【課題】本発明は、メンテナンスを従来よりも一段と簡易に行い得る表面処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】このコロナ放電表面処理装置１では、放電部２０を表面処理部２から取り外すことなく、支持軸３１で支持させた状態のまま、例えば放電部２０内に付着した粉塵や、コロナ電極３の表面に付着した粉塵を簡単に除去でき、また当該放電部２０内に設けられたコロナ電極３を簡単に交換することができ、かくしてメンテナンスを従来よりも一段と簡易に行い得る。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体に直接水分を補給して、更なるガス処理能力の向上を図る。
【解決手段】ハニカム構造体４−１〜４−４を水分補給のための対象ハニカム構造体とし、ハニカム構造体４−１および４−４のガス流対向面４ｂに細管１４の給水口１４−１および１４−２を接して設け、ハニカム構造体４−２および４−３のガス流対向面４ｂに細管１５の給水口１５−１および１５−２を接して設け、毛細管現象又は送風ファンの負圧現象によりタンク１６，１７内の水分を細管１４，１５を通してハニカム構造体４−１〜４−４に直接補給する。 （もっと読む）

【課題】隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマを発生させ、全体のガス処理能力を更に高める。
【解決手段】ガス処理ユニットＧＵ１の第１の電極８−１と第２の電極９−１との間に、電極８−１をグランド電極、電極９−１を高圧電極として、高電圧電源５からの高電圧を印加する。また、ガス処理ユニットＧＵ２の第１の電極８−２と第２の電極９−２との間に、電極８−２を高圧電極、電極９−２をグランド電極として、高電圧電源５からの高電圧を印加する。これにより、対向する電極間に電位差が生じ、隣接するガス処理ユニット間の空間でもプラズマが発生して（エリアＡＲ１，ＡＲ２でもプラズマが発生する）、ガス処理が行われるようになる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ化学プラント中に発生する気液混合体のプラグフローは、収率の低下につながるので、気液分離が必要である。しかし、従来の知られている分岐管の内壁の濡性を変えたり、気液分離タンクを用いる方法では、気体のプラグフローを精度よく分離し排出することはできなかった。また、導電性の液体ばかりでなく、非導電性の液体でも気液分離が必要であった。
【解決手段】流路中の気体の存在を電気抵抗、静電容量（誘電率）の測定からいずれか１つでも変化した場合は気体が流れていると判断し、分岐路に配置された排気バルブを開く。 （もっと読む）

細くて長い管腔、可撓性もしくは剛性を有する誘電性の管、筒体、または別の中空体（以下では管と呼ぶ）内で、減圧、常圧、または過圧範囲内で物理的にプラズマを発生させる装置及び方法であって、これらの管の内壁またはプロセス媒体自体の洗浄、活性化、コーティング、修飾、及び生物学的浄化（殺菌、消毒、滅菌）のために、ガスもしくはガス混合物、１つもしくは複数の流体、気泡を含む流体、流体とガスの混合物、エアロゾル、及び／または泡（以下ではプロセス媒体と呼ぶ）で部分的にまたは完全に管を満たすか、またはそれらを管に流すことを特徴とする。この装置は、高圧供給機構と、プロセス媒体供給機構と、少なくとも１つの導電性接地電極と、少なくとも１つの導電性高圧電極とを含み、どちらの電極も管の壁内に埋め込まれている。 （もっと読む）

【課題】高温ガス、例えば水素及びテトラクロロシランとの接触に適した装置を提供する。
【解決手段】
反応器１００は、テトラクロロシランの水素化に用いることができる。反応器１００は、炭化ケイ素系の構成材料から調製される少なくとも１つの部品を有する。反応器１００は、加圧可能シェル１０１と、加圧可能シェル１０１に囲まれた断熱材１０２と、断熱材１０２に囲まれた加熱要素１０６と、加熱要素１０６に囲まれた反応室１０７とを含む。 （もっと読む）

【課題】使用電力及び使用液体の節約に十分な配慮をしつつ、電極と誘電体と気体と液体とを相互に適切な位置関係に配置することを可能とする放電装置を提供すること。
【解決手段】この放電装置ＤＡ１は、貯水部１００を形成する側壁１０１，１０２が誘電性を有する領域１０１ａ，１０２ａとして形成されている貯水槽１０と、誘電性を有する領域１０１ａ，１０２ａに当接して設けられ、交流電圧が印加可能なように構成されている電極２１，２２と、貯水部１００内に貯留される水Ｗの水位を調整することが可能であり、貯水部１００内に貯留される水Ｗの水位を、電極２１，２２の下端位置よりも上の下限水位ＬＬと、下限水位ＬＬよりも上であって電極２１，２２の上端よりも下に位置する上限水位ＵＬとの間に位置するように調整する。 （もっと読む）

