【課題】耐熱性に優れた粘土膜を６００℃超の高温環境下で使用した場合でも、十分なシール性を達成できるとともに、６００℃を超える高温となり且つ水分が存在する環境下でも、構造変化による性質劣化を極力防止すると共に、ナトリウム溶出による製品機能低下をも防止する手段の提供。
【解決手段】粘土粒子を配向させた構造を有し、該粘土粒子間又は／及び粘土粒子層間に、１００℃を超え且つ該粘土粒子の構造水酸基が水として放出される温度以下の温度で分解する物質を含有する粘土膜からなる、前記物質の分解温度以上の環境下に配される部材。 （もっと読む）

【課題】 徐放性および安定性に優れ、樹脂や溶媒等に均一に分散でき、分散された材料の機械的強度等を低下させない、生物忌避性複合体およびそれの製造方法を提供する。
【解決手段】 生物忌避剤を陰イオン化し、次いで、陰イオン化された生物忌避剤を含む溶液と層状複水酸化物を構成する金属イオンを含む溶液とを混合することによって、層状複水酸化物と該層状複水酸化物にインターカレートしてなる生物忌避剤とを含んでなる生物忌避性複合体を得る。 （もっと読む）

【課題】結晶構造安定性や水熱安定性が向上したベータ型ゼオライトを製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明のリン含有ベータ型ゼオライトの製造方法は、以下に示すモル比で表される組成の反応混合物となるように、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源、４級アルキルホスホニウム化合物、テトラエチルアンモニウム化合物、アルカリ金属源及び水を混合し、
ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃＝１０〜１０００
Ｒ₄ＰＸ／ＳｉＯ₂＝０．０１〜１
ＴＥＡＸ／ＳｉＯ₂＝０〜０．５
ＯＨ^-／ＳｉＯ₂＝０．１〜０．８
Ｍ⁺／ＳｉＯ₂＝０〜０．５
Ｈ₂Ｏ／ＳｉＯ₂＝３〜５０
（式中、Ｒ₄Ｐは４級アルキルホスホニウムイオンを表し、Ｘは一価のアニオンを表し、ＴＥＡはテトラエチルアンモニウムイオンを表し、Ｍ⁺はアルカリ金属イオンを表す。）
次いで、得られた反応混合物を、密閉容器中で１００〜２５０℃の温度で加熱する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ゼオライト薄膜製造、或いは活性剤の負荷に用いるキャリアに使用することができる小結晶粒オールシリコンβゼオライトの合成方法の提供。
【解決手段】以下のステップを含み、(a)シリコンソース、フッ素イオンソース、テトラエチルアンモニウムイオンソースと徐イオン水を、特定組成のモル比で混合し、反応混合物を形成し、(b)結晶粒の大きさが< 5μmのオールシリコンβゼオライトが形成されるまで、該反応混合物に結晶化反応を起こさせ、(c)該各オールシリコンβゼオライトを回収し、本発明の方法を利用すれば、短時間内に小結晶粒オールシリコンβゼオライト結晶を合成可能で、しかもその生産効率は９割以上である。 （もっと読む）

