【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量％でＳiＯ_２を０〜６、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜４０、ＺｎＯを１５〜２８、ＰｂＯを２０〜３４、ＢaＯを１０〜２５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）を０〜１０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜８、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１含むことを特徴とするＳiＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＢａＯ−ＰｂＯ系低融点ガラス。
重量％で、Ｂ_２Ｏ_３/ＺｎＯの比が、１以上であり、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が４８０℃以上５８０℃以下である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】 白色誘電体層に好適な耐酸性に優れ且つ軟化点の低い無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 オーバ・コートがZrO₂を1〜10(％)程度含むのに対し、リブ材層がZrO₂を含まないことから、その組成の相違に応じた程度だけ耐酸性が相違する。すなわち、上記エッチング処理におけるエッチング速度はオーバ・コートがリブ材層よりも低く、例えば1/10〜1/3程度の速度になっている。そのため、エッチング処理の酸濃度および処理時間を調節することにより、リブ材層をレジスト膜の開口パターンに従って溶解させ、その開口部内の部分を完全に除去しながら、オーバ・コートを殆ど溶解させられない当初の状態に略維持できる。すなわち、レジスト膜の開口パターンに従った所期の寸法および形状を備えた隔壁１４が形成される。 （もっと読む）

約１．６以上の高い屈折指数（ｎＤ）、スペクトルの近赤外線部分での高透過率、および広範なガラス形成域を有する、レーザー用のドープまたは共ドープされたフルオロリン酸ビスマスガラスの、新しい、改良された組成物が開示される。開示されているガラスシステムＡｌ（ＰＯ３）３‐Ｂａ（ＰＯ３）２‐Ｂｉ（ＰＯ３）３‐ＢａＦ２＋ＲＦｘ＋ドーパントは、ガラスベース組成物の１００パーセント（重量％）を超えて、ＭｎＯおよびその混合物に加え、希土類元素Ｎｄ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｔｍ、Ｔｂ、Ｈｏ、Ｓｍ、ＥｕおよびＰｒの酸化物およびまたはフッ化物の群からのドーパントを使用する。これらのガラスは、高い化学的耐久性、放射線抵抗、赤外線および青色スペクトルにおけるレーザー使用の効率、ならびに、改良された発光持続時間を有する。 （もっと読む）

【課題】 低温で焼成しても各種電気特性を損なうことなく緻密化しており、かつ誘電体粒子の粒径を微細化でき、薄層化に対応した誘電体磁器組成物を得ることができる焼結助剤を用いた誘電体磁器組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 誘電体酸化物を含む主成分と、焼結助剤とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、ＺｒＯ_２ 及びＳｉＯ_２ を主成分とするガラスで構成されており、前記ガラス中の各含有量が、１モルのＳｉＯ_２ に対して、ＺｒＯ_２ ：０．７〜１．３モルである焼結助剤を、前記主成分１００モルに対して１〜７モル（但し１モルと７モルを除く）添加して、前記誘電体磁器組成物を製造することを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
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【課題】 鉛を含有しないにもかかわらず、十分に低融点で、耐水性・耐久性にも優れ、安価に製造可能な低融点封着ガラス及び低融点封着剤を開発する。
【解決手段】 鉛を含有しないリン酸スズガラスであって、Ｐ_２Ｏ_５を２６．５〜２７．５mol％、Ａｌ_２Ｏ_３を１．５〜２．５mol％、ＳｎＯを７０．５〜７１．５mol％含有することを特徴とする低融点封着ガラスである。Ｐ_２Ｏ_５量を極力抑え、ＳｎＯを多量に配合すると共にＡｌ_２Ｏ_３を少量加えることで低融点と高い耐水性・耐久性を実現している。低融点封着ガラスの粉末にペースト化剤を加えて低融点封着剤とする場合、ペースト化剤はエチレングリコール、ポリエチレングリコール又はグリセリンとすることが、緻密なガラス層が形成できて好ましい。 （もっと読む）