【課題】 使用電力及び使用液体の節約に十分な配慮をしつつ、電極と誘電体と気体と液体とを相互に適切な位置関係に配置することを可能とする放電装置を提供すること。
【解決手段】 この放電装置ＤＡ１は、貯水部１００を形成する側壁１０１，１０２が誘電性を有する領域１０１ａ，１０２ａとして形成されている貯水槽１０と、誘電性を有する領域１０１ａ，１０２ａに当接して設けられ、交流電圧が印加可能なように構成されている電極２１，２２と、貯水部１００内に貯留される水Ｗの水位を調整することが可能であり、貯水部１００内に貯留される水Ｗの水位を、電極２１，２２の下端位置よりも上の下限水位と、下限水位よりも上であって電極２１，２２の上端よりも下に位置する上限水位ＵＬとの間に位置するように調整する。 （もっと読む）

【課題】電子放出可能電圧を低電圧化し、消費電力の低減と長時間動作の安定化と可能にする電子放出素子を提供する。
【解決手段】本発明の電子放出素子１では、電極基板２と薄膜電極３との間に設けられた電子加速層４が、導電微粒子８と、導電微粒子８の平均径よりも大きい平均径の絶縁体微粒子７と、結晶性電子輸送剤９とを含み、結晶性電子輸送剤９は、結晶化している。よって、電子放出素子１における電流路の形成が容易になり、従来の電子放出素子に比べて低電圧での電子放出が可能となる。 （もっと読む）

【課題】放電装置において、安定した放電を長時間行えるようにする。
【解決手段】放電装置は、第１電極（２１０）と、第１電極と対向するように離間して配置される第２電極（２２０）と、第１電極の少なくとも第２電極と対向する放電面を覆うと共に、放電面において第１電極を部分的に露出させる開口部（３１０）を有する絶縁体（３２０）と、第１電極及び第２電極間に電圧を印加する電圧印加手段（１００）とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の絶縁層が積層されてなる絶縁基板の内部に、形状および寸法のばらつきが抑制されて流路が形成された流路基板を提供する。
【解決手段】 第１のガラスセラミック焼結体からなる複数の第１の絶縁層１が積層されてなる絶縁基板の内部に、第１の絶縁層１の一部が厚み方向に除去されてなる貫通部の上下が他の前記第１の絶縁層で塞がれて形成された流路３を有する流路基板９であって、流路３を構成する第１の絶縁層１の流路３側の表面の全面に、第１のガラスセラミック焼結体が有する第１のガラス成分よりもガラス転移点が低い第２のガラス成分を有する第２のガラスセラミック焼結体からなる第２の絶縁層２が被着されていることを特徴とする流路基板９である。第２の絶縁層２が焼結する際に、未焼結の第１の絶縁層１によって収縮が抑制されるため形状および寸法のばらつきが抑制された寸法精度の高い流路を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】耐久性を向上させた排気浄化装置を提供する。
【解決手段】平板状の第１の導電体（３１ａ）と、第１の誘電体（３２ａ）及び第２の誘電体（３２ｂ）に挟持された平板状の第２の導電体（３１ｂ）と、が交互に積層されると共に、第１の導電体（３１ａ）と第１の誘電体（３２ａ）及び第２の誘電体（３２ｂ）と、の間に排気通路（３６）が形成され、第１の誘電体（３２ａ）及び第２の誘電体（３２ｂ）は、第１の導電体（３１ａ）と向かう面に、第１の導電体（３１ａ）との所定の距離を保って支持する半球形状の突起部（３４）を分散して配置し、第１の導電体（３１ａ）と第２の導電体（３１ｂ）との間に電流を印可することによって、前記排気通路にプラズマ場を生成する。 （もっと読む）

【課題】
安価かつ簡便な構成で、その維持、管理に時間、費用更には熟練を必要としない微粒子の操作装置であって、特別の熟練を要することなく、精度の高い微粒子の処理を可能とする装置を提供すること。
【解決の手段】
微粒子懸濁液を収容する収容部、一対の電極が配置された電極基板及び電極に接続された交流電源とから構成され、前記収容部の一部は絶縁体の材料で構成されるとともに前記懸濁液を前記各電極に接触可能とする貫通孔を有することを特徴とする、微粒子操作装置により、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】レシピ毎に空洞共振部の高さを適切なものとすることができるようにし、レシピ条件が変更された場合にも、均一に試料を処理することを可能とする。
【解決手段】処理室200内に配置され処理対象の試料が載せられる試料台210と、処理室200の上方に配置され前記処理室内にプラズマを形成するために供給される電界が透過する誘電体製の円板状部材204と、この円板状部材204の上方に配置され、前記電界を共振させるための円筒形状を有する空洞共振室203と、該空洞共振室203を囲んで、その天井面を構成する天面部材の中央の上部と連結され、その内部を前記電界が導かれる導波管202と、空洞共振室の高さを可変に調節する駆動機構208と、空洞共振室203の下方外縁に配置された前記空洞共振室内からの前記電界の漏れを抑制する手段213とを備えて構成される。 （もっと読む）

