【課題】メソ細孔が基板上に略垂直に配向したメソポーラスシリカ膜、メソポーラスシリカ膜構造体、及び該構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】（１）平均細孔周期が１．５〜６ｎｍのメソ細孔構造を有するシリカ膜であって、該メソ細孔が膜表面に対して７５〜９０°の方向に配向しているメソポーラスシリカ膜、（２）該メソポーラスシリカ膜が基板上に形成された構造体、及び（３）特定の陽イオン界面活性剤を特定量含有する水溶液を調製し、該水溶液中に基板を浸し、加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源を特定量加え、１０〜１００℃の温度で撹拌して、基板表面にメソポーラスシリカ膜を形成した後、陽イオン界面活性剤を除去するメソポーラスシリカ膜構造体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が優れ、硬質シリカ系層を形成できる液状硬化性組成物；均一性と平坦性と耐クラック性と密着性に優れた硬質シリカ系層を形成できるコーテイング方法；耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、機械的強度、耐薬品性等が優れた無機質基板；精度と信頼性と長期間安定性が優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】水酸基を有する多価金属酸化物微粒子が分散している有機溶媒中で、ハイドロジェンハロシランもしくはアルコキシシランを縮合反応または加水分解縮合反応させて得られた液状硬化性組成物。該組成物を無機質基板にコーテイングし、硬化させて硬質シリカ系層を形成する、無機質基板のコーテイング方法。該硬質シリカ系層を有する無機質基板。該無機質基板上に半導体層を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】放射線撮像パネルを構成する光導電体を、感度低下に起因する、ゴーストやコントラスト変化が実質上ないものとする。
【解決手段】放射線画像情報を記録する放射線撮像パネルを構成するＢｉ₁₂ＭＯ₂₀（ただし、Ｍ はＧｅ，Ｓｉ，Ｔｉ中の少なくとも１種である）からなる多結晶の光導電体を、基板６上にＢｉ₁₂ＭＯ₂₀（ただし、Ｍ はＧｅ，Ｓｉ，Ｔｉ中の少なくとも１種である）の多結晶体からなるシード層７を成膜し、水熱合成によりシード層上にＢｉ₁₂ＭＯ₂₀（ただし、Ｍ はＧｅ，Ｓｉ，Ｔｉ中の少なくとも１種である）の多結晶体を成長させる。 （もっと読む）

１ミクロン未満の粒子サイズを有する、有機シランがナノ粒子の全容量にわたり存在し、ナノ粒子の表面だけではない有機シランで調製されたシリカ。ナノ粒子はコロイド溶液の中にある。酸性条件下でアルカリシリケートを加水分解することによって生成されて、ケイ酸分散を得ることができ、続いて、ヒドロキシル及び／又は加水分解可能な基を有する有機シランを酸性条件下で分散に添加し、その後少なくとも８まで分散のｐＨを上げて、ナノ粒子を形成する。それらは、有効な塗装下地／保護コーティング調合物で使用されうる。 （もっと読む）

本発明はナノ構造化材料の金属表面の保護コーティングとしての使用に関し、そのナノ構造化材料は官能化ナノビルディングブロックおよびポリマーまたは有機／無機複合のマトリクスを含む。
本発明は、マトリクスが少なくとも３種類のケイ素アルコキシドから調製される特定のナノ構造化材料にも関する。 （もっと読む）

本発明は、表面処理されていない基質にプローブを固定するためのゾル−ゲルバイオチップ用のゾル組成物のスクリーニング方法、前記方法によりスクリーニングされたゾル組成物及び前記ゾル組成物が固定されているゾル−ゲルバイオチップに関する。本発明によりスクリーニングされたゾル組成物はプローブと混合して既存のバイオアッセイに広く用いられる９６ウェルプレートに表面処理なしに集積することができ、固定されたプローブの変形が少なくて優れた分析結果が得られる。
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【課題】任意の厚さを有し、表面の平滑なシリコン含有多孔質板であって、電気・電子回路が形成される片面側の表層部に、多孔質基板内部の骨格相と同質で且つ同程度の厚さの平滑な面が形成されており、伝送損失の小さな多孔質基板を提供すること。
【解決手段】１対の平板によって構成される間隙内で、ゾル−ゲル反応により３次元網目状の骨格相（固体相）と溶媒に富む溶液相に分離した湿潤ゲルを形成する工程、該湿潤ゲルの前記溶液を乾燥除去する工程、および前記１対の平板のうち少なくとも片側の平板を除去する工程、を含み、電気・電子回路が形成される片面側の表層部に、多孔質基板内部の骨格相と同質で且つ同程度の厚さの平滑な面が形成されている多孔質基板を得る。 （もっと読む）