【課題】燃焼物残渣等が付着しにくいとともに、その透明性が失われにくく、優れた防汚性機能を有する燃焼装置用、特に石油ストーブ用の窓材を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｌｉ₂Ｏ系透明結晶化ガラスの表面に防汚性を有する酸化物系セラミック膜が被覆形成されてなる燃焼装置用の窓材であることを特徴とする。 （もっと読む）

特に約１９３ｎｍで低フルエンス依存性透過率を持つ合成シリカ材料およびその製造方法が本願に開示されている。このガラスは、約２４８ｎｍで稼働されたときに、２９０および３９０ｎｍで低レベルの蛍光を発することが望ましいであろう。このガラスは、低レベルのＬＩＷＦＤ、［ＳｉＨ^*］および／または［ＯＤＣ］を示すことが望ましいであろう。
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【課題】 寸法精度の高い画像表示装置用スペーサを提供する。
【解決手段】 下記Ａ成分〜Ｅ成分を有し、ガラス転移点温度が５５０℃以上で、熱膨張係数が７４〜９４×１０^-7／℃で、且つ、屈服点とガラス転移点との温度差が５０℃以上であるガラス基材をスペーサとする。Ａ成分：３０〜６０ｗｔ％のＳｉＯ₂、Ｂ成分：２〜２０ｗｔ％のＢ₂Ｏ₃、Ｃ成分：０〜２０ｗｔ％のＭｇＯ、０〜３０ｗｔ％のＣａＯ並びにそれぞれ０〜５０ｗｔ％のＳｒＯ及びＢａＯから選択されるいずれか一種又は二種以上の合計量が２０〜６０ｗｔ％、Ｄ成分：それぞれ０〜１０ｗｔ％のＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、Ｋ₂Ｏ及びＣｓ₂Ｏから選択されるいずれか一種又は二種以上の合計量が０．６〜１５ｗｔ％、Ｅ成分：０〜１５ｗｔ％のＡｌ₂Ｏ₃、０〜１５ｗｔ％のＺｎＯ、０〜１０ｗｔ％のＺｒＯ₂及び０〜３０ｗｔ％のＬｎ₂Ｏ₃（但し、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙｂを示す）から選択される一種又は二種以上。 （もっと読む）

【課題】 鉛を含まないリン酸−スズ系の封着ガラスを用いて、緻密なガラス層を形成できる封着剤を得ること。
【解決手段】 リン酸−スズ系ガラスの粉末と、ペースト化剤としてエチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリンの中から少なくとも１種類を含むことを特徴とする低融点封着剤である。これらのペースト化剤は、リン酸−スズ系のガラス粉末と混合してペースト状の封着剤とし、これを加熱した場合に緻密なガラス層を形成でき、さらにペースト化剤として適度の粘性を有しており、揮発しにくく適度な粘性を長時間保つことができる。 （もっと読む）

固体酸化物燃料電池における絶縁接合部として特に有用である、頻繁な熱サイクルを受ける高温作動環境において気密性のままである、二つの部品の間に形成されるシール。第一の金属部品が補強材に取り付けられる。ガラス形成材料が第一の金属部品と第二の部品との間に配置され、ガラスを、ガラス形成材料を溶融させるのに適した温度まで加熱することにより、第一の金属部品と第二の部品との間にシールが形成される。ガラスは、補強材の少なくとも一部を封入および結合し、それによってシール全体に大きな強度を付与する。セラミック材料をガラス形成材料に添加して、第一の金属部品と第二の部品との間の絶縁バリヤの形成を支援し、加熱工程中のガラスの粘度を調整することもできる。

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本発明は、その化学組成が、別途定められる範囲内で下記の成分（質量百分率で表した）、すなわちSiO₂を58〜72質量％、TiO₂を0.8〜3質量％、B₂O₃を2〜15質量％、Al₂O₃を10〜25質量％、CaOを5〜12質量％、MgOを0〜3質量％、BaOを0〜6質量％、SrOを0〜4質量％、ZnOを0〜3質量％、およびR₂Oを0〜1質量％含むガラス基板に関する。 （もっと読む）

