【課題】 使用済みフォトマスクを用いて再生フォトマスク用基板を製造する場合において、フォトマスク用基板としての品質基準を担保しつつ、その製造コストを低減させる。
【解決手段】透明基板の第１主表面上に膜パターンが形成された使用済みフォトマスクを用いる再生フォトマスク用基板の製造方法であって、第１主表面上から膜パターンを除去する工程と、第１主表面及び第２主表面をそれぞれ研磨する研磨工程と、を有し、研磨工程において、第１主表面及び第２主表面における転写領域外に、３００μｍ以上の大きさの傷欠陥が残留せず、かつ２μｍ以上３００μｍ未満の大きさの傷欠陥が残留する研磨量であって、かつ、第２主表面における転写領域内に、１００μｍ以上の大きさの傷欠陥が残留しない研磨量の研磨を行う。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属のガラス基板の表面への拡散を確実に防止することができるマスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスクを提供すること。
【解決手段】マスクブランクス１０は、アルカリ金属を含有するガラス基板１、このガラス基板の表面上に形成された拡散防止層２、拡散防止層２上に形成された遮光層３、遮光層３上に形成された反射防止層４を備える。ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。表面粗さＲａが２ｎｍ以下であっても、拡散防止層２が設けられることにより、ガラス基板１からアルカリ金属が他の層へ拡散することを抑制し、マウスニップ欠陥の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】マークエッジ部分での光の散乱、反射を防ぐことにより、マークの視認性を低下させ、光学ガラス部材の光学特性に影響を与えないマークを形成する。
【解決手段】光学ガラス部材のマーク形成方法であって、ガラスプリフォームを用意することと、ガラス粒子を含む被膜を前記ガラスプリフォームの表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子をガラスプリフォームの表面に融着させて融着膜を形成することと、融着膜が形成されたガラスプリフォームをプレスすることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】電子デバイス用基板の主表面上に薄膜を形成してマスクブランクを製造するマスクブランクの製造方法であって、
前記薄膜を形成する側の主表面の表面形状が凸形状である基板に対し、クロムを主成分とする材料からなり、引張応力を有する前記薄膜をスパッタリング法で形成することにより、前記薄膜の成膜前よりも主表面の平坦度が高いマスクブランクを得ることを特徴とするマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】破損を来たし易いガラスフィルムのハンドリング性の向上と、そのガラスフィルムの幅方向両端部の切断の容易化とを同時に達成する。
【解決手段】ガラスフィルムＧの表裏両側の面の幅方向両端部の非有効部Ｇｂを除く幅方向中央部の有効部Ｇａにのみ樹脂フィルム６を貼着した後、この樹脂フィルム６でガラスフィルムＧの有効部Ｇａを保護した状態で、樹脂フィルム６が貼着されていないガラスフィルムＧの非有効部Ｇｂを切断する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性に優れた調理器用トッププレートを提供する。
【解決手段】調理器用トッププレート１は、基板１０と、基板１０の一方の表面１０ａ上に形成されており、酸化ジルコニウムからなる複数の柱状構造体２１により構成された柱状構造を有するコーティング層２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】エッチング加工における加工形状の誤差を低減する。
【解決手段】石英ガラス２４にプラズマジェットガン１からプラズマジェット３１を照射し、表面加工する工程において、プラズマジェット３１と石英ガラス２４との反応による発光部３２をＣＣＤビデオカメラ２７で撮像する。発光部３２の波長４４０ｎｍのスペクトルを検出し、その発光強度分布から求めた除去形状と目標除去形状との差を縮小するように、プラズマジェット３１と石英ガラス２４との相対位置、除去量及び除去径を制御する。 （もっと読む）

【課題】小粒子、すなわちおよそ１〜５０μｍの粒子を、１．２ｍｍ以下の厚さを有するガラスシートの表面から効果的に洗い落とす方法を提供する。
【解決手段】コンベヤ４０がガラスシート２を支持し、流体散布器２０のノズルバンク２２ｃ，２２ｄに設けられたノズル２４から、ガラスシート２の主表面６に向けて流体３２が噴出される。流体３２は１０〜８０ｋｇ／ｍ²（９８．０７〜７８４．５Ｐａ）の圧力および１〜２０Ｌ／分の流量でノズル２４に送り込まれ、かつガラスシート２はノズル２４に対し搬送速度４〜６ｍ／分で搬送方向４に移動する。ノズル２４はガラスシート２から１００ｍｍ未満離れて配置される。 （もっと読む）

【課題】表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性を優れたものとすることができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、円盤状のガラス素板から形成されている。同ガラス素板は、ガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含む多成分系のガラス材料より形成される。また、ガラス素板の表面には、該ガラス素板の洗浄時に洗浄液の影響により、内部と比較してガラス組成中における珪素酸化物の含有率が異なる異質層が形成されている。同異質層は、ガラス素板の表面が研削されることにより、その異質層の一部が除去されている。 （もっと読む）

【課題】被着体に直接貼付が可能であり、優れた耐熱性を有し、急激な温度上昇や急水冷等の急激な温度変化時においてもクラック等の発生がなく、さらに、焼成により耐薬品性及び引っかき抵抗性を発揮することができる焼成用積層シートを提供することを主な目的とする。
【解決手段】保護シート、仮接着層、耐熱基材層、可燃性接着剤層及び剥離シートが、この順で積層され、該耐熱基材層がガラスフリット層、識別インク層、及び基材色インク層で構成された３０μｍ以下の層であり、かつ、識別インク層及び基材色インク層が無機顔料を有する、焼成用積層シートである。 （もっと読む）

