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Fターム[4G075FC15]の内容

物理的、化学的プロセス及び装置 (50,066) | 装置8(機能、物性) (2,254) | 誘電体、絶縁体 (422)

Fターム[4G075FC15]に分類される特許

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【課題】消耗部材を用いず、低消費電力で効率よく大量の排水もしくは廃液中の有害有機化合物を安定に分解除去する。
【解決手段】誘電体2被覆棒状電極1を液中に挿入し、誘電体バリヤー放電3を液面上の大気中に形成することにより該液中の有害有機化合物を分解除去する。誘電体バリヤー放電を用いることで電力を節減し、大気圧プラズマを用いることで消耗部材を無くし、棒状電極を用いることにより液面の変動に対して安定なプラズマを維持する。 (もっと読む)


【課題】金属体とセラミック体との接合部分が、例えば、金属体の放電や排気ガスによって腐食するのを抑制することができ、しかも、金属体とセラミック体とを強固に接合することができるプラズマ発生電極、およびプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】セラミック体2と金属体3とを含む単位電極4を、金属体3が互いに対向するように、少なくとも二つ備え、単位電極4間に電圧を印加することによって当該単位電極4間にプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極1であって、金属体3の金属原子がセラミック体2へ拡散されていることにより、金属体3とセラミック体2とが接合されている。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、三次元的な変化に富む表面部を有する物体に対しても空力制御装置として有効に機能する空気流発生装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、物体の表面部に設けられ、プラズマの発生により空気流を発生させる電極対を有する空気流発生装置であって、前記電極対は、前記表面部のうち基準表面部3に沿って第1の空気流5を発生する第1の電極対1と、前記表面部のうち前記基準表面部3に沿う方向に対して交差する方向に第2の空気流6を発生させる第2の電極対2と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】排気ガス浄化装置等に使用されるプラズマ反応器において、放電電極間に波状に形成した補助電極を配置し、その補助電極の波の方向と交差する方向に排気ガスを流すと、PMを捕集しにくい構造となり、補助電極によりPMの除去率を高くすることが難しかった。
【解決手段】プラズマ発生用電極は、処理される気体の流れ方向に気流に対面して間隔をあけて配置される、複数の貫通孔を有してなる複数の捕集部を備えてなる。 (もっと読む)


【課題】高圧電流が流れる導体の絶縁と、発生したオゾンの処理とを行うことができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】放電電極2と、この放電電極2と電源装置とを接続する導体3とを備え、放電電極2による放電により被処理物たるフィルムの表面を改質する。放電電極2をケース11に設け、このケース11にダクト21の一端を接続し、このダクト21内に導体3を配置し、ダクト21の他端に排気部24を設ける。導体3をダクト21内に配置することにより、外部との絶縁を図ることができ、また、コロナ放電により発生したオゾンを、ケース11に接続したダクト21の排気部24から排気し、オゾン触媒などにより処理をすることができる。 (もっと読む)


【課題】特別な前処理や後処理を施さずに効率よく、親水性の薄膜をプラスチック基板に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板Sの表面に薄膜を形成する方法であって、真空容器11の内部に形成された成膜プロセス領域20Aでチタンターゲット22a,22bのスパッタ物質を基板Sに付着させる工程(S4)と、真空容器11の内部に成膜プロセス領域20Aとは離間して形成された反応プロセス領域60Aで酸素ガスを基板Sに接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程(S5)とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入するとともに1kW以下のプラズマ処理電力を供給した状態で、酸素ガスを基板Sに接触させる。 (もっと読む)