フラットパネルディスプレイ装置、例えば、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイ（ＡＭＬＣＤ）用の基板を製造するために使用できるガラスが開示されている。そのガラスは、１．０モルパーセントから３．０モルパーセントの範囲にあるＭｇＯ濃度および１．００以上のΣ［ＲＯ］／［Ａｌ₂Ｏ₃］比を有し、ここで、［Ａｌ₂Ｏ₃］は、Ａｌ₂Ｏ₃のモルパーセントであり、Σ［ＲＯ］はＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯおよびＢａＯのモルパーセントの合計と等しい。これらの組成の特徴は、前記ガラスを製造するために用いられるバッチ材料の溶融特性を改善することが分かっており、これにより転じて、ガラスを、環境によりやさしい清澄剤、例えば、ヒ素および／またはアンチモンではなくスズで清澄（精錬）することができる。
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【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板電極を被覆したときにその電極近傍に大きな泡が残存しにくくなるもの、または結晶が析出しにくいものの提供。
【解決手段】軟化点が６５０℃以下かつ１５０℃における比抵抗が１０^１２Ω・ｃｍ以上でありＰｂＯおよびＢｉ_２Ｏ_３のいずれも含有しない酸化物ガラスからなり、ＺｎＯを含有しない、またはＺｎＯを含有する場合その含有量が１０モル％以下である電極被覆用ガラス。前記電極被覆用ガラスであって、そのガラスの質量平均粒径が５μｍ以下である粉末について（軟化点−５０℃）以上（軟化点＋３０℃）以下の温度に３０分間保持する焼成を行ったときに結晶析出が認められない電極被覆用ガラス。５０〜３５０℃における平均線膨張係数が７０×１０^−７〜９０×１０^−７／℃である前記電極被覆用ガラス。１ＭＨｚにおける比誘電率が９以下である前記電極被覆用ガラス。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ_２：５５〜７０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜１重量％、ＺｒＯ_２：０．１〜５重量％、Ｎａ_２Ｏ：０．１〜５重量％、Ｋ_２Ｏ：７〜１３重量％、ＭｇＯ：７〜１４重量％、ＣａＯ：０〜４重量％、ＳｒＯ：７〜１２重量％及びＳＯ_３：０．０１〜０．５重量％を含むガラス基板組成物に関する。上記組成物を使用して製造されたガラス基板は変形点が５７０℃以上であるので、高温の焼成にも熱変形が少なく、溶融温度が１４６０℃未満であることから、燃料費増加及び耐火物寿命短縮などの不利な点がなく、５０〜３５０℃温度範囲で熱膨張係数が８０〜９５×１０^−７／℃を有する。従って、本発明に係るガラスは基板用に適する。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ用、特に液浸リソグラフィ用の投影レンズ（５）は１９０ｎｍを超える動作波長用に設計され、このレンズは、５０ｐｐｍ未満の、特に１０ｐｐｍと５０ｐｐｍとの間のＯＨ含有率と、および１．５×１０^１６と２×１０^１８分子／ｃｍ^３との間の、好ましくは２×１０^１６と１×１０^１８分子／ｃｍ^３との間の、特に５×１０^１６と２×１０^１７分子／ｃｍ^３との間の水素含有量とを有する石英ガラスから作製された少なくとも１つの光学素子を備え、この光学素子は、液浸リソグラフィ用のマイクロリソグラフィ露光装置（１）の中の投影レンズ（５）の端部素子（１４）であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 化学的耐久性、低熱膨張性、高歪み点、低比重、高ヤング率などの特性を有し、しかも泡などの欠陥が少なく製造安定性に優れる無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】 30〜300℃における平均熱膨張係数が30〜35×10^-7/℃、歪み点が670℃以上、ヤング率が70ＧＰａ以上、比重が2.4未満、液相温度が1200℃未満、10^1.5Ｐａ・ｓの粘度を示す温度が1600℃未満、50℃の濃度1モル/Ｌの硝酸水溶液に50時間浸漬した際の質量減少が1ｍｇ/ｃｍ²未満である無アルカリガラス、および実質的にＢａＯ、ＺｎＯおよびＰｂＯを含まず、ＳｉＯ₂ 65.0〜70.0モル％、Ａｌ₂Ｏ₃ 9.5〜12.5モル％、Ｂ₂Ｏ₃ 8.5〜11.5モル％(ただし、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋Ｂ₂Ｏ₃ 87.5〜90.0モル％)、Ｂ₂Ｏ₃/(ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃) 0.12〜0.14、ＭｇＯ 2.5〜4.0モル％未満、ＣａＯ 5.0〜10.0モル％、ＳｒＯ 0.1〜2.5モル％(ただし、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ 10.0〜12.5モル％)を含む無アルカリガラスである。 （もっと読む）

