【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、石英ガラス基板の研磨に用いられたコロイダルシリカ等の研磨剤と研磨パッドによる有機物汚染等の異物とをほぼ完全に取り、最終洗浄の負担を軽くした予備洗浄の方法を提供することにある。
【解決手段】フッ素又はフッ素化合物と硫酸と水とからなる洗浄液に研磨した石英ガラス基板の洗浄方法であって、該洗浄液中の硫酸濃度が９３〜９９ｗｔ％、フッ素濃度が０．１〜２ｗｔ％（洗浄液全体で１００ｗｔ％）であり、該洗浄液の温度が５０℃以上１００℃以下であることを特徴とする研磨した石英ガラス基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ成分等の溶出が少ない医療用ガラス容器を簡易に製造できる手段を提供する。
【解決手段】底部７３と口部７１とを有する容器形状にガラス管６５を加工してアンプル７０とする第１工程と、アンプル７０の内部空間７２へポイントバーナー３０の炎２３を噴出させて炎２３を内周面７５に当てる第２工程と、を含むので、アンプル７０の内周面７５に付着又は残留したアルカリ成分が吹き飛ばされて除去される。これにより、アルカリ成分等の溶出が少ないアンプル７０が簡易且つ低コストで製造される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザー光照射による改質現象を用いた電子部品の製造方法における加工精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】そして、この目的を達成するために本発明は、透明体１１の表面に前記透明体１１よりも反射率の高い材料からなるパターン１２を形成する工程と、前記パターン１２に光を照射するとともに前記パターン１２からの反射光の強度から前記パターン１２の高さ情報を認識する工程と、前記パターン１２の高さ情報から前記透明体１１の表面あるいは裏面の高さ情報を算出する工程と、前記透明体１１の表面あるいは裏面の高さ情報に基づき前記透明体１１にレーザー光を照射するとともに前記透明体１１を改質させる工程と、を有する電子部品の製造方法としたものである。 （もっと読む）

【課題】誘虫性が低く、かつ色調が良く、耐熱性が高い光学フィルタ及びそれを用いた照明器具を提供する。
【解決手段】光学フィルタ１は、ガラス部材２上にコーティング膜３が形成されている。コーティング膜３は、透明性バインダー３４に、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２００ｎｍかつ体積基準９０％径が３００ｎｍ未満であって、表面がシランカップリング剤で処理されたバナジン酸ビスマス粒子３１と、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２００ｎｍである酸化亜鉛粒子３２と、体積平均粒径が１０ｎｍ〜２００ｎｍであるコバルト複合酸化物粒子３３が含有されている。これにより、紫外線がカットされると共に、それより長い一部の波長域の透過率が適度に低くなり、バナジン酸ビスマス粒子３１の表面処理によって耐熱性が高くなる。 （もっと読む）

【課題】水素分離膜の取扱いを容易なものとし、生産性を向上させ得る水素分離体の製造方法、水素分離体の製造装置及び水素分離膜付き成膜用基板を提供すること。
【解決手段】水素分離体の製造方法は、多孔質支持体と該多孔質支持体表面に接合された水素分離膜とを有する水素分離体の製造方法であって、成膜用基体と該成膜用基体の表面に成膜された水素分離膜とを有する水素分離膜付き成膜用基体と、多孔質支持体とを、該水素分離膜が該多孔質支持体に対向するように密接させ、加熱及び加圧処理により、該水素分離膜を該多孔質支持体に転写する工程を含む。 （もっと読む）

レーザベースの変位検出器(26)を使用して、透明な物品(20)の一つの面に塗布された化粧コーティング(22)を検出し、それによって、レーザ加工システムの中に装填されているときにどの面が最も上になっているかを判定する。具体的には、可視光に対して透明で、レーザ加工システムの中で適切な向きにすることが特に困難である物品(20)が、レーザベースの変位検出器(26)を物品(20)上の部分コーティング(22)と共に使用することによって、向きを定められる。 （もっと読む）

【課題】簡単に製造できる大径のガラス非球面レンズを得る。
【解決手段】直径略３０mm以上の片面非球面、片面球面のガラス非球面レンズであって、非球面のみガラスモールドにより成形され、球面は、前記ガラスモールド成形後、球面研磨により設計規格内に修正研磨されていて、前記非球面は研磨されていない。 （もっと読む）

