【課題】シリコン単結晶製造装置を用いて２Nの低純度金属シリコン(例えば、鉄鋼産業やアルミニウム産業に広く用いられている金属シリコン)を太陽電池の生産に適合する６〜７Nの高純度金属シリコンに精製することができる金属シリコンの精製方法とその精製装置を提供する。
【解決手段】低純度金属シリコンを出発原料として、坩堝内の金属シリコン表面を局部的に加熱して、表面に表面温度差を形成して精製する方法。チャンバ１０内側に設けられて溶融金属シリコン１００を保存する坩堝２０と、金属シリコンを加熱して溶融させる加熱手段４０と、溶融金属シリコンの上部表面を局部的に加熱する局部加熱手段５０と、溶融金属シリコンの上部表面に不純物除去用物質を供給するガス供給管６０を含むように構成された装置を使用する精製方法。 （もっと読む）

【課題】石炭と金属酸化物、二酸化ケイ素及び硫黄化合物を含有するフライアッシュを効率的に分離し、クリーンな処理石炭および二酸化ケイ素の製造方法を提供する。
【解決手段】処理石炭３８及び実質的に純粋な二酸化ケイ素４５を製造する方法は、［１］石炭とフライアッシュとの混合物２３をフッ化水素水溶液と反応させて、フッ化ケイ素と金属フッ化物とを含有する液体流２７及び未反応石炭と硫黄化合物とを含有する固体流２９を生じさせ、［２］硫黄化合物を水に溶解した金属硝酸塩と反応させて硝酸イオン、金属イオン及び硫黄イオンの水溶液を生成し、［３］硝酸イオン、硫黄イオン及び金属イオンの水溶液を固体石炭３８と分離し、［４］この処理石炭３８を水で洗浄し、［５］フッ化ケイ素及び金属フッ化物を金属硝酸塩と水性混合物中で反応させて固体二酸化ケイ素４５を生成し、固体二酸化ケイ素４５を水性混合物から分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる珪素微粒子の製造方法を得ること。
【解決手段】珪素塊１を粉砕して珪素微粒子を得る珪素微粒子の製造方法であって、酸素を放出して珪素に対する酸化作用を有する酸化性液体４中において前記珪素塊１を粉砕することにより、粉砕された珪素微粒子の表面に酸化珪素膜を形成しながら前記珪素塊１を粉砕して前記珪素微粒子を作製する。これにより、粉砕時の珪素内への不純物の拡散を防止することができ、不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【解決手段】不純物を含むシリコンを加熱溶融し、溶融状態のシリコン中にＳｉＦ₄を含む気体を吹き込むことにより、又は不純物を含むシリコンとフラックスとをそれぞれが溶融するよう加熱溶融し、溶融状体のシリコンとフラックスとを接触させた後、このシリコン及びフラックスを含む融液中にＳｉＦ₄を含む気体を吹き込むことにより、シリコン中の不純物を低減することを特徴とする高純度シリコンの製造方法。
【効果】本発明によれば、シリコン中の不純物、特にＢ、さらにＡｌ、Ｔｉをも１つの工程で同時に低減することができる。さらに不純物精製操作前後におけるシリコンの減少量が極めて小さく、高い収率を維持できる。また、一般的な大気開放炉を使用するため、高真空雰囲気も必要とせず、設備投資額を大幅に低減できる。この結果、極めて安価にＢ、Ａｌ、Ｔｉ等の不純物が低減されたシリコンを得ることができる。 （もっと読む）