【課題】流体の流量を制御するために静水圧と電気浸透流を併用する流量コントローラを提供する。
【解決手段】流量が静水圧と電気浸透流の双方に依存する推進流体を、(a)例えばクロマトグラフのような作動可能な装置における作動流体として直接に、あるいは(b)ストレージ容器625からの作動流体1203を作動可能な装置1301中に移送するために、あるいは(a)と(b)の双方のために、使用することができる。推進流体1204は一又は複数の流体から構成できる。推進流体1204の一部又は全てが、静水圧によって誘導される流量を増加又は減少させるように電気浸透装置100を流通させられる。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン含有ガスの処理装置において、高効率な処理とユーザニーズに沿った装置構造の実現を可能とするハロゲン含有ガスの処理装置を提供するものである。
【解決手段】ハロゲン系ガスを含有するハロゲン含有ガスを供給するハロゲン含有ガス供給手段から供給されるガス流に対して順次直列に接続された、ハロゲン含有ガスを分解したときに生成される副生成物を除去するための洗浄手段31、ハロゲン含有ガスからハロゲン系ガス以外のガスを分離し、上記ハロゲン系ガスを濃縮するためのガス分離設備321、上記ハロゲン系ガスが濃縮されたガスを分解するガス分解器36、およびガス分解器36で処理され、排出された処理ガスを洗浄手段31に戻す排気ガス循環手段352を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスの分解、改質及び合成を行うプラズマ素子を提供する。
【解決手段】二重管誘電体1の内管内側に処理対象ガスとキャリアガスを流通させ、内管と外管の間に流通させる導電性液体2を外部電極とし、内管内側に螺旋状に正回転する非導電性第1羽根部分3a、螺旋状に逆回転する非導電性第2羽根部分4aとを交互に配設し、羽根部の長手外周部に敷設した導電性連続コイルを内部電極5とし、処理対象ガスとキャリアガスが羽根部により剪断力を受けて分割及び合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合されると同時にプラズマ電源7により両電極間に高周波・高電圧を印加し放電プラズマを誘起させ、対象処理ガスのプラズマ反応と攪拌混合による酸化反応により、内管内側に流通するガスに分解、改質、及び合成処理を施す。 (もっと読む)


【課題】製造コストの高騰を招くことなく、処理対象体にコンタミが生じる事態を回避し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ放電用ガスGを供給するガス供給管30と、高周波信号Sを入力して放射する放射器14と、ガス供給管30および放射器14が内部空間に配設されたトーチ型の筐体11とを備え、ガス供給管30を介して筐体11内にプラズマ放電用ガスGを供給した状態において放射器14から高周波信号Sを放射して放射器14の近傍にプラズマPを発生させるプラズマ処理装置1であって、筐体11の内面とガス供給管30との間に放射器14が配設されると共に、高周波信号Sの放射によってガス供給管30内に発生させたプラズマPをガス供給管30の一端部から噴出させて処理対象体Zに照射可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】製造コストの低減を図りつつ、各種の径のプラズマを低コストで照射し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】高周波信号Sを入力して放射する放射器14と、放射器14が内部空間に配設されたトーチ型の筐体11と、筐体11内にプラズマ放電用ガスGを供給するガス供給部3と、放射器14が挿通されると共に筐体11の内面に取り外し可能に取り付けられた絶縁管30a〜30c(管状の絶縁体)とを備え、プラズマ放電用ガスGを供給した状態において放射器14から高周波信号Sを放射して放射器14の近傍に発生させたプラズマPを絶縁管30a〜30cの噴出口31a(一端部)から噴出させて処理対象体Zに照射可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】 誘電体表面に電荷を均一帯電させることにより均一なプラズマの生成を可能にすると共に、プラズマ放電開始電圧の低減を可能にするプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】 互いに均等な間隔を隔てて配置された対向配置された少なくとも一対の対向電極1,1’を備え、これら対向電極1,1’に高周波電力を印加することによって、対向電極1,1’間にプラズマを発生させるプラズマ発生電極であって、前記一対の対向電極1,1’の少なくとも一方の電極表面に一様な厚みに誘電体層2が設けられ、該誘電体層2中には、多数の導体小片7が、誘電体層2の表面の面方向に沿った方向に、当該導体小片サイズ程度の間隔を隔てて一様に分散されて埋設される。 (もっと読む)


【課題】駆動周波数を常に自動的に共振周波数近傍としながらオゾン生成量を効率良く調整できる放電セル放電回路を提供すること。
【解決手段】直流電力を供給する電力供給部(Uw)と、インバータ(Uj)と、トランス(Tr)と、トランス(Tr)の2次側の放電セル(Ds)と共振インダクタ(Lm)とを接続した閉ループからなり共振インダクタ(Lm)と寄生容量(Cm)とによって構成される共振部とを具備する。共振部の共振周波数とインバータ(Uj)の駆動周波数とを同調させるようにインバータ(Uj)の駆動周波数を制御する同調制御部(Us)と、電力供給部(Uw)の出力電力を調整可変して規定の出力電力になるように制御する電力制御回路(Uwc)とを具備し、同調制御部(Us)によるインバータ(Uj)の駆動周波数の制御と、電力制御回路(Uwc)による電力制御との2つの制御系によって放電セル(Ds)の放電を継続させる。 (もっと読む)


