【課題】酸化処理対象物を広範囲に渡って略均一に高周波誘導加熱を行うことが可能な酸化処理装置および酸化処理方法を提案する。
【解決手段】酸化処理装置１は、連結および分解が可能な複数の中空導電体２と中空導電体２の中空部３が連接してなる冷却剤流路５とを有して酸化処理対象物ＰＢを囲むコイル６と、冷却剤流路５に冷却剤を流通する冷却装置７と、コイル６に交流電力を印加する交流電源８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】含有水素量を低下させた雰囲気中で有機基板の表面に紫外線を照射することで、紫外線照射後の有機基板の表面に対する導電膜の密着性を向上しつつ、導電膜の導電率の低下を防止する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板１００が配置されるハウジング３０内にドライエアボンベ３４からドライエアを供給する。基板１００の表面は、含有水素量が十分に少ないドライエアの雰囲気中で、照射窓２１及びフィルタ２８を介して紫外線ランプ２２から紫外線の照射を受ける。 （もっと読む）

【課題】低温反応を利用した薄膜堆積法は、付加価値の高いフルオロカーボン薄膜や炭素膜に変換し、リサイクルすることを可能にすることに加え、排ガスのリユースするための有効利用方法及び装置を提供する。
【解決手段】極低温に冷却された基材上に、フッ素含有排ガスを噴霧し、フッ素含有排ガスのみを凝縮薄膜として堆積させる工程と、該凝縮薄膜に雰囲気ガスとともに電子またはイオンまたは準安定励起種またはラジカルを照射することにより該フッ素含有排ガスを分解するとともに重合膜として固定化する工程と、固定化したフッ素含有重合膜を回収する工程を、含むフッ素含有排ガスの固定化方法。

（もっと読む）

【課題】チップ上で液滴を移動させることにより、効率的な熱サイクルを当該液滴に施すことのできる熱サイクル装置を提供する。
【解決手段】本発明にかかる熱サイクル装置は、液滴を載置する載置面を有するチップを装着する装着部と、装着部を、所定方向に往復移動させる移動機構と、所定方向に温度分布を有するようにチップの載置面を温度制御する温度制御部と、を備え、移動機構は、装着部に印加される加速度および液滴の質量との積が、載置面に液滴が載置された際の静止摩擦力よりも大きくなるように、装着部を移動させる。 （もっと読む）

【課題】サイクロンリアクター（１０）において、化合物を合成しかつ反応させる方法を
提供すること。
【解決手段】触媒粒子、液体触媒、および／または液体反応物質を含有し得る液体キャリ
アが、提供され得る。この液体キャリアは、サイクロンリアクター（１０）内で渦巻き層
（３８）に形成され得る。また、少なくとも１種の反応物質を含有する反応物質組成物が、
渦巻き層（３８）の少なくとも一部分を通して射出され得、これにより、反応物質の少な
くとも一部は、反応生成物に変換される。このサイクロンリアクター（１０）は、微妙な
温度制御により、反応物質の触媒との接触を向上させ、それにより、反応の収率および選
択性を上昇させる。 （もっと読む）

【課題】 二酸化炭素の処理効率が高く、処理コストが低い二酸化炭素分解処理装置及び二酸化炭素分解処理方法を実現する。
【解決手段】 二酸化炭素分解処理装置１は、マイクロ波を伝送する導波管１０と、マイクロ波発振器１１と、マイクロ波のマッチングを行うマッチング部１２と、同軸変換部１３と、を備えている。マッチング部１２の側面には、二酸化炭素を含む被処理ガスを内部に導入するためのガス導入口１２ｂが設けられている。マッチング部１２の内部に導入された被処理ガスは、同軸変換部１３に導入され、同軸変換部１３において励起されたマイクロ波プラズマＰにより二酸化炭素が分解される。 （もっと読む）

【課題】珪素粒子の欠陥密度を可及的に低減すること。
【解決手段】珪素粒子１を積載する第一の電極２と、水素プラズマの発生領域を挟んで第一の電極２に対向して配設されている第二の電極４と、第一の電極２の温度が第二の電極４の温度よりも高くなるように温度制御して第一の電極２と第二の電極４との間に原料ガスの対流を起こす温度制御手段（ヒーター３、冷却管６）と、を備え、原料ガスの対流によって第一の電極２に積載されている珪素粒子１を水素プラズマ中に浮遊させて水素プラズマに曝露する。 （もっと読む）

【課題】マイクロチップ用基板に紫外光を照射し、検査体を変質させることなく、基板の表面を良好に改質することを可能とすること。
【解決手段】検査体３１を載置した基板（ワーク）３０をワークステージ４０上に保持させ、その上にマスク２０を載せて、光照射ユニット１０から紫外光を照射して基板表面を活性化させる。マスク２０には、凹部が形成されその内面に遮光手段２０ｃが設けられ、この凹部と基板３０で閉空間が形成され、検査体３１が閉空間の中に配置される。このため、検査体３１に紫外光が照射されることがなく、また、紫外光をワーク３０に照射する際に発生するオゾンや酸素原子に上記検査体３１は暴露されることがない。このため、検査体３１に変質といった不具合が発生することがない。 （もっと読む）

