高度に均一なシリコン／ゲルマニウムナノ粒子が、望ましい小さな二次粒子サイズを有する安定な分散物に形成されることができる。シリコン／ゲルマニウム粒子は、分散物を形成するために表面改質されることができる。シリコン／ゲルマニウムナノ粒子は、粒子特性を変化させるためにドーピングされることができる。分散物は、適切な／用途のためのインクとして印刷されることができる。分散物は、光起電力電池の形成のため又は印刷された電子回路の形成のためなどの、選択的にドーピングされた半導体材料の堆積物を形成するために用いられることができる。
（もっと読む）

多相乳液の油/水の界面でアルコキシシランを重合させて、多核マイクロカプセルの懸濁液を形成することにより多核マイクロカプセルを調製する方法を開示する。また、親水性活性物質を場合によって含む、多核マイクロカプセルおよびその使用を開示する。
（もっと読む）

【課題】高価かつエネルギー多消費型の大掛かりな装置を必要とせず、大面積の基板にも対応可能であり、容易、安価に半導体薄膜を形成する方法を提供すること。
【解決手段】上記課題は、一対の電極の間に、不純物の濃度および／または種類の異なる半導体薄膜を少なくとも二層以上積層した構造を有する太陽電池の製造において、該半導体薄膜のうちの少なくとも一層が、（Ａ）式Ｓｉ_ｎＲ_ｍで表されるポリシラン化合物 並びに（Ｂ）シクロペンタシラン、シクロヘキサシランおよびシリルシクロペンタシランよりなる群から選ばれる少なくとも１種のシラン化合物を含有することを特徴とするシラン組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、該塗膜を熱処理および／または光処理する工程を含む形成方法により形成されていることを特徴とする、太陽電池の製造方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】 歯科材料に要求される光学的性質や機械的性質を兼ね備えた歯科用充填材並びにその製造方法、および該歯科用充填材を用いた歯科用複合材料に関する。
【解決手段】シリカ系微粒子の表面を、少なくともジルコニウム、ケイ素および酸素からなる複合酸化物で被覆してなる非晶質の無機酸化物微粒子群を含有する歯科用充填材並びにその製造方法、および該歯科用充填材とアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ビニル樹脂、ウレタン樹脂等から選ばれた硬化性樹脂とを含む歯科用複合材料。 （もっと読む）

【課題】ヒュームドシリカ及び高品質で品質経時安定性を有する大量のシリカの調製方法及び装置の提供。
【解決手段】本発明のヒュームドシリカの調製方法は、ヒュームドシリカの比表面積が３０ｍ^２／ｇ〜５００ｍ^２／ｇ、平均凝集粒子径が１００ｎｍ〜５００ｎｍであり、シリコーンオイル中に最適に分散された前記ヒュームドシリカ２重量％に基づく相対的な増粘作用が２．０超であり、前記ヒュームドシリカに対する粗粒子の割合が０．０３重量％未満であり、前記ヒュームドシリカの１０重量％水分散体１ｍｌ当り粗粒子が１００，０００個未満であり、反応器内の炎で、少なくとも１つ又は複数のケイ素化合物１００ｋｇ／ｈと反応する反応ガスは、燃焼ガス１００ｍ^３（ＳＴＰ）／ｈ及び酸素を２０体積％超含む空気３００ｍ^３（ＳＴＰ）／ｈであり、反応器ノズルで使用される気体のノズル流出速度は、１０ｍ／ｓ〜２００ｍ／ｓであり、反応器におけるノズルのガス速度及び温度が放射状に均一に分布することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、他の材料との濡れ性、強度および弾性率に優れ、複合材料用の強化材料、排ガスフィルター材料等として有用な材料を提供する。
【解決手段】ケイ素、炭素および酸素を含んでなり、ケイ素、炭素および酸素の平均元素比が下記組成式（１）： SiC_aO_b （１）（式中、aは０．５≦a≦３．０を満たす数であり、ｂは０．５≦ｂ≦４．０を満たす数である。）で表わされ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合からなるシロキサン骨格を有し、水素の質量分率が０〜１質量％である非晶質無機セラミック物質。 （もっと読む）

