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Fターム[4G062GB03]に分類される特許
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ガラス板
【課題】本発明の技術的課題は、洗浄工程で保護膜が消失し難く、長期に亘って、傷が付き難いガラス板を創案することである。
【解決手段】本発明のガラス板は、少なくとも一方の表面に保護膜を有するガラス板において、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜70%、Al2O3 0〜20%、B2O3 0〜15%、Na2O+K2O 0〜30%、SrO+BaO 1〜40%を含有し、且つ保護膜がSr含有硫酸塩及び/又はBa含有硫酸塩を含むことを特徴とする。
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電子レンジ用耐熱ガラスおよび電子レンジ用耐熱ガラスの製造方法
【課題】ホットスポットが従来よりも発生しにくい電子レンジ用耐熱ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る電子レンジ用耐熱ガラスは、質量%で、SiO2 75〜85%、Al2O3 0〜5%、B2O3 10〜20%、Li2O 0〜5%、Na2O 1〜10%、K2O 0〜5%の組成を含有し、(Li2O+Na2O+K2O)/(SiO2+B2O3+Al2O3)が0.045〜0.055であり、内部の残留応力が5MPa以下であることを特徴とする。
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強化ガラス板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板(特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板)を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のSiO2の含有量を、ガラス板の表面から深さ1μmの内部領域に比べて、質量基準で1.03倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。
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基板用ガラスおよびガラス基板
【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を66〜77%、Al2O3を7〜17%、B2O3を0〜7%、Li2Oを0〜9%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%含有し、SO2、Al2O3およびB2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3+B2O3が81〜92%、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、Na2O、K2OおよびCaO含有量の合計Na2O+K2O+CaOが0〜10%、TiO2およびZrO2の含有量の合計TiO2+ZrO2が0〜5%である基板用ガラス。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ圧縮応力層の厚みが10μm以上であることを特徴とする。
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硫化物固体電解質材料、リチウム固体電池、および、硫化物固体電解質材料の製造方法
【課題】Liイオン伝導性の高い硫化物固体電解質材料を提供する。
【解決手段】Li、A(Aは、P、Si、Ge、AlおよびBの少なくとも一種である)、X(Xはハロゲンである)、Sを有し、ガラスセラミックスであり、CuKα線を用いたX線回折測定において、2θ=20.2°、23.6°にピークを有することを特徴とする硫化物固体電解質材料を提供する。該硫化物固体電解質材料はLi、A(Aは、P、Si、Ge、AlおよびBの少なくとも一種である)、およびSを有するイオン伝導体と、LiX(Xはハロゲンである)とから構成されている。
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無アルカリガラス基板および液晶ディスプレイパネル
【課題】ディスプレイ用の基板ガラスとしての特性に優れており、かつ耐還元性に優れており、フロート法による成形に適した無アルカリガラス基板の提供。
【解決手段】モル%表示で実質的に、
モル%表示で実質的に、
SiO2 60〜64%
Al2O3 0〜12%、
B2O3 5〜10%
MgO 1〜18%、
CaO 0〜18%、
SrO 0〜18%、
BaO 0〜2%、
CaO+SrO 12〜25%、
MgO+CaO+SrO+BaO 15.5〜30%
よりなり、アルカリ金属酸化物を実質的に含有せず、ガラス粘度がlogη=2となる温度T2 が1580℃ 以下である無アルカリガラス基板。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜3%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であることを特徴とする。
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伝導性材料
【課題】高いプロトン伝導性又はプロトン・電子混合伝導性を有すると共に、中温域で動作可能であり、しかも緻密な構造を有する伝導性材料を創案する。
【解決手段】本発明の伝導性材料は、組成として、下記成分換算のモル%表示で、SnO2 3.5〜25%、P2O5 12〜40%、SiO2 10〜50%、B2O3 1〜40%、Al2O3+Ga2O3+In2O3+Y2O3(Al2O3、Ga2O3、In2O3、及びY2O3の合量) 0.1〜10%を含有することを特徴とする。
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硫化物系固体電解質ガラスの製造方法
【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】LiR(Rは、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルキル基、炭素数4〜20のアルキルシクロアルキル基、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数4〜20のアルコキシシクロアルキル基である)と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される1以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。
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低粘度押出成形および射出成形のためのカルコゲナイドガラス
【課題】押出および射出成形を含む様々なポリマー成形プロセスに使用するのに適したガラスからなる精密光学要素を提供する。
