【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置。
【解決手段】プラズマ発生装置１１０は、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）を原料とする焼結体から成る筐体部１１を有する。筐体部１１は、スリット状のガス導入口１１ｉ及び複数個の円筒状のガス噴出口１１ｏを有する。ガス導入口１１ｉからプラズマ化領域Ｐの直上までは、スリット幅（２．Ａの前後方向、図２．Ｂの左右方向）を１ｍｍとし、内径１〜２ｍｍのガス噴出口１１ｏはプラズマ化領域Ｐの長手方向に一直線状に形成されている。プラズマ化領域Ｐの断面は一辺２〜５ｍｍの正方形とした。電極２ａ及び２ｂは各々向き合った表面に凹部（ホロー）を有する。商用交流電圧である、６０Ｈｚ、１００Ｖを用いて約９ｋＶに昇圧し、２０ｍＡで電極２ａ、２ｂ間に印加し、アルゴンをガス導入口１１ｉから導入すると、電極２ａ及び２ｂ間を４ｃｍ迄離間しても、プラズマ化が確認された。 （もっと読む）

【課題】電極間のギャップをμｍオーダーとし、大気圧中でのパッシェンミニマム付近で作動することで、消費電力を低減するとともに、印加電圧の低減化、流体の流通性を向上させることができるプラズマ電極を提供する。
【解決手段】複数の貫通孔１１，１２を有する金属基板１３，１４、２枚を、貫通孔同士の位置が一致するように平行に配設したプラズマ電極１０であって、金属基板の対向する少なくとも一方の表面にはポーラスな誘電体膜１６が露出して形成されている。
プラズマ電極は、金属基板２枚が、その周縁に非導電体スペーサ１５を介在させて平行に配設した態様もある。 （もっと読む）

【課題】触媒を用いずに、電極間のギャップをμｍオーダーとし大気圧中でのパッシェンミニマム付近で作動することで、活性力が大きい低温プラズマを発生させ流体の浄化を向上させることができるプラズマを用いた流体浄化方法及び流体浄化装置を提供する。
【解決手段】複数の貫通孔１１，１２を有する金属基板１３，１４、２枚を、貫通孔同士の位置が一致するように平行に配設し、金属基板間に電圧を印可して放電を発生させるとともに、貫通孔に流体を通過させて流体を浄化する方法であって、金属基板の対向する少なくとも一方の表面にはポーラスな誘電体膜１６が露出して形成されていることを特徴とするプラズマを用いた流体浄化方法。 （もっと読む）

【課題】プラズマ均一性を改善したプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】ＲＦ接地リターン電流は、バイパス電流路を提供することにより、リアクタチャンバの非対称なフィーチャーからは迂回されている。１つのバイパス電流路は、チャンバ床のポンピングポート１６２を排除するものであり、側壁から接地台座ベースまで延在する導電性の対称グリル２００を含んでいる。他のバイパス電流路は、ウェハスリットバルブを排除するものであり、スリットバルブ１２８の占める側壁部分を橋架けする列をなす導電性ストラップを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 吸着材に吸着された水分の影響による放電の不均一性を防ぎ、分解性能を低下させることのない放電電極と、これを用いた空気浄化装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 放電電極１は、管状の接地電極２の管内に管状の高圧電極３が所定の間隙をおいて同心状に配置され、さらに、高圧電極３側には管状の誘電体４が高圧電極３を覆うように設置されており、接地電極２および高圧電極３の両端面は絶縁板５で遮蔽され、また、接地電極２と高圧電極３および絶縁板５で形成される空隙に吸着材６が充填され、接地電極２の側面には被処理ガスの導入口７が設けられ、ガス分散器８が取り付けられており、導入口７の反対面には被処理ガスの排出口９が設けられている。これにより、安定した放電を実現し、効率よく揮発性有機化合物を処理することができる。 （もっと読む）

【課題】窓付き照射タイプとしても直接照射タイプとしても使える紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】誘電体バリア放電ランプ１を収納し、誘電体バリア放電ランプに給電して放電発光させる第１の収納体２と、誘電体バリア放電ランプから放出される紫外線を透過させる窓材７が誘電体バリア放電ランプの紫外線放出面の前方位置に近接して位置するように収納する第２の収納体８とを脱着可能に組み合わせてランプハウス１５Ａを構成し、第１の収納体と第２の収納体とを組み合わせた状態でのランプハウスの設置面と第２の収納体の窓材との距離が、第２の収納体を除いて第１の収納体の単体を設置した時の設置面と誘電体バリア放電ランプの紫外線放出面との距離と等しくなる構造にした紫外線照射装置。 （もっと読む）