【課題】切断による樹脂の剥離や歪みを発生させずに、光学素子を作製することが可能な光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と金型５０との間に光硬化性の樹脂６０を設けて、基材１と金型５０とによって樹脂６０を挟むことで、金型５０の転写構造５１を樹脂６０に転写する。転写構造５１の形状が転写された樹脂６０に対して光を部分的に照射することで、樹脂６０を部分的に硬化させる。光が照射されていない箇所で基材１を切断することで、複数の光学素子を作製する。 （もっと読む）

【課題】長波長レーザ光を低損失で伝送でき、且つ、比較的簡単な工程で長尺にすることができる中空光ファイバ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の中空光ファイバ１は、線膨張係数がA1、軟化点がT1のガラス管２と、前記ガラス管の内周面に形成された、線膨張係数がA1よりもわずかに大きい値A2で、且つ、融点がT1に近い値T2である金属層３から成る。金属層３は、エアロゾル容器内にガスを送り込んで前記微粒子原料をエアロゾル化し、前記ガスと共に前記エアロゾル化した微粒子原料を、線膨張係数がA2とほぼ等しいか或いはわずかに小さい値A1で、且つ軟化点がT2に近い値T1であるガラス管２内に送り込み、前記ガラス管２内を排気しつつ該ガラス管２の外周方向から前記ガラス管２を加熱することにより該ガラス管の内周面に形成される。 （もっと読む）

【課題】穴径や穴の深さが異なる複数種の穴を一括して高精度に形成させることができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】ゾーンプレートアレイ５は、集光点における光強度と焦点距離との少なくとも一方が相互に異なる複数種のゾーンプレートを備え、レーザ光源４から放射されたレーザ光を前記ゾーンプレートで集光させ、搬送装置３で搬送される被加工基板２に穴開け加工を施す。ゾーンプレートの遮光部分（遮光輪帯）は、マスクを用いた金属蒸着によって形成できるから、複数種のゾーンプレートを高い光学的精度で形成することが容易で、径や深さの異なる複数種の穴を、高い精度で一括して開けることができる。 （もっと読む）

【課題】閉鎖空間を囲むガラス材であって、透明度を保ちながら、太陽光線等により閉鎖空間内部に蓄積した熱を効率よく外部へ放出させうるもの、及びそれを用いた放熱方法を提供する。
【解決手段】常温熱放射の波長域における放射熱吸収率が８５．７％以上のガラス基体１の片面に、常温熱放射の波長域における放射熱透過率が８０．７％以上で放射熱吸収率が１９．２％以下の被膜２を形成して高放熱性複合ガラスとし、これを閉鎖空間の隔壁の少なくとも一部に使用し且つ前記被膜２が閉鎖空間内部Ａに向くように配置することによって、閉鎖空間内部Ａに蓄積された熱を外部に放熱する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が改善された近赤外線遮蔽材料微粒子分散体とこれに含有する近赤外線遮蔽材料微粒子等を提供する。
【解決手段】この近赤外線遮蔽材料微粒子分散体に含有する近赤外線遮蔽材料微粒子は、一般式ＭｙＷＯｚ（ＭはＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｍｇの内から選択される１種以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．１≦ｙ≦０．５、２．２≦ｚ≦３．０）で表記される六方晶の結晶構造を有する複合タングステン酸化物微粒子と酸化亜鉛微粒子の混合物であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明では、ブラシを用いた洗浄でも機能性膜表面に傷や剥離を発生させない洗浄方法を提供することを課題とする。
【解決手段】表面に成膜された膜付きガラス板の少なくとも膜表面に、該膜面に対し平行方向に４００〜６００Ｈｚで往復振動する洗浄用ブラシ毛を接触させて洗浄すること。 （もっと読む）

【課題】 板厚が１ｍｍ〜１０ｍｍ程度を有するガラス基板に、レーザを用いて高速かつ残留応力を抑えた穴あけ加工（穴径１ｍｍ〜１０ｍｍ程度）を提供する。
【解決手段】 先ず、ＣＯ_２レーザにてガラス基板へ高速に穴あけ加工を行い、次に該穴に対してＵＶレーザを用いて除去幅を１００μｍ以上とした穴内壁の仕上げ加工を行う。これにより、ドリルを用いることなく、ガラス基板に残留応力や穴内壁のバリ等の少ない穴を加工することができる。 （もっと読む）

本発明は、ガラス基材の一方の面の少なくとも一部に下にある面の最大１５％を覆う二酸化チタンからなる光触媒コーティングを備えたガラス基材を含む材料であって、前記光触媒コーティングが相互接続されたストランドの二次元網状構造の形態である材料に関する。
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【課題】強度や抗菌性に優れるだけでなく、ディスプレイ装置のカバーガラスとして好適な高い透明性と可視透過率とを備えたディスプレイカバーガラス用ガラス基板を低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板表面に表面圧縮応力層及び抗菌性物質含有層を備え、該ガラス基板の波長４２８ｎｍにおける透過率Ｔ１と波長６５０ｎｍにおける透過率Ｔ２との比（Ｔ１／Ｔ２）が０．９５以上、かつ該ガラス基板の板厚が０．１〜３．０ｍｍでの波長４２８ｎｍにおける透過率が８６％以上であるディプレイカバーガラス用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板を７５〜９９．９９９９質量％のＫＮＯ_３と０．０００１〜０．１質量％（ただし、０．１質量％を含まず）のＡｇＮＯ_３を少なくとも含む溶融塩中において化学強化処理と抗菌処理とを同時に行う工程と、前記化学強化と抗菌処理をしたガラス基板を清浄化処理する工程とを有する。 （もっと読む）