【課題】所望の粒径及び屈折率を有するナノオーダーのコアシェル型酸化ケイ素粒子とその製造方法、及び本発明のコアシェル型酸化ケイ素粒子を用いて、光学物性及び透明性に優れ、かつ熱安定性に優れた無機微粒子分散樹脂組成物及びそれを用いた光学素子を提供する。
【解決手段】酸化ケイ素粒子（コア部）表面に、Ｚｒ、Ａｌ及びＣｅから選ばれる少なくとも１種の金属元素の酸化物、水酸化物または酸化水酸化物から構成される被覆層（シェル部）を有するコアシェル型酸化ケイ素粒子の製造方法であって、該酸化ケイ素粒子の懸濁液中で、Ｚｒ、Ａｌ及びＣｅから選ばれる少なくとも１種の金属元素を有する化合物またはそれらの混合物から構成される被覆材料を、該酸化ケイ素粒子表面上に沈着させる工程を経て製造されることを特徴とするコアシェル型酸化ケイ素粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】コンポジットレジンに配合した場合に、天然歯質に近い透明性と高いＸ線不透過性とが同時に付与可能な複合酸化物粒子において、表面に存在する酸点の量が少なく、硬化体の諸物性や保存安定性、さらにはペースト性状に優れる材料が得られるものを開発すること。
【解決手段】ａ）屈折率が１．４９〜１．７０であり、
ｂ）厚さ２．００±０．０３ｍｍに圧縮成形した試料片をＪＩＳ Ｔ６５１４に規定されるＸ線造影性試験に準じた方法により評価した際に、そのＸ線不透過性が３．０ｍｍアルミニウム板以上であり、
ｃ) シランカップリング剤により表面処理されてなり、且つ
ｄ）無水トルエン中において、メチルレッド滴下前後のΔａ^＊_ｍ値が１０以下である
シリカとＺｒＯ_２等のＸ線不透過性の金属酸化物との複合酸化物からなることを特徴とする、表面処理された球状複合酸化物粒子。 （もっと読む）

【課題】シリカまたは他のケイ素酸化物を含有する表面をシラン化するために使用される、加水分解に対する十分な安定性を有するシラン化組成物を提供すること。
【解決手段】シラン化組成物であって、このシラン化組成物は、２種以上のシラン化試薬の混合物を含み、ここで少なくとも１種のシラン化試薬は、ポリマー合成を支持し得る官能基を含み（例えば、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトシキシラン）、少なくとも１種のシラン化試薬は、ポリマー合成を支持し得る官能基を含まない（例えば、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン）、シラン化組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、新規なシロキサン誘導体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のシロキサン誘導体は、分岐シロキサン構造を有し要部となる化合物を有する。シロキサン誘導体はデンドリティックポリマーであることが好ましい。シロキサン誘導体は、要部となる化合物にモノマーを重合したポリマーであることが好ましい。要部となる化合物としては、1,1,3,3,3-ペンタメチル-ビニルジシロキサン、1,1,3,3-テトラメチル-3-フェニルビニルジシロキサン、1,1,3-トリメチル-3,3-ジフェニルビニルジシロキサン、トリメチルビニルシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、1,3,3,5,5-ペンタメチル-3,5-ジフェニルビニルトリシロキサン、およびトリエトキシビニルシランを用いた。モノマーとしては1,1,3,5,5-ペンタメチル-1,5-ジビニルトリシロキサンを用いた。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずにシリコン膜を形成するための成膜材料として、ポリシラン修飾シリコン微粒子を製造する方法およびこのポリシラン修飾シリコン微粒子を用いたシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】末端がシリルアニオン化されたポリジフェニルシランからなるポリシラン１１を含む液に、シリコン微粒子１２を添加することで、シリコン微粒子１２の表面にポリシラン１１を結合させたポリシラン修飾シリコン微粒子１３を製造する。そして、このポリシラン修飾シリコン微粒子１３に水素化処理を行うことで、水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４を製造することを特徴とするポリシラン修飾シリコン微粒子の製造方法である。また、この水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４が分散された液を基板上に塗布し、塗布膜を形成した後、塗布膜が形成された状態の基板に熱処理または光照射を行うことで、シリコン膜を形成することを特徴とするシリコン膜の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒への分散性、および薄膜形成用の有機高分子との親和性が高い無機酸化物微粒子の製造方法を提供する。また、前記製造方法により得られる無機酸化物微粒子を含むコーティング組成物を用いて耐擦傷性に優れ反射防止機能を有する光学フィルムを提供する。さらに、無機酸化物微粒子に中空構造を付与することにより、充分な反射防止性能を有し、かつ耐擦傷性に優れる光学フィルムを提供する。
【解決手段】油相中に水相が乳化し、シリカ前駆体部位を有する陽イオン性界面活性剤が溶解しているＷ／Ｏ型乳化物中で、無機酸化物前駆体の共存下または非共存下で、前記シリカ前駆体部位および／または前記無機酸化物前駆体を加水分解および縮合させ、粒径５ｎｍ乃至１μｍの無機酸化物微粒子を生成させる無機酸化物微粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、イオン交換性の無機粒子からなる防錆材において、より高い防錆性を有し、該防錆効果の安定性、持続性にも高度に優れたものを開発することを目的とする。
【解決手段】 第４級又は第３級アンモニウム基、ピリジニウム基、イミダゾリウム基等の陰イオン交換基を有する重合体、好適には、イオン交換容量が０．００５〜４ｍｍｏｌ／ｇであり、架橋されたものからなる陰イオン交換基を有する重合体により、シリカ等の無機粒子が被覆されてなることを特徴とする防錆材。 （もっと読む）