【課題】処理流体の圧力損失を低減でき、また、高効率で処理流体内の微粒子状不純物を取り除くことのできる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】 誘電性構造体1は、第1表面S1と第2表面S2との間に少なくとも1つの貫通孔3を有する誘電体と、誘電体における第1表面S1と第2表面S1との間に設けられ、少なくとも一部が貫通孔3の内周面に沿って位置する第1導電体4と、第2表面S2上に設けられ、外縁部が該第2表面S2上に位置するとともに少なくとも一部が貫通孔3の開口に沿って位置する第2導電体6とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極2と、中心電極2と所定の空隙部5を介して配置された筒状の周辺電極3とを有する放電容器1と、中心電極2表面若しくは周辺電極3表面の少なくとも一方に設けられた誘電体4と、放電容器1の一端側に設けられ、空隙部5に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器1の他端側に設けられ、空隙部5から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極2と周辺電極3との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】一方向に配列された複数の誘電体(3)と、該各誘電体(3)の内部に設けられた電極(6)とを有し、電極(6)間に電圧を印加することにより誘電体(3)間にプラズマを発生可能な誘電性構造体(1)であって、誘電体(3)の少なくとも1つにおいて、他の誘電体(3)に対向する表面および該表面と電極(6)との間の少なくとも一方に電極に沿って導電体(7)が設けられている。 (もっと読む)


【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電体基板2と、誘電体基板2の第1表面S1に設けられた第1電極4aと、誘電体基板2の内部若しくは誘電体基板2の第1表S1面に対向する第2表面S2に設けられた第2電極4bとを備える。この誘電性構造体1は、第1電極4aと第2電極4bとの間に電圧が生じると、第1電極4aの周囲にプラズマを発生可能である。そして、第1電極4aは、外周に沿って、第1表面に平行な方向に突出した複数の突出部Pを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安定したグロー放電環境下での高濃度の窒素官能基を付与することを可能とした粉体のプラズマ処理方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極2と、中心電極2と所定の空隙部5を介して配置された筒状の周辺電極3と、中心電極2表面若しくは周辺電極3表面の少なくとも一方に設けられた誘電体4とを有する放電容器1を用いた粉体のプラズマ処理方法であって、不活性気体雰囲気とされた空隙部5内で、粉体と、粉体に窒素官能基を付加する窒素官能基供給部材にグロー放電によるプラズマ処理を行なう工程を備える。 (もっと読む)


【課題】プラズマの放電状態を容易に制御することができる誘電性構造体を提供する。
【解決手段】誘電性構造体(1)は、一方向に配列された複数の誘電体(3)と、該各誘電体(3)の内部に設けられた複数の導体層(7)からなる電極(6)とを有する。そして、電極(6)間に電圧を印加することにより誘電体(3)間にプラズマを発生可能である。誘電体(3)の少なくとも1つにおいて、電極(6)は、貫通孔および欠け部の少なくとも一方(9)を有する第1導体層(7a)と、貫通孔および欠け部(9)の少なくとも一方に対応する位置に設けられ、第1導体層(7a)に電気的に接続される第2導体層(7b)とからなる。 (もっと読む)


【課題】運転の複雑化を伴うことなく、紫外線発生量を制御することが可能な紫外線発生装置を提供すること。
【解決手段】本発明の紫外線発生装置によれば、紫外線5を透過可能な放電管1と、放電管1の周囲に配置される電極対2と、電極対2に交流電圧またはパルス電圧を印加する電源3とを備え、電源3によって、電極対2に交流電圧またはパルス電圧を印加することにより、放電管1内部に放電を起こさせて紫外線5を発生させる紫外線発生装置であって、放電を検知すると放電状態であると判定する放電検知センサ7を備えている。 (もっと読む)


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