【課題】 被加工物の被加工面の平坦化加工を高い加工速度を維持して実施する。
【解決手段】 表面加工方法は、処理水中で光触媒活性を有する薄膜を被加工物の被加工面に対向配置し、薄膜に光を照射して薄膜上で酸化力を有する活性種を生成し、活性種と被加工面の原子とを化学反応させ、被加工面を溶出可能な化合物へと変化させて除去することにより、被加工面を平坦化する。表面加工方法は、温度Ｔ（Ｋ）、大気圧下における水への酸素の溶解度をモル分率χで表すと、モル分率χと温度Ｔ（Ｋ）とは、ｌｎχ＝−６６．７４＋｛８７．４８／（Ｔ／１００）｝＋２４．４５・ｌｎ（Ｔ／１００）の関係を有し、温度Ｔ（Ｋ）における処理水中の溶存酸素量Ｄ（ｍｇ／Ｌ）がＤ≧３．５５５×１０^５χとなる条件で化学反応を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】ランプ温度に影響を受ける紫外線ランプと処理ユニットとの距離に制限を加えることで、高入力電力の場合での早期の失透や黒化等を抑制する。
【解決手段】紫外線透過性の石英ガラスで気密性を有する放電空間１３を備えた発光管１４内の軸方向に一対の放電用の電極１５ａ，１５ｂを対向して配置する。放電空間１３内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ１００を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。紫外線ランプ１００は、内管２１と外管２２との間に紫外線ランプ１００を冷却させる冷却液２４を循環させ、紫外線を透過させる二重構造の処理ユニット２００の内管２１内に収容する。紫外線ランプ１００と処理ユニット２００の内管２１との距離Ｄ［ｍｍ］と紫外線ランプ１００の入力電力Ｐ［Ｗ／ｃｍ］は、Ｄ≦−０．２Ｐ＋３５の関係を満足させるとともに、外管２２の内面に紫外線反射膜２５を形成した。 （もっと読む）

【課題】燃料電池の板状電極材を作製する際、結晶性が高い炭素板製の触媒担持体面に、欠損を均一に導入して表面調整を行い、かつ、この表面調整された板状担持体の表面の欠損部に金属触媒粒子を均一に担持させる方法を提供する。
【解決手段】結晶性の高い触媒担持板Ｗの表面に対しプラズマガス１３Ｇを照射することにより、触媒担持板Ｗの面に格子欠損を均一に導入し、該格子欠損が導入された触媒担持板Ｗと、有機金属化合物（導電性金属触媒となる金属分子を含む）を有機溶媒に溶解したものと、超臨界ＣＯ_２に溶解させたものとを反応させて、導電性金属触媒粒子を触媒担持体Ｗに担持させる。 （もっと読む）

【課題】 多量の反応ガスを流しながらＸ線回折で試料（亜鉛フェライト脱硫剤）の反応過程（炭素析出）をその場で観察する。
【解決手段】 試料を流通する前と流通した後の反応ガスの組成が変化しない状態に試料２１を保持する微分反応評価試料保持部１５を備え、検証条件を保持した状態でＸ線回折装置（Ｘ線発生手段２５、二次元Ｘ線検出手段２６）により試料２１の組成の形態変化をその場で直接解析し、炭素の析出が生じる過程での形態変化を検証する。 （もっと読む）

【課題】 超臨界流体中でマイクロ波を均一に照射することにより、高い反応効率を有するとともに、反応の均一性に優れた超臨界マイクロ波反応装置を提供する。
【解決手段】 超臨界マイクロ波反応装置１０は、内部空間に被反応物質である固体炭化質材料２１を収容する反応器１１と、反応器１１内の固体炭化質材料２１に対して反応器１１の外部からマイクロ波を照射するマイクロ波照射手段１２とを含む。そして、超臨界マイクロ波反応装置１０は、反応器１１内における超臨界状態の二酸化炭素中で、マイクロ波照射手段１２により固体炭化質材料２１にマイクロ波を照射してガス化反応させる。すなわち、超臨界マイクロ波反応装置１０は、固体炭化質材料２１に対して、超臨界二酸化炭素を浸透させながら、マイクロ波を照射させてガス化反応を行う。 （もっと読む）

【課題】硫化水素を含む天然ガスを処理するガス処理設備の容器は、大型化の傾向にあることから重量の増大が問題となっており、このような容器の重量の低減を図る。
【解決手段】ガス処理装置は、天然ガス、石油随伴ガス、石油精製ガス等の硫化水素が含まれるガスを処理するために湿潤硫化水素環境で用いられる容器を備えている。この容器用の鋼板として降伏点が３００Ｎ／ｍｍ²以上の高張力鋼が用いられている。また、この容器を構成する高張力鋼の鋼板の内面には、オーステナイト系ステンレス鋼が内張りされるか、オーバーレイ溶接されている。これにより、容器内面の硫化水素による腐食を防止し、これによる原子水素発生を防止することで、水素誘起割れを防止する。さらに、高張力鋼を用いることで、容器の板厚の薄肉化を図ることにより、容器を軽量化する。 （もっと読む）