【課題】電子写真用トナーの外添剤などに適するトナー帯電量の環境安定性に優れた疎水化シリカ粉末等を提供する。
【解決手段】ヘキサメチルジシラザンで疎水化表面処理された乾式法シリカ粉末であって、シングルシラノール基積分値(Ａ)とシロキサン積分値(Ｂ)との比(Ａ/Ｂ)が０.８未満であることを特徴とする疎水化表面改質乾式法シリカ粉末であり、好ましくは、積分値Ａと積分値Ｂの比(Ａ/Ｂ)が０.７未満であり、乾式法によって製造され、ＢＥＴ法による比表面積が５ｍ²/ｇ〜５００ｍ²/ｇであり、ヘキサメチルジシラザンで疎水化処理されたことを特徴とする疎水化表面改質シリカ粉末。 （もっと読む）

【課題】 葉状シリカ２次粒子のスラリーを簡便な手法によりその水スラリー中での状態を保持したまま、乾燥し、安定性の高いシリコン系化合物処理葉状シリカ２次粒子粉末を提供する。
【解決手段】 （ｉ）シリカヒドロゲル等を、アルカリ金属塩の存在下に水熱処理し、そのシリカ３次凝集体粒子を形成し、（ｉｉ）シリカ３次凝集体粒子を、水系スラリー状態で、解砕・分散化して、葉状シリカ２次粒子からなる水系スラリーを形成し、（ｉｉｉ）その水系スラリーに、シリコン系化合物水系エマルションを添加・混合してスラリー状態で処理し、（ｉｖ）乾燥し、（ｖ）これを乾式解砕することにより、極性有機溶媒及び非極性有機溶媒に対して再溶解の抑制されたシリコン系化合物処理乾燥シリカ粒子粉末とする。 （もっと読む）

【課題】一定のサイズの微小球体を形成することにより、安定した性能を発揮させることのできる多孔質膜形成装置及び多孔質膜形成方法を提供する。
【解決手段】液体有機金属化合物または液体有機ケイ素化合物を含む微小球体原料１１を微粒子化して液状微粒子１５とする。そして、前記液状微粒子１５を加熱して前記液体有機化合物または前記液体有機ケイ素化合物を分解したのち、冷却して微小球体１５ｂを形成する。これを半導体ウエハ１８に付着させて、微小球体１５ｂからなる多孔質膜１７を形成する。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 水溶性珪酸塩の水溶液に対して珪酸液を添加して、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ［Ｍはアルカリ金属、第３級アンモニウム、第４級アンモニウムまたはグアニジンから選ばれる］（モル比）が３０〜６５の範囲の混合液を調製し、該混合液に６０〜２００℃の温度で、再度珪酸液を断続的または連続的に添加することによりシリカゾルを調製し、該シリカゾルをｐＨ７〜９の範囲にて、６０〜９８℃で加熱する。 （もっと読む）

【課題】 所定のシリカゾルを原料として、異方形状のシリカゾルを調製する。
【解決手段】 珪酸液（ａ）にアルカリ性水溶液を添加してｐＨを１０．０〜１２．０に調整し、６０〜１５０℃の温度条件下、珪酸液（ｂ）と２価以上の水溶性金属塩との混合物を連続的にまたは断続的に添加する。得られる異方形状シリカゾルの平均粒子径は３〜３０ｎｍの範囲にあり、短径／長径比は０．０１〜０．５の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 トレンチ、ホールを埋め込むための多孔質シリカ材料がエッチングなどのプロセス過程で受けるダメージを減じるようにするトレンチ内部の埋め込み方法の提供。
【解決手段】 ５０〜５０００ｎｍの大きさの開口部を有するトレンチ、ホールからなる構造物を設けてある半導体基板に対して、その構造物の内部に配線を形成した後、疎水性多孔質シリカ材料の前駆体を含有する所定の粘度の溶液を基板上に塗布し、加水分解し、焼成して、配線の形成された構造物内部を疎水性多孔質シリカ材料で埋め込む。 （もっと読む）

本発明は、水素化シリコンゲルマニウム化合物、それらの合成法、それらの成膜法、およびそれらの化合物を用いて作製された半導体構造を提供する。これらの化合物は、式：ＳｉＨｎ１（ＧｅＨｎ２）ｙによって定義される。式中、ｙは２，３または４であり；ｎ１は、０，１，２または３であって原子価を満たし；ｎ２は、化合物中の各Ｇｅ原子に関して独立に０，１，２または３であって原子価を満たす。
（もっと読む）