【課題】複数のガラスを同時に液体に浸漬しつつ、ガラスへの傷の発生を低減し、且つガラス表面への液体の供給及び排出を速やかにできる浸漬用部材、保持部材及び保持部材ユニットを提供する。
【解決手段】浸漬用部材１ａは、複数のガラスＧの液体への浸漬に用いられ、ガラスＧを互いに非接触状態に維持しつつ載置する複数の載置部１１と、前記載置部１１に液体を流入し且つ前記載置部１１から液体を流出する流路１２と、を備える。保持部材は、この浸漬用部材１と、主表面の設けられた側から載置部の少なくとも一部を覆う蓋体と、を備える。また、保持部材ユニットは、保持部材が収納容器に収納されてなる。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ、且つアナターゼ型の酸化チタンおよび／又はＷＯ_３の結晶相を有する層が形成されているガラスセラミックス複合材を提供する。また、複雑な工程を必要とせず、簡単な方法で前記ガラスセラミックス複合材を製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックス複合材は、ガラス基材の上にＴｉＯ_２、ＷＯ_３、及びこれらの固溶体のうちいずれかからなる結晶相を含む層が形成されている。このガラスセラミックス複合材は、好ましくは、前記結晶相物質を屈伏点８００℃以下のガラス基材の上に配置し、加熱・加圧によって一体化させることによって作られる。 （もっと読む）

【課題】焼結助剤として適切な球状ガラス微粒子を提供する。
【解決手段】組成として，酸化物換算で，Ａｌ_２Ｏ_３を含有せず，４０〜９７モル％の量のＳｉＯ_２と，５０モル％以下の量の，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ及びＢａＯよりなる群より選ばれる１種又は２種以上のアルカリ土類金属酸化物と，又は更に，６０モル％以下の量のＬｉ_２Ｏ，Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏよりなる群より選ばれる１種又は２種以上の金属酸化物とを含んでなり，平均粒子径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の球状ガラス微粒子とする。 （もっと読む）

【課題】コロージョンの発生を防止して、片面のみを記録面として使用する、高記録密度の磁気ディスク用ガラス基板を得ることができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、主表面研磨工程において、ガラス基板の一方の主表面に対して所定の算術平均粗さになるように主表面研磨処理を行い、ガラス基板の他方の主表面に対して前記一方の主表面の算術平均粗さ（Ｒａ）よりも粗く、前記他方の主表面から前記磁気ディスク用ガラス基板を構成する成分の溶出を防止するために十分な粗さになるように前記他方の主表面に対して主表面研磨処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスの長所を有効に活用できるようにした電子装置用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス母材ＧＬの表裏面のうち、表面全体に反射防止膜を形成する成膜工程（ＳＴ１）と、反射防止膜を設けたガラス母材の表面全体に、耐フッ酸性のレジスト層を設けるレジスト工程（ＳＴ２）と、レーザ光又はカッタ刃によって、ガラス母材の表面から、貫通しない区画ラインＧＶを形成して、ガラス母材を複数の使用領域に区画する区画工程（ＳＴ３）と、区画工程を経たガラス母材を化学研磨して、ガラス母材を裏面側から薄肉化すると共に、区画ラインＧＶを表面側から深化させるエッチング工程（ＳＴ４）と、を有して一枚のガラス母材から複数枚の電子装置用ガラス基板を製造する。 （もっと読む）

【課題】 透明かつ低比抵抗の薄膜積層体を提供すること。
【解決手段】 基板上に成膜したＺｎＯ薄膜層、その上に成膜した金属ナノ粒子層、更にその上に成膜したＺｎＯ薄膜層からなる薄膜積層体であって、結晶質である２つのＺｎＯ薄膜層が挟んだ金属ナノ粒子層は金属ナノ粒子を連結した金属ナノ層からなる構造をしており、比抵抗が８．０×１０^-４Ωｃｍ以下であり、かつ可視光透過率が７０％以上の薄膜積層体を得た。本発明の薄膜積層体は、透明導電膜、太陽光発電電極、電磁波シールド材等として使用できる。 （もっと読む）

【課題】算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ近傍のレベルにおいて表面に存在する欠陥数が非常に少なく、高記録密度磁気ディスク用の基板として適している磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、磁気ディスク用ガラス基板を洗浄する洗浄工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記洗浄工程において、前記磁気ディスク用ガラス基板を、炭酸ガスを溶解した液体でスクラブ洗浄する。 （もっと読む）