【課題】平面状の被照射体に対して効率よく均一に、かつ安定してエキシマ光を照射することができるとともに、使用する放電用ガスの交換によって複数種類の波長のエキシマ光の何れかを選択的に照射することができるようにする。
【解決手段】放電容器２を、側面に流入口２１１及び流出口２１２を備えるとともに厚さ方向に直交する２面の一方が開放面にされた筐体形状の本体２１と、開放面に接合される平板状の蓋体２２で構成した。蓋体２２は、加工容易な平板状であるため、広い波長域のエキシマ光に対する透過性の高いフッ化物で構成できる。本体２１の流入口２１１を経由して放電容器２内に放電用ガス供給装置９から処理内容に応じた波長のエキシマ光を発生する放電用ガスを選択的に供給できる。放電容器２内で発生したエキシマ光は、平板状の蓋体２２の全面から均一に照射される。 （もっと読む）

【課題】減圧噴霧乾燥において酸化を抑制し、また食品粉末等の製造の効率化を図る。
【解決手段】噴霧ガスとして窒素等の不活性ガスを用い、不活性ガスと液体原料とを二流体ノズルにより減圧噴霧乾燥塔内に噴霧し、該減圧噴霧乾燥塔内で上記液体原料を乾燥させた粉末を得る。また減圧噴霧乾燥塔に対する減圧のための吸引系で吸引される不活性ガスを、噴霧ガスとして循環再利用する。 （もっと読む）

【課題】種々の分野で利用可能とするべく、大気圧条件下で、新たなガスの供給を行うことなく、低温で、安定的にプラズマを発生させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物をプラズマで処理するプラズマ処理装置１００であって、電源に接続された第１電極１０と、被処理物を設置可能なように、第１電極１０から離間させた状態で対向配置された第２電極２０と、第１電極１０と第２電極２０との間に設けられた第３電極３０と、を備え、第１電極１０と第３電極３０との間にプラズマを発生させるための、パルス発生手段８０を設け、発生した前記プラズマを引き出す引出電圧が、第２電極２０と第３電極３０との間に印加されている。 （もっと読む）

【課題】多くの時間と労力を必要とすることなく処理チャンバのガス置換が可能であり、また、容易に処理チャンバの大型化を図ることができる電子線照射装置および電子線照射方法を提供する。
【解決手段】金属箔が張られた照射窓を有し、移動可能な処理チャンバと、処理チャンバ内に収容されている被架橋物を所定の温度に加熱する加熱手段と、処理チャンバ内のガスを排気した後、処理チャンバ内に低酸素ガスを供給するガス置換手段と、照射窓の外側に着脱自在に装着され、照射窓との間に外部とのガスの出入りが遮断された小室を形成する窓蓋と、処理チャンバと小室とを連通させる連通路と、連通路に設けられ、連通路を開閉する弁体とを有する電子線照射装置および前記電子線照射装置を用いる電子線照射方法。 （もっと読む）

【課題】ガスと被処理物とを反応部内で反応させるにあたり、ガス反応部へのガスの入れ替え時間を短縮し、効率よく処理行うことができるガス反応装置を提供する。
【解決手段】供給部１からオゾンガスを貯留部３に供給し、貯留部３内に所定圧のオゾンガスを貯留させる。反応部５内に被処理物を挿入した後、排気ポンプ１２を作動させ、反応部５内を所定圧以下まで排気する。その後、貯留部３からオゾンガスを反応部５内に供給する。反応部５内のガス圧が規定値まで上昇した後、供給部１からオゾンガスを反応部５に直接に供給し、反応した排ガスをガス処理装置１０で処理して排出する。 （もっと読む）

【課題】長尺の放電路を形成し、長尺のプラズマを発生、照射する大気圧プラズマ発生装置を提供。
【解決手段】噴出口２１１からアルゴン流が電極４１及び電極４２間の高周波電力によりプラズマ化され、予備プラズマとして筒状部１５内部に左端から右方向へ噴出される。噴出口２２１においては、アルゴン流が電極４３及び電極４４間の高周波電力によりプラズマ化され、予備プラズマとして筒状部１５内部に右端から左方向へ噴出される。電極４１と電極４３との間に高周波電力を印加すると、放電領域１５０の両端からなだれ込む２つのアルゴンプラズマ間で放電が生じ放電領域１５０全体が放電状態となる。導入口１３を介してアルゴン及び酸素の混合気体を供給すると、酸素プラズマＰ１５０が生じて、筒状部１５の下側に設けられた１７０個の第２の孔部１５２から下方向に照射される。即ち、長さ５０ｃｍに及ぶ長尺の酸素プラズマＰ１５０が生成し、照射される。 （もっと読む）