モレキュラーシーブを調製する方法及びそれにより得られるモレキュラーシーブが記載される。該方法は、構造指向剤、四価元素の少なくとも１つの酸化物の少なくとも１つの供給源、所望により、三価元素、五価元素及びそれらの混合物の酸化物からなる群から選択される１つ又は複数の酸化物の１つ又は複数の供給源、所望により、周期表の第１及び第２族から選択される元素の少なくとも１つの供給源、並びに所望によって、水酸化物イオン又はフッ化物イオンを含む反応混合物を調製するステップと、該モレキュラーシーブの結晶を形成するのに十分な条件下で反応混合物を保持するステップを含む。該方法において、種々のイミダゾリウム陽イオンを構造指向剤として用いる。
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本発明は、（１）シリカ、好ましくは非晶質シリカ、及び／又は少なくとも一種のシリカ前駆体と、水と、少なくとも一種の適当な構造指向剤とを含む混合物を供給し、（２）（１）で得られる混合物を水熱条件下で加熱してＲＵＢ−３６ケイ酸塩を含む懸濁液を与え、（３）該ＲＵＢ−３６ケイ酸塩を分離することからなる同形置換されたＲＵＢ−３６ケイ酸塩の製造方法であって、（１）の混合物が同形置換に好適な少なくとも一種の元素を含み及び／又は（ｂ）分離された（３）のＲＵＢ−３６ケイ酸塩が同形置換にかけられることを特徴とする製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、少なくともシリコンと酸素を含む、層構造のシリケートを製造する方法であって、
（１）シリカ及び／又は少なくとも１種のシリカ前駆体、水、ジエチルジメチルアンモニウム化合物、トリエチルメチルアンモニウム化合物、及びジエシルジメチルアンモニウムとトリエチルメチルアンモニウム化合物の混合物から成る群から選ばれる、少なくとも１種のテトラアルキルアンモニウム化合物、及び少なくとも１種の塩基、及び任意に、少なくとも１種の適切な種材料を含む混合物を準備する工程；及び（２）工程（１）に従い得られた混合物を、自己生成の圧力下（熱水条件）下に、１２０〜１６０℃の範囲の温度に、５〜１０日間加熱し、層構造のシリケートを含む懸濁液を得る工程、を含む方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、（１）少なくとも一種の層状ケイ酸塩を供給し、（２）上記層状ケイ酸塩を水と次式で表わされる少なくとも一種のケイ素含有化合物：
Ｒ_4-mＳｉ［−（ＳｉＲ₂）_n−Ｒ］_m
（式中、少なくとも一つの基Ｒは脱離基であり、残渣ＲのいずれもＳｉを含まず、ｍが０，１、２，３、あるいは４であり、ｎが０以上の整数である）と混合することからなるケイ酸塩化合物の製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に対し、孔の配向方向が傾斜しているメソポーラス酸化チタン膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されたメソポーラス酸化チタン膜であって、傾斜して配向しているシリンダー状の孔を有し、前記孔の配向方向のなす配向角度が基板面に対して１０度以上８０度以下の範囲であり、かつ前記孔の配向方向を基板上に射影した射影方向が基板面内にわたって一定方向に配向しているメソポーラス酸化チタン膜。両親媒性物質の集合体を所定の方向に配向させる機能を有する基板を準備する工程と、酸化チタンの前駆体物質と両親媒性物質と水とを含有する反応溶液を準備する工程と、前記基板上に前記反応溶液を塗布して上記のメソポーラス酸化チタン膜を形成する工程とを有するメソポーラス酸化チタン膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】キシレン異性体を分離が可能なゼオライト膜の製造方法を提供する。
【解決手段】多孔質支持体の表面に構造規定剤を含むゼオライト膜を形成する膜形成工程と、膜形成工程の後に、構造規定剤を除去する構造規定剤除去工程と、を有するゼオライト膜の製造方法である。構造規定剤除去工程において、膜形成工程において形成されたゼオライト膜を２５０〜３５０℃で焼成することにより構造規定剤を除去する。 （もっと読む）

【課題】高収率で酸化化合物を製造することができる酸化化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】下記Ｘ線回折パターンを有するチタノシリケート（ＩＩ）と構造規定剤とを接触させることにより得られるチタノシリケート（Ｉ）又はそのシリル化物の存在下に、有機化合物と酸化剤とを反応させることにより、前記有機化合物を酸化させる工程を含む酸化化合物の製造方法の提供。
Ｘ線回折パターン
（格子面間隔ｄ／Å）
１２．４±０．８
１０．８±０．３
９．０ ±０．３
６．０ ±０．３
３．９ ±０．１
３．４ ±０．１ （もっと読む）

【課題】強酸を使用することなく、安定な水溶性ビスマス化合物溶液を用いて形状や組成が安定なＢｉＭＯ微粒子（ただし、ＭはＳｉ、Ｇｅ、ＴｉまたはＳｎ）を製造する。
【解決手段】ケイ素化合物、ゲルマニウム化合物、チタニウム化合物またはスズ化合物から選ばれる少なくとも１種と、ビスマス化合物とを、アミノ化合物存在下、アルカリ水溶液中で攪拌混合して反応させる。 （もっと読む）

【課題】改良された性質を有する、場合によってはフッ素含有ガスの存在下に形成される、針状ムライト粒子の多孔質ムライト組成物を形成する方法を提供する。
【解決手段】改良された性質は水の蒸気、酸素、不活性ガス又はこれらの混合物からなる群から選ばれる雰囲気においてムライトを高温に加熱すること又はＡｌ／Ｓｉ比が多くとも２．９５の前駆体からムライト組成物を形成することから得られる。 （もっと読む）

