の表面層をエッチングするためのフッ酸を注入するフッ酸浸漬用容器７と、フッ酸浸漬用容器７の外側に設けられ、光ファイバ母材２の外径を測定する非接触式の外径測定器８と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル性のある薄膜ガラスからなるガスバリア性部材において、ガスバリア性が高く、屈曲後も高いガスバリア性を維持する、安定性の高いガスバリア性部材及びその製造方法を提供し、かつ、該ガスバリア性部材を有する有機光電変換素子を提供する。
【解決手段】薄膜ガラス３の少なくとも片面に、パーヒドロポリシラザンを含有する組成物から形成された保護層を有するガスバリア性部材において、該保護層が、１）二酸化ケイ素層１、及び２）１）とは組成の異なるケイ素化合物層２の少なくとも２層以上の層からなることを特徴とするガスバリア性部材。 （もっと読む）

【課題】合成石英ガラス基板から成る半導体フォトマスクやナノインプリントテクノロジーにおいて、使用されているレジスト膜と、レジスト膜の上に形成されている保護膜を同時に除去することができ、不要となった膜成分を容易に回収でき、剥離させるための溶剤を長く使用することができると共に、レジスト膜又は保護膜の除去能力及び膜の除去にかかるタクトタイムを改善できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板表面にレジスト膜が被覆された合成石英ガラス基板を、テルペン類が溶解している溶剤に浸漬して、上記レジスト膜を剥離し、次いで当該基板を水リンスする。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面に形成された変質層を容易に選択的に除去し、特に相分離ガラスの場合には全体に均一な孔径を持つ空孔を有する多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ、酸化ホウ素、アルカリ金属酸化物を含有する混合物を溶融してガラス体を作成する工程と、前記ガラス体を加熱して相分離させて分相ガラス３を作成する工程と、前記分相ガラス３の表面に生成した変質層２に、多孔質支持体１に保持されたアルカリ性溶液を接触させて前記変質層２を除去する工程と、前記変質層２を除去した分相ガラス３を酸溶液に浸漬して前記分相ガラス３に空孔を形成する工程を有するガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】分相ガラスの酸溶液による選択エッチングの工程で、処理時間が短縮でき、且つ多孔質の細孔中にゲル状シリカの残留、堆積が抑制された多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】分相ガラスをエッチングして多孔質ガラスを製造する方法において、前記分相ガラスを酸溶液を収容した浴中に浸漬させ、前記分相ガラスの多孔質化させたい面と浴液面のなす角度θを１０°以上９０°以下とし、且つ超音波を前記浴中に照射して前記分相ガラスをエッチングする多孔質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】相分離ホウケイ酸塩ガラスにおける表面の変質層を選択的に取り除き、特に相分離ガラスの場合では、相分離構造のシリカ骨格を有するガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ホウケイ酸塩ガラスの表面に粘度が５ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下であるアルカリ性水溶液を接触させる工程を有するガラスの製造方法。シリカ、酸化ホウ素、アルカリ金属酸化物を含有するガラス体を作成する工程と、前記ガラス体を加熱して相分離させて相分離ガラスを作成する工程と、前記相分離ガラスの表面に粘度が５ｍＰａ・ｓ以上２００ｍＰａ・ｓ以下であるアルカリ性水溶液を接触させる工程と、前記アルカリ性水溶液に接触させた相分離ガラスを酸溶液に浸漬して前記相分離ガラスに空孔を形成する工程を有するガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルや、医療分野に於いて使用されるガラスに於いて、すぐれた抗菌性を持つものが求められている。
【解決手段】溶融スズの上に溶融ガラスを浮上搬送しながら板状に成形されるフロート法によって製造させたソーダライムガラスに於いて、上記ソーダライムガラスの溶融スズと接触したガラス表面が、蛍光Ｘ線分析法によって測定されたＳｎのＸ線強度とＳｉのＸ線強度の比（Ｓｎ／Ｓｉ）が０．００５０以下であり、カリウムと抗菌性物質を含む混合溶融塩の強化塩浴に浸漬することで、化学強化と同時に抗菌性物質をガラスに担持させ、４ｍｍの厚みにおける可視光透過率が８０％以上であるような抗菌ガラスを得ることを特徴とする抗菌性ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来よりも寿命が長い、ガラス基板表面を薄板化研磨するためのガラス基板用化学研磨液を提供する。
【解決手段】フッ酸及びフッ化アンモニウムの混合溶液が０.５〜１０容量％（好ましくは、２〜８容量％、より好ましくは、２〜８容量％）、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸の中から選ばれた少なくとも１種類の酸溶液が２０〜６０容量％の割合で含まれていることを特徴とするガラス基板用化学研磨液。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の互いに対向する一方及び他方のそれぞれの主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板の一方及び他方のそれぞれの主表面から前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材を得る第１の工程と、前記ガラス基材の厚さ方向の流れを持つエッチャント中で前記ガラス基材をエッチングする第２の工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】厚みが２００μｍ以下のガラスフィルムを基材とした光学フィルムであって、反りの抑制された光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルム１は、透光性のガラスフィルム１１と、第１及び第２の無機光学的機能膜１２，１３とを備えている。ガラスフィルム１１の厚みは、２００μｍ以下である。第１の無機光学的機能膜１２は、ガラスフィルム１１の一方の表面１１ａの上に形成されている。第２の無機光学的機能膜１３は、ガラスフィルム１１の他方の表面１１ｂの上に形成されている。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が携帯機器用カバーガラスの高いガラス基材を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなり、一対の主表面及び端面を持つ携帯機器用カバーガラスのガラス基材であって、前記端面における前記主表面の面方向外側へ突出する頂部は、ＵＬ（Underwriters Laboratories）−１４３９に準拠するシャープエッジテストで表面から２層が切断されない形状であり、前記一対の主表面及び前記端面には、イオン交換処理により化学強化されることによって圧縮応力層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 使用済みフォトマスクを用いて再生フォトマスク用基板を製造する場合において、フォトマスク用基板としての品質基準を担保しつつ、その製造コストを低減させる。
【解決手段】透明基板の第１主表面上に膜パターンが形成された使用済みフォトマスクを用いる再生フォトマスク用基板の製造方法であって、第１主表面上から膜パターンを除去する工程と、第１主表面及び第２主表面をそれぞれ研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程において、第１主表面及び第２主表面における転写領域外に、３００μｍ以上の大きさの傷欠陥が残留せず、かつ２μｍ以上３００μｍ未満の大きさの傷欠陥が残留する研磨量であって、かつ、第２主表面における転写領域内に、１００μｍ以上の大きさの傷欠陥が残留しない研磨量の研磨を行う。 （もっと読む）