【課題】リード線をハーメチックシールすることなく配線作業が容易で、かつ、断熱パッケージ内の長期的な真空度の維持及び高真空を可能にすることができる反応装置及びこれを用いた燃料電池を提供する。
【解決手段】反応装置１００は、反応物の反応を起こす少なくとも１つ以上の反応器１と、反応器１を収容し、内部空間２３が減圧状態の断熱パッケージ２と、反応器１に接続されるとともに断熱パッケージ２を貫通して設けられた供給パイプ３及び排出パイプ４からなる流路と、を備え、反応器１内に挿入されるリード線１６を供給パイプ３や排出パイプ４の中に配置する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ流のガス温度が低く、消費電力が小さいプラズマ発生装置およびプラズマ発生方法を提供する。
【解決手段】プラズマトーチ１１は、互いに間隔を開けて設けられた第１電極２１と第２電極２３と、第１電極２１と第２電極２３との間に設けられた誘電体２２とを有する。第１電極２１は、円筒状を成し、接地される。第１電極２１は、中心軸に沿って厚みを貫通して設けられた複数のスリット２１ａを有する。円筒状の誘電体２２を第１電極２１の内面に沿って設ける。第２電極２３を誘電体２２の内部に設ける。空気供給部は、第１電極２１と第２電極２３との間に空気を供給する。電源は、誘電体バリア放電を発生させて空気供給部から供給された空気をプラズマ化可能に、第１電極２１と第２電極２３との間に電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】大容積中の液体を省エネルギーでプラズマ処理する液体中プラズマ発生装置の提供。
【解決手段】液体中プラズマ発生装置１内に、被電気分解溶液（電解質溶液）５を電気分解するための対向する直流電圧印加用電極３の一対と、その単電極の一つおよび電気分解によって発生した気泡６−１の双方に接着するように配置された誘電体で被覆された交流電圧印加用電極４が電解質溶液５中浸漬し、交流電圧印加用電極４からの交流電圧印加により直流電圧印加用電極３を固定電極として誘電体バリア放電が励起され、プラズマが気泡６−１内に生成される。 （もっと読む）

【課題】電極とその上流側または下流側のガス通路を形成する部材との間からのガス漏洩を確実に防止可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】電極２０の上流側に通路部材５０を設け、その連通路５１を放電空間１ａに連ねる。電極２０の放電空間１ａを向く面を誘電部材４０の覆部４１で覆う。覆部４１の通路部材５０側の端部から電極２０の側へ鍔４２を突出させ、通路部材５０と誘電部材４０との間にはシール材６１を介在させる。挟持部材７１の挟持部７３を鍔４２と電極２０の間に差し入れ、ネジ部材７５を通路部材５０を通してねじ受け部７２にねじ込む。 （もっと読む）

本発明は、表面を、表面障壁放電により形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去（細菌除去、消毒、滅菌）するための方法及び一連の装置に関する。本発明は、表面を、表面障壁放電により流動状の所定のガス雰囲気内に形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去するために用いられ、誘電体又は強誘電体で覆われた高電圧電極、接地された導電性の接触電極、高電圧供給部及びガス供給部、並びにガス出口開口部を備えたガスノズルを含んでおり、この場合にガスノズルは、接地された接触電極のすぐ近くに配置され、又は、ガスノズルは、接地された接触電極内に組み込まれ、又は、ガスノズルはそれ自体、接地された接触電極として作動するようになっており、かつガス出口開口部は、流出するガス流を接地された接触電極に向けるように構成されている。方法は、ガスノズルを有する接触電極と処理すべき材料とを互いに相対的に運動させることを特徴としている。
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化学または生化学反応、例えばポリメラーゼ連鎖反応を行なうための反応容器であって、該容器の少なくとも１つの壁が金属層および内側非金属層を含んでいる反応容器。本発明の容器およびそれを加熱するための機器の組み合わせを含む反応装置、ならびに好ましい反応容器もまた開示され、そして特許請求されている。
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真にパルス状のプラズマ流を生成する装置および方法が開示される。装置は、カソードおよびカソードホルダーを備えるカソード組立体と、アノードと、２つ以上の中間電極とを含み、アノードおよび中間電極がアノードの方へ広がるプラズマチャンネルを形成する。カソードに最も接近した中間電極はカソード先端部の周りにプラズマチャンバを形成する。内面の少なくとも一部分に沿って管状絶縁体を有する延長チャンネルを形成する延長ノズルは装置のアノード端部に取り付けられる。動作中に、電圧がカソードとアノードとの間に印加され、電流がカソード、プラズマ、および、アノードを通過させられる。電圧プロファイルおよび電流プロファイルは、所要の特性をもつプラズマ流の急速な発生を引き起こすように選択される。プラズマパルスの実質的に一様な温度および電力密度分布が延長ノズルの中で実現される。さらに、オゾンがプラズマパルスの生成中に延長ノズルの中に生成されることがある。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路の垂直断面の濃度の定性的な分布を計測することができる、マイクロ流路構造体及びマイクロ流路構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流路Ｓを備えたマイクロ流路構造体１であって、前記マイクロ流路Ｓの方向と直交する垂直断面上において、前記マイクロ流路Ｓを構成する上壁部Ａ、下壁部Ｂ、左壁部Ｃ、右壁部Ｄの夫々に少なくとも二つ以上の電極２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３がマイクロ流路内に露出して形成されている。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で液相と誘電体（固相）との間の気相で放電を発生させて、気相、液相、又は固相の浄化や改質を可能とした放電装置及び放電方法を提供する。
【解決手段】交流電源１０１と、交流電源１０１の各端部に接続された電極１０２，１０３とを有し、電極１０２，１０３のうち一方の電極１０２の少なくとも一部の領域が誘電体１０５で覆われ、誘電体１０５と他方の電極１０３との間に液体Ｗが介在し、誘電体１０５と液体Ｗの液面とが接する部分において誘電体と液体間をその周囲の気体を介して放電させる。 （もっと読む）