【課題】 ＺＳＭ−５型ゼオライトが有する高い耐酸性を保持しながら、親水性および水選択透過性を有し、高品質なＺＳＭ−５型ゼオライト膜を、構造規定剤を使用することなく、焼成処理を行わずに製造する方法を提供する。
【解決手段】 アルミナ源、シリカ源、およびフッ素化合物を含み、該フッ素化合物以外に構造規定剤を含まない水性ゲルを熟成させた後、種結晶を有する支持体を前記水性ゲルに挿入し水熱合成するＺＳＭ−５型ゼオライト膜の製造方法であって、前記水性ゲルの仕込み組成が、Ｓｉ／Ａｌモル比が５以上３０以下、Ｆ／Ｓｉモル比が０．５以上２.０以下であり、この水性ゲルを室温〜５０℃、０．５〜２４時間の条件で熟成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を比較的低温で除去しながら、低い屈折率を有し、反射防止性に優れたメソポーラスシリカ多孔質膜を形成する方法、その多孔質膜、反射防止膜及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学基材１又はその上に設けられた緻密膜の表面に、メソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜２を形成する方法であって、(1) 触媒、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び溶媒の存在下でアルコキシシランを加水分解・重縮合し、これらの界面活性剤及びメソポーラスシリカナノ粒子からなる複合体を調製し、(2) 上記複合体を含む溶液を上記基材又は緻密膜の表面に塗布し、(3) 乾燥して上記溶媒を除去し、(4) 酸素含有ガス雰囲気下120〜250℃の温度で焼成するか、酸素含有ガスを用いてプラズマ処理することにより、上記両界面活性剤を除去する方法。
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低シリカ／アルミナ比を有するＣＨＡ結晶構造を有するゼオライト触媒、該触媒を組み込む物品およびシステム、ならびにそれらの調製方法および使用方法が、開示される。該触媒を使用して、排気ガス流からのＮＯｘ、特に、ガソリンまたはディーゼルエンジンから発するものを低下させることができる。 （もっと読む）

本発明は、超メソ多孔性Ｙ（「ＥＭＹ」）ゼオライトの組成物および合成ならびに有機化合物の接触転化でのその使用に関する。特に、本発明は、高い大きなメソ孔細孔容積対小さなメソ孔細孔容積比を有するＹ型骨組ゼオライトに関する。得られた新規ゼオライトは、石油精製および石油化学プロセスでの使用のための有益な構造上の特徴を提供する。
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【課題】シングルナノ領域に周期性があり、かつ平均粒子径及び比表面積が小さい中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積が３０ｍ²/ｇ以下である中空シリカ粒子の製造方法であって、中空構造でありかつ外殻部にメソ細孔を有するＢＥＴ表面積が１００ｍ²/ｇ以上のメソポーラスシリカ粒子のメソ細孔内に、非酸化性雰囲気での焼成により炭化する炭素含有化合物を充填し、非酸化性雰囲気下で８００℃以上で焼成して炭素支持体とした後、酸化性雰囲気下で加熱して、該炭素支持体を除去する工程を含む中空シリカ粒子の製造方法、及び（２）粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、平均粒子径が０．０５〜２μｍであり、かつ窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積が３０ｍ²/ｇ以下である中空シリカ粒子である。 （もっと読む）

本発明は充填構造物の製造方法であって、以下の主工程：ａ）生石灰およびシリカの混合物を使用して行われる、充填マスの水熱合成を含む工程と；ｂ）工程ａ）において製造された充填マスの１１０℃ないし５００℃の間にある温度Ｔ2での乾燥を含み、少なくとも１回の中間段階が１１１℃ないし３５０℃の間にある温度で前記充填マスの物理吸着水の含有量が０．５％未満になるように選択される期間ｔ2にわたって行われる工程とを含むことを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

高度に多孔質な針状ムライト体が調製される。ムライト前駆体およびポロゲンを含有するグリーン体は、湿式法を用いて形成する。グリーン体を加熱して、任意のバインダー、ポロゲンを連続して除去し、次にこれを焼成する。焼成体は、ムライト化される。このプロセスにより優れた強度を有する焼成体が形成された。これは、容易に扱うことができる。ムライト化された該体は、非常に高い気孔率、小さい気孔および優れた破壊強度を有する。 （もっと読む）