【課 題】 平滑性の低い多孔質支持体上に、メソポーラス酸化物薄膜が均一に製膜されており、かつ前記多孔質支持体の内部に前記薄膜を構成する酸化物が実質的に存在しないメソポーラス複合体の提供。
【解決手段】（１）多孔質支持体に流動パラフィンを含浸させ、（２）前記（１）で得た流動パラフィン含浸多孔質支持体の表面に、界面活性剤および酸化物源からなるゲル薄膜を形成させることにより多層構造体とし、ついで（３）該多層構造体を焼成することにより流動パラフィンと界面活性剤とを除去して、多孔質支持体上にメソポーラス酸化物薄膜が積層されてなるメソポーラス複合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】 耐熱衝撃性の他、塩水はもとより、塩酸、硫酸、硝酸のような強酸に対しても優れた耐食性を発揮する、アモルファスSiO₂膜を被覆形成してなる部材、およびその形成方法を提案すること。
【解決手段】 鏡面仕上げした金属製基材の表面に、ポリシラザン化合物を加熱焼成することにより形成したアモルファスSiO₂膜被覆部材において、前記記金属製基材の表面は、Ra：0.2μｍ以下またはRa：0.2μmかつRz：0.5μｍ以下の表面粗さであること、前記アモルファスSiO₂膜の膜厚は、0.05〜５μmであること、前記金属製基材が、普通炭素鋼、特殊鋼、Niおよびその合金、Tiおよびその合金、Alおよびその合金、Cuおよびその合金、またはこれらの金属・合金からなるめっき膜、物理蒸着法あるいは化学蒸着法で得られる蒸着膜のうちのいずれか1種の皮膜で覆われた金属製基材であること。 （もっと読む）

【課題】 簡便な方法によって、酸化物被膜の成膜と同時に、当該被膜の表面に制御性良く凸部を形成できる、新規な製造方法を提供する。
【解決手段】 質量平均分子量が２００以上の水溶性有機化合物が添加された、金属原子またはケイ素原子を含むフルオロ錯体と、当該フルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤とを含む処理液１に、基体２を浸漬する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来のスプレー熱分解法による熱分解成膜と比較して、より低い基材加熱温度で金属酸化物膜を得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液と、金属酸化物膜形成温度以上の温度まで加熱した基板とを接触させることにより、上記基材上に金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記金属酸化物膜形成用溶液が、酸化剤および還元剤の少なくとも一方を含有することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 ニオビウムまたはその合金の表面に被覆して、高温における等温耐酸化性及び反復耐酸化性を向上させ、被覆層の高温機械的性質を改善し得る新しいナノ複合被覆層及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 高温で母材表面に炭素または窒素を気相蒸着してニオビウム炭化物またはニオビウム窒化物拡散層を形成した後、シリコンを気相蒸着して固相置換反応によってナノ複合被覆層を製造する。前記ナノ複合被覆層は、等軸晶のＮｂＳｉ₂結晶粒界にＳｉＣまたはＳｉ₃Ｎ₄粒子が分布された微細組織を有し、ナノ複合被覆層内に存在するＳｉＣまたはＳｉ₃Ｎ₄粒子の体積分率の調整によって、母材の熱膨張係数と類似した熱膨張係数を有するＮｂＳｉ₂系ナノ複合被覆層が形成される。 （もっと読む）

本発明は、反応中心を含有する、０．７０≦ｙ≦０．９５、特には０．７０≦ｙ≦１．８０、もっとも特には１．０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯ_ｙフレーク、その製造方法及び化学的に変性したＳｉＯ_ｙフレークの使用に関する。 （もっと読む）