高密度のシリカシェルを有するコアシェルシリカナノ粒子が提供される。ナノ粒子は、例えば、増強されたフォトルミネセンス及び安定性など、改良された特性を有する。また、前記ナノ粒子を製造するための方法もまた、提供される。
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【課題】ケイ素微粒子の可視光領域における発光強度を高める。
【解決手段】ケイ素微粒子発光体の製造方法は、不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を焼成する工程と、不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、前記混合粉体を不活性雰囲気下１０００〜１１００℃で熱処理する工程と、前記熱処理後の混合粉体をフッ酸および酸化剤を含むエッチング溶液に浸漬してエッチングする工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】生体内に用いても、より安全なケイ素微粒子をより簡便且つ大量に製造する。
【解決手段】ケイ素微粒子を含む混合粉体は、ケイ素源と炭素源と、重合又は架橋触媒とを混合した混合物を不活性雰囲気下において焼成する焼成工程Ｓ１と、高純度プリカーサを焼成することによって炭化ケイ素を生成する反応の副生成物であるガスを取り出し、冷却する急冷工程Ｓ２と、急冷によって得られた混合粉体を所定の溶媒とともに粉砕する粉砕工程Ｓ３とを有する。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板の鏡面加工面上にジグ跡のない高品質の酸化膜を有する酸化膜付きシリコン基板の製造方法及び酸化膜付きシリコン基板を製造する際に用いられる熱処理装置を提供する。
【解決手段】エッジ面取り加工が施されたシリコン基板を、少なくとも対向する側板と、該側板間に連結される溝を有する複数の支持棒とを具備するホルダに保持して、酸化性雰囲気下で熱処理することで表面に酸化膜を形成する酸化膜付きシリコン基板の製造方法において、前記シリコン基板の保持は、前記ホルダに具備された前記支持棒の溝と、前記シリコン基板の最外周端部及び面取り加工部の少なくとも一方とを接触させることのみで為すことを特徴とする酸化膜付きシリコン基板の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、珪素化合物、殊にオルガノシラン及び／又は無機シラン並びに少なくとも１種の異種金属及び／又は異種金属含有化合物を含有している組成物を処理する方法に関し、この際、前記組成物を少なくとも１種の吸着剤及び／又は第１フィルターと接触させ、引き続き、その中の異種金属及び／又は異種金属含有化合物の含分が低減されている組成物を取得する。更に本発明は、前記化合物の減少のために、有機樹脂、活性炭、珪酸塩及び／又はゼオライト及び／又は小さい細孔寸法を有するフィルター少なくとも１つを使用することにも関する。 （もっと読む）

本発明の対象は、熱電併給もしくはコジェネレーションまたは電気的なエネルギを形成するための熱的な火力発電所によって、炭素化合物、たとえばカーボンブラック、グラファイトの工業的な製造または糖熱分解からの廃熱または残留ガスを、特に溶融炉の運転のための利用し、かつ／または吸熱プロセスにおける廃熱を利用するためのエネルギ効率の良い設備を提供すること、ならびに廃熱の相応する使用である。 （もっと読む）

【課題】２０％を超える光量子効率を有する、ナノ結晶性ケイ素含有ＳｉＯ_Ｘ薄膜フィルムを提供する。
【解決手段】本発明に係る製造方法は、発光用途に関する、高量子効率のシリコン（Ｓｉ）ナノ粒子含有ＳｉＯ_ＸＮ_Ｙフィルムを備える発光素子の製造方法において：底部電極を供給する工程と；底部電極上に、シリコンナノ粒子を含有する不定比のＳｉＯ_ＸＮ_Ｙフィルム（Ｘ＋Ｙ＜２であり、Ｙ＞０である）を堆積する工程と；シリコンナノ粒子を含有するＳｉＯ_ＸＮ_Ｙフィルムをアニール処理する工程と；６３２ｎｍにて測定された０．００１未満の消衰係数（ｋ）および２０％を超えるＰＬ量子効率（ＰＬＱＥ）を有する、アニール処理されたシリコンナノ粒子含有ＳｉＯ_ＸＮ_Ｙフィルムを形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の粒度分布まで粉砕された、金属シリコンから出発する多結晶シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】金属シリコンと無水フッ化水素(ＨＦ)とを反応させて、四フッ化ケイ素(ＳｉＦ４)を得ること、および四フッ化ケイ素(ＳｉＦ４)を有機溶媒または溶融塩の流体媒体におけるアルカリ金属水素化物またはアルカリ土類金属水素化物で水素添加する反応によってモノシラン(ＳｉＨ４)の合成を作動させることを含む。次に、前記モノシラン(ＳｉＨ４)の沸騰疑似流動床反応器において熱分解を行って、高純度粒状多結晶シリコンを得る。 （もっと読む）

シリカ−ジルコニアナノクラスタを含有する充填剤が開示される。充填剤は、シリカナノ粒子のゾルと、予成形結晶ナノジルコニア粒子のゾルとを混合することにより調製され得る。充填剤は、乳白光等の所望の光学特性を提供し、歯科用組成物において有用である。 （もっと読む）