【課題】ビル、車両、家屋などの窓としてまたは窓ガラス等に貼って使用され、夏季の冷房負荷軽減および表面の防汚に効果的な、可視光透過および熱線反射の機能ならびに光触媒機能表面を有するシートを実現すること。
【解決手段】波長５５０ｎｍの光に対する消衰係数が０．１以下の材料の層、日射熱反射機能を有する銅合金の層、および、酸化チタンの層を透光性基材上に積層したシートであって、最外層がセルフクリーニング光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタンとなるように構成し、分光反射率が波長８００ｎｍにて４０％以上、波長１０００ｎｍにて６０％以上、波長１２００ｎｍにて７０％以上であり、かつ、分光透過率が波長５００ｎｍにて２５％以上、波長６００ｎｍにて２５％以上、であることを特徴とする日射熱反射シート。 （もっと読む）

【課題】 ガラスなどの透明部材に、不純物をドーピングするドーピング方法、および、このドーピング方法を用いて光学デバイスを製造する方法として、さらに、透明部材内に不純物のナノ粒子を生成するナノ粒子生成方法として、簡易な方法で透明部材の光学特性を大きく変化させることができるドーピング方法、光学部材の製造方法、および、ナノ粒子生成方法を提供すること。
【解決手段】 透明部材１の一表面に不純物２を当接させた状態で、前記透明部材１の前記一表面の反対側の面から超短光パルスレーザービーム４を照射し、前記透明部材１内での前記超短光パルスレーザービーム４の自己集束作用によって生じるフィラメント領域５を、前記透明部材１と前記不純物２との当接部分に生成させて、前記不純物２を前記透明部材１内にドーピングする。 （もっと読む）

【課題】被加工物の内部に形成される改質領域の断面形状をより均一にすること。
【解決手段】レーザ光１４が入射される被加工物１の上面１ａに対してレーザ光１４の光軸を傾けるようにした。それゆえ、改質領域１９の長手方向を、被加工物の上面１ａと垂直なｚ軸方向に対して傾けることができる。そして、改質領域１９のｚ軸方向の長さを短くすることができる。そのため、例えば、被加工物１の内部に、ｚ軸方向に沿って並ぶ複数の改質領域１９からなる第１改質領域列と、ｘ軸方向に沿って並ぶ複数の改質領域１９からなる第２改質領域列とを形成した場合、第１改質領域列のｘ軸方向の幅と第２改質領域列のｚ軸方向の幅との差を低減できる。したがって、被加工物１の内部に形成される、複数の改質領域１９からなる改質領域列の断面形状をより均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】
基板面内でのパーティクル除去均一性を向上することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】
基板洗浄装置１は、処理液を貯留する処理槽１０と、基板Ｗを保持する基板保持部２１を備え、基板を昇降移動させるリフタ２０と、伝播水を貯留する伝播槽３０と、伝播槽３０の底部に設けられた超音波振動子３１と、分散発生部８０とを備え、処理槽１０に浸漬した基板Ｗと超音波振動子３１との間に分散発生部８０を配置することにより、超音波振動が付与された分散発生部８０の反対側で、基板面内におけるキャビテーションのバラツキを抑制することができる。そのため、基板Ｗ面内でのパーティクルの除去均一性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、耐傷性と耐アルカリ性を付与するためにウレタン一層コーティングを施したガラスびんに、褐色とは異なる緑色、赤色等の着色をして色調性を持たせるとともに、その着色によって日光臭を予防する遮光性を付与することである。
【解決手段】本発明に係る着色コーティングガラスびんは、ガラスびんの外表面に、ウレタン樹脂を主成分とし、着色剤が分散されたコーティング被膜が施されており、コーティング被膜は、ガラスびんの外表面のうち少なくとも側壁面の全面を一層コーティングで被覆し、コーティング被膜の平均膜厚は３０μｍを超えて８０μｍ以下であり、着色剤は、遮光性と着色性を備えた無機顔料及び有機顔料の両方を含み、かつ、コーティング被膜中に、着色コーティングガラスびんでの波長４６０ｎｍ以下の透光率が１％未満となる量が含有されている。 （もっと読む）

【課題】焼成処理を行うことなく低温でガラス基板を修復する。
【解決手段】ガラス基板の修復方法は、表示領域５内に凹部６０が形成されたガラス基板１０を修復するための方法であり、凹部６０に、架橋されたエポキシ樹脂または架橋された（メタ）アクリル樹脂の原料となる複数種類の原料物質を光開始剤とともに充填し、光照射および熱処理によって充填した原料物質を共重合させる。その結果、複数種類の原料物質が共重合してなる透明樹脂６５によって、ガラス基板１０の表面の凹部６０が修復される。よって、焼成処理を行うことなく低温でガラス基板１０を修復することができる。また、透明樹脂６５は複数種類の原料物質がランダムに共重合した網状構造となっているため、光学異方性が抑制され、液晶表示パネルにおいて意図しない輝点などが発生するのを防止することができる。 （もっと読む）