【課題】 繊維径の制御が可能で、巻き取り工程で切断しないバサルト長繊維を製造する。又、玄武岩（バサルト）原石に対し、網目状形成体、ガラス修飾体を形成・維持し、バサルト繊維の結晶化及び固着を抑制すること、及びバサルト繊維の耐熱性を従来の７５０℃から８５０〜９００℃まで大幅に向上させ、かつ従来品と比べて大幅な低コスト化を達成する。
【解決手段】 玄武岩を原料とし、該玄武岩を粉砕する工程と、該粉砕物を洗浄する工程と、該洗浄物を溶融する工程と、該溶融物を繊維化する工程と、該繊維を引き揃え、巻き取る工程とからなり、該溶融する工程における溶融物の温度が１４００〜１６５０℃であり、且つ溶融物の粘度をηとするとｌｏｇηが２．１５〜２．３５ｄＰａ・ｓ、より望ましくは２．２〜２．３ｄＰａ・ｓであることを特徴とするバサルト長繊維の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 電子部品実装用基板、電子デバイス用基板、液晶セルおよび光学素子に用いられる、化学的耐久性、低膨張性、耐熱性、高透過性、高強度性、軽量性などに優れる無アルカリガラスからなるガラス部材を提供する。
【解決手段】 （ａ）電子部品実装用基板を作製するためのガラス基板、（ｂ）半導体基板と接合するためのガラス基板、（ｃ）液晶表示装置における、駆動基板に対向して配置するための対向用ガラス基板、または（ｄ）光学素子用窓材からなるガラス部材であって、３０〜３００℃における平均熱膨張係数が３０〜３５×１０^−７／℃、歪み点が６７０℃以上、ヤング率が７０ＧＰａ以上、比重が２．４未満、液相温度が１２００℃未満、１０^１．５Ｐａ・ｓの粘度を示す温度が１６００℃未満、５０℃の濃度１モル／Ｌの硝酸水溶液に５０時間浸漬した際の質量減少が１ｍｇ／ｃｍ^２未満である無アルカリガラスからなるガラス部材である。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材の表面の少なくとも一部分に結晶化層を積層している結晶化層積層ガラス、およびガラス基材の表面に積層された結晶化層の少なくとも一部分の厚みが他の部分とは異なっている結晶化層積層ガラス、および結晶化層積層ガラスを用いた磁気ディスク用ガラス基板、および端面部位の少なくとも一部に結晶化層を持つ磁気ディスク用ガラス基板の提供。
【解決手段】ガラスの母材となる出発原料と必要に応じて添加剤とを所定量電子天秤にて計量して混合して、るつぼで溶融し冷却してガラスとし、再加熱によりガラス表面に結晶化層を積層させて、主表面を部分的に研磨することにより結晶化層積層ガラスを製造する。これを用いて磁気ディスク用ガラス基板などとする。 （もっと読む）

【課題】
当該誘電体前駆層転写用フィルム自体及びこのフィルムから得られるプラズマディスプレイパネルが環境を汚染する恐れが無いプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】
透明支持フィルム、及びその表面上に設けられたガラスフリット及びバインダ樹脂を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体層の前駆層を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写用フィルムであって、ガラスフリットがその骨格成分中に鉛及び／又は鉛化合物を含まず、且つバインダ樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が４５℃以下であること特徴とするプラズマディスプレイパネル用誘電体前駆層転写用フィルム。 （もっと読む）