階層的多孔構造を有するモノリス型金属又は金属複合体を製造する方法であって、多孔質構造を有するテンプレート材料を選択する工程；該テンプレート材料を、構造化される１つの又はそれぞれの該金属の溶液と接触させる工程；１つ又はそれぞれの該金属を該テンプレートに堆積させる工程；該金属被覆テンプレートを、更なる金属の堆積の前に洗浄する工程；該金属被覆テンプレート材料を分離する工程；該テンプレート材料の少なくとも一部分を熱的に除去する工程を含む方法。
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本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質スペクトルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】コラーゲン線維を鋳型として用いて、比表面積の大きい多孔質シリカを製造する方法を提供すること。
【解決手段】コラーゲン線維及びアルコキシシランをｐＨ０．１〜５の水溶液中で攪拌してコラーゲン線維とシリカとの複合体を形成する工程、及び該工程で得られたコラーゲン線維とシリカとの複合体を焼成又は酸処理してコラーゲン線維を除去する工程を含む多孔質シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、一欠損ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物の新規な製造方法を提供することを目的とし、さらに、二欠損ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物及びアコ配位子を有する該へテロポリオキソメタレート化合物とその製造方法を提供することも目的とし、また該化合物を用いた触媒反応を提供することをも目的としている。更に、該化合物を用いた触媒反応を提供することをも目的としている。
【解決手段】式（１）［β_２−ＸＷ_１１Ｏ_３９］^８−（式中、ヘテロ原子であるＸはＳｉ及びＧｅから選ばれる少なくとも一種の元素をあらわし、ポリ原子であるＷはタングステンをあらわし、Ｏは酸素をあらわす。）であらわされる一欠損ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物の製造方法であって、Ｓｉ及びＧｅから選ばれる少なくとも一種の元素を含む化合物とＷを含む化合物とを、ｐＨ６〜７の条件下で反応させることを特徴とする一欠損ケギン型構造を有するヘテロポリオキソメタレート化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた吸油性と圧縮強度を兼ね備えた球状シリカ系粒子を提供する。
【解決手段】 平均粒子径１０〜３００ｎｍのシリカ微粒子が分散媒に分散してなるシリカ微粒子分散液とバイオセルロースの水系分散液を、シリカ１００質量部に対して、バイオセルロース０．１〜２０質量部となるように混合した分散液を噴霧乾燥して得られた球状シリカ系粒子であって、平均粒子径が１〜１００μｍの範囲、細孔容積が０．５〜３．０ｍｌ／ｇの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、比較的高い塗膜強度と比較的低い比誘電率を有し、さらには表面平坦性や耐クラック性などに優れたシリカ系塗膜にパターニングを施す方法および該方法から得られるシリカ系塗膜に関する。
【解決手段】 パターニング特性を備えたシリカ系塗膜をパターニングする方法であって、（１）特定のシリカ系塗膜形成用塗布液を基板上に塗布する工程、（２）前記工程で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程、（３）前記工程で乾燥された塗膜上にパターニング用マスクを載置する工程、（４）前記工程でマスキングされた塗膜上に紫外線を照射する工程、（５）前記工程で紫外線を照射された塗膜を加熱する工程、（６）前記工程で加熱された塗膜を現像液に浸漬する工程、および（７）前記工程で現像液に浸漬された塗膜を洗浄する工程を含むことを特徴とするシリカ系塗膜のパターニング方法および該方法から得られるシリカ系塗膜。 （もっと読む）

発明は、一般に、式Ｓｉ_xＨ_y，ここでｘ及びｙは≧１の整数である、を有する、シランのような、一またはそれ以上の分子を生成するための方法に関連し、方法は、シリコン含有材料を供する工程、シリコン含有材料はシリコン含有材料の総重量を基準として少なくとも２０重量パーセントのシリコン原子を含む；シリコン原子を気化可能か、シリコン原子をスパッタリング可能か、あるいはその両者が可能なプラズマを、プラズマ発生装置を用いて発生させる工程；雰囲気中の原子の総モル数を基準にして少なくとも約０．５モルパーセントの水素原子を含む雰囲気を持つチャンバー内でシリコン含有材料にプラズマを接触させる工程；を含み、それにより、式Ｓｉ_xＨ_y（例えばシラン）が生成される。方法は、清浄なＳｉ_xＨ_y（例えばシラン）を形成するため、Ｓｉ_xＨ_y（例えばシラン）から一またはそれ以上の不純物を除去する工程を好ましくは含む。方法は、電子機器グレード金属シリコン、光起電グレード金属シリコンあるいはその双方のような高純度シリコン含有材料を生成するため、Ｓｉ_xＨ_y（例えばシラン）を反応させる工程を含んでいても良い。 （もっと読む）