プラズマ発生装置は、電力を供給される第１の電極と、第１の電極の前に位置付けされた第２の電極構造を備える。絶縁層が、第１の電極と第２の電極構造の間にはさまれている。第２の電極構造は、ギャップ部分をその間に画定する複数の第２の電極部分を有する。ギャップ部分の幅はｗである。第２の電極部分各々は前表面を有し、さらにギャップ部分各々は前表面を有し、各第２の電極部分の前表面と隣接するギャップ部分の前表面との間の高差はｈであり、さらに、ｈは最大でも１ｍｍで、比ｗ／ｈは少なくとも１である。したがって、第２の電極部分の前表面とギャップ部分の前表面は一緒に滑らかなトポグラフィを形成する。本装置によって発生されたプラズマ（空気または他の酸素含有気体中の）は、オゾンを形成し、そのオゾンは、例えば食品を処理するために使用可能である。滑らかなトポグラフィによって、全てのプラズマが実質的に包装容器の内部に発生するようになり、その包装容器の壁は第２の電極構造の方へ押されている。
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【課題】発明は、ディスプレイ又は半導体の製造工程中に低圧工程チャンバで発生する汚染物質を除去するプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】本発明に係る汚染物質除去用プラズマ反応器２１０は、互いに距離をおいて位置する第１接地電極２１及び第２接地電極２２と、第１接地電極２１と第２接地電極２２との間に固定される誘電体３０と、第１接地電極２１及び第２接地電極２２と距離をおいて誘電体３０の外面に位置して交流電源部４０と連結し、これから駆動電圧の印加を受ける少なくとも１つの駆動電極５０とを備える。 （もっと読む）

本明細書には、微小化学反応を行う方法と、それらの反応を行うのに使用される誘電体上の電気湿潤装置（ＥＷＯＤ装置）とが開示されている。これらの装置および方法は、放射化学的化合物、特に^１８Ｆを含有する化合物を調製するのに特に適している。 （もっと読む）

【課題】薬液を用いることなくかつ２次廃棄物を生じることなく、プラズマ法により液体中の有機フッ素化合物を高速で分解することを課題とする。
【解決手段】難分解性有機物を含む液体中にガスをバブリングする気液２相流装置において、バブリングした気体内に放電プラズマを発生する高電圧電源１２を備えていることを特徴とする気液２相流プラズマ処理装置。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ短時間でガスの分解及び処理を実現可能とする新規な構成のガス浄化装置及びガス浄化方法、並びにこれに使用するプラズマ電極を提供する。
【解決手段】相対向する一対の第１の放電電極間に配置されてなる、ヒータ機能を有するとともに放電面上に触媒が形成されてなる第２の放電電極を、前記ヒータ機能を駆動させることによって所定の温度にまで加熱し、前記触媒を活性化させ、次いで、少なくとも前記一対の第１の放電電極間に電圧印加を行い、前記一対の第１の放電電極間及び前記一対の第１の放電電極と前記第２の放電電極との間に大気圧プラズマを生成する。次いで、前記一対の第１の放電電極間及び前記一対の第１の放電電極と前記第２の放電電極との間にガスを流し、前記ガスを前記大気圧プラズマ及び前記触媒によって分解し、浄化する。 （もっと読む）

【課題】電界集中を抑制し、安定して均一な気流を発生することができる気流発生装置、およびこの気流発生装置を備えた移動体を提供する
【解決手段】気流発生装置１０は、固体からなる第１の誘電体２０と、第１の誘電体２０の一方の表面に設けられた第１の電極３０と、第１の誘電体２０の他方の表面に、第１の電極３０に対設された第２の電極３１とを備えている。また、気流発生装置１０には、第１の電極３０の第２の電極３１側の端縁で、かつ第１の誘電体２０の一方の表面側に位置する第１の電極３０の端縁３０ａを覆うように、第１の電極３０の端縁３０ａに沿って、固体からなる第２の誘電体４０が設けられている。 （もっと読む）