【解決手段】微細または超微細いずれかの微小構造を有するカルコゲナイドガラス体を有してなり、このカルコゲナイドガラスは、一般化学式YZを有し、ここで、YはGe,As,Sbまたはこれら2つ以上の混合物であり、ZはS,Se,Teまたはこれら2つ以上の混合物であり、原子または元素パーセントで表して、Yは15〜70%の範囲にあり、Zは30〜85%の範囲にあり、GeがAsおよびSbの内の一方または両方と混合された場合には、Geの量は、0<Ge<25%の範囲にあり、また、このカルコゲナイドガラスは、500℃以下で10,000ポアズ以下の粘度を有し、1000〜10,000s-1の範囲の剪断速度下で結晶化に耐性である。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、TiO2結晶、WO3結晶、RnNbO3結晶、RnTaO3結晶(RnはLi、Na及びKから選択される1種以上)、RNb2O6結晶、RTa2O6結晶(RはBe、Mg、Ca、Sr、Ba及びZnから選択される1種以上)、ZnO結晶、ナシコン型結晶、Bi2O3結晶、Bi2WO6結晶、Bi2W2O9結晶、Bi2W3O12結晶、Bi2MoO6結晶、Bi2Mo2O9結晶、Bi2Mo3O12結晶、Bi2Ti2O7結晶、Bi2Ti4O11結晶、Bi4Ti3O12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO4結晶、Bi2Fe4O9結晶、BiVO4結晶、LiBiO3結晶、及びこれらの固溶体から選択される1種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。
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無アルカリガラス
【課題】CSP等の用途に要求される種々の特性を満足し得る無アルカリガラス、特にSiと整合する熱膨張係数を有する無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、mol%で、SiO2 50〜70%、Al2O3 9〜15%、B2O3 11〜20%、CaO 8〜12%を含有し、モル比(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al2O3の値が0.8〜1.2であって、密度が2.37g/cm3以下、102.5dPa・sにおける温度が1600℃以下であることを特徴とする。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、フッ酸系薬液に対するエッチングレートが速く、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、薄型のディスプレイパネルの製造工程において、スループットを向上させ、更にp−Si・TFTの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 58〜70%、Al2O3 15.5〜20%、B2O3 0〜1%、MgO 0〜5%、CaO 3.5〜16%、SrO 0.5〜6.5%、BaO 5〜15%を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が725℃より高いことを特徴とする。
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強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、30〜380℃の温度範囲における熱膨張係数が30〜100×10−7/℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。
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太陽調節グレイジング
【課題】乗り物のグレイジングを開示する
【解決手段】乗り物のグレイジングは色付きガラスのペインを備え、少なくとも1.0から1.8重量%までの全鉄によって色付けられ、その内面上に低放射(反射)率被膜を持つ。被膜は、0.05から0.4までの放射率を持ち、及び透明な導電性酸化物(及び随意にドーパント)、又は金属層及び少なくとも1種の誘電体層を含んでよい。好ましくは、ガラスは強化ガラスである。また、ガラスの2種のプライを備える積層グレイジングを開示し、これはそれらの間を中間層物質によって積層され、そこでは、ガラスの少なくとも1種のプライ又は中間層物質のシートが色付き本体であり、前記グレイジングはその内面上に低放射率被膜を持つ。内側プライは、清澄なガラスか、又は色付きガラスでよい。中間層物質は、清澄なPVBか、又は色付きPVBでよく、及びそれは更に赤外(線)反射性であってよい。いずれのグレイジングも、ルーフのか、又は他の乗り物のグレイジングとして用いることができる。
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硫化物固体電解質材料の製造方法
【課題】本発明は、一段階の簡略な工程で加熱することなく結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることが可能な硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、少なくとも硫黄(S)元素および第13族〜第15族の元素を含有する原料組成物を用い、室温での高エネルギーメカノケミカル処理を行う合成工程のみにより、結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。
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中空状ガラス球用組成物
【課題】本発明は、中空状ガラス球を形成するガラスの溶融成形性を向上させ、且つアルカリ溶出量が極めて少なく、化学的耐久性が良好な中空状ガラス球用のガラス組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】中空状ガラス球を形成するガラスを
SiO2 :30〜55質量%
B2O3 :3〜7質量%
ZnO :10質量%超〜30質量%
Al2O3 :5〜16質量%
MgO :0〜10質量%
CaO :20〜35質量%
SrO :0〜10質量%
BaO :0〜10質量%
SO3 :0.75〜3.5質量%
の組成物を含み、該組成物の合計が95〜100質量%からなる実質的にアルカリを含有しないガラスとすること。
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ガラス板
【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、3Dディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜80%、Al2O3 0〜30%、B2O3 0〜15%、アルカリ金属酸化物(Li2O、Na2O、K2Oの一種又は二種以上) 0〜25%、アルカリ土類金属酸化物(MgO、CaO、SrO、BaOの一種又は二種以上) 0〜15%を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】ガラスを原料として、光触媒を高濃度に含有して優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、TiO2成分を5〜50%、SrO成分を2〜50%、SiO2成分を10〜85%を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、チタン酸ストロンチウムSrTiO3結晶及びその固溶体結晶を含むことが好ましい。このガラスセラミックスは、バルク体、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。
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