【課題】処理対象体を損傷させることなく、より短時間でプラズマ処理し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】準マイクロ波帯またはマイクロ波帯の高周波信号Ｓを生成すると共にこの高周波信号Ｓの電力を制御可能に構成された高周波電源２と、高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４とを備え、電力が制御された高周波信号Ｓを高周波電源２から放射器１４に出力することにより、プラズマ放電用ガスＧが内部に供給された処理対象管５の内部における放射器１４の近傍にプラズマＰを高密度で発生させて、処理対象管５の内面を効率よくプラズマＰで処理する。 （もっと読む）

【課題】 稼動時の熱に起因する熱応力によって破損したとしても、使用することが可能な構造体を提供することにある。また、構造体の使用方法、ならびに構造体を搭載したプラズマ発生体、オゾン発生器、排ガス処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
第１絶縁部３及び第２絶縁部４のそれぞれの一方端が、第１側部５に対して固定され、且つ第１絶縁部３及び第２絶縁部４のそれぞれの他方端が、第２側部６に対して固定されているとともに、第１絶縁部３には、溝７或いは空洞８もしくはポーラス状部が設けられている。 （もっと読む）

前駆体ガスからＩＶ族半導体ナノ粒子の組を生成するためのプラズマ処理装置が開示される。この装置は、外側チューブ内面と外側チューブ外面とを含み、外側チューブ内面は外側チューブ内面エッチング速度を有する、外側誘電体チューブを含む。この装置はまた、内側チューブ外面を含み、外側チューブ内面及び内側チューブ外面は環状チャネルを定め、さらに内側チューブ外面は内側チューブ外面エッチング速度を有する、内側誘電体チューブも含む。この装置は、外側チューブ外面上に配置された第１の外側電極内面を有する、第１の外側電極をさらに含む。この装置はまた、内側誘電体チューブの内部に配置され、第１のＲＦエネルギー源が第１の外側電極及び第１の中央電極の一方に加えられたとき、第１の外側電極に結合されるようにさらに構成された第１の中央電極と、第１の外側電極と第１の中央電極との間に定められた第１の反応域とを含む。 （もっと読む）

【課題】加熱効率が高く、加熱ムラが少ないマイクロ波化学反応装置および方法の提供。
【解決手段】導波管からのマイクロ波が照射されるマイクロ波透過材で構成された照射部を有する管状容器と、管状容器を所定の間隔で仕切る仕切部材と、前記仕切部材間に位置する１以上の撹拌翼を有し、前記管状容器を軸通する撹拌軸と、マイクロ波加熱手段と、を設け、前記管状容器内を流れる被加熱物を、撹拌翼で撹拌しながらマイクロ波加熱するマイクロ波化学反応方法および当該方法を実施するための装置。 （もっと読む）

本発明は、互いに対向し、実質的に平行に保たれ、互いに密閉され、したがって、ガス（７）で満たされた内部空間（１０）を画定し、第１の誘電体壁が少なくともＵＶ放射を透過する材料で作られている、第１及び第２の平らな誘電体壁（２、３）と、異なる所定の電位を有し、壁間での垂直放電のための第１及び第２の電極（４、５）により構成され、第１の電極が少なくとも全体的なＵＶ透過を可能にさせるため配置された層に基づいている電極と、放出ガス又は、第１及び／又は第２の誘電体壁（２、３）の一つの主要内側面（２２、３２）にあって、蛍光体がガスによって励起されることにより上記ＵＶ放射を放出する、蛍光体コーティング（６）とを備える、ＵＶランプとして知られている、紫外線域で放射を透過するフラットランプ（１）に関する。本発明は、フラットランプの使